[发明专利]研磨用组合物以及使用其的基板的制造方法

权利要求书

1.一种研磨用组合物，其特征在于，其在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用，所述研磨用组合物含有氧化硅磨粒和水，

所述研磨用组合物还含有表面吸附剂，所述研磨用组合物与在所述研磨用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨对象物的表面缺陷减少，

所述磨粒和所述表面吸附剂是以满足以下条件的方式选择的：

制备含有所述磨粒和所述表面吸附剂的第一悬浮液时，所述悬浮液中的表面吸附剂的15质量％以上吸附于所述悬浮液中的磨粒，所述第一悬浮液中，以与所述研磨用组合物中的磨粒含量相同的含量含有所述磨粒，且以与所述研磨用组合物中的表面吸附剂含量相同的含量含有所述表面吸附剂。

2.一种研磨用组合物，其特征在于，其在研磨由结晶性的金属化合物形成的研磨对象物的用途中使用，所述研磨用组合物含有磨粒和水，

所述研磨用组合物还含有表面吸附剂，所述研磨用组合物与在所述研磨用组合物中不包含表面吸附剂的情况相比，研磨对象物的表面缺陷减少，

所述表面吸附剂是以满足以下条件的方式选择的：

制备含有所述磨粒和所述表面吸附剂的第一悬浮液、以及含有由与构成所述研磨对象物相同的金属化合物形成的颗粒和所述表面吸附剂的第二悬浮液时，在所述第二悬浮液中吸附于金属化合物颗粒的表面吸附剂的量比在所述第一悬浮液中吸附于磨粒的表面吸附剂的量少，所述第一悬浮液中，以与所述研磨用组合物中的磨粒含量相同的含量含有所述磨粒，且以与所述研磨用组合物中的表面吸附剂含量相同的含量含有所述表面吸附剂，所述第二悬浮液中，以与所述研磨用组合物中的磨粒含量相同的含量含有由与构成所述研磨对象物相同的金属化合物形成的颗粒，且以与所述研磨用组合物中的表面吸附剂含量相同的含量含有所述表面吸附剂。

3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其特征在于，所述表面吸附剂为选自乙烯基系聚合物、聚环氧烷、以及聚环氧烷与烷基或亚烷基的共聚物中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的研磨用组合物，其特征在于，所述磨粒为选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化铈以及氧化钛中的至少一种。

5.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其特征在于，所述研磨对象物为由金属氧化物、金属氮化物或金属碳化物形成的单晶基板。

6.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其特征在于，所述研磨对象物为选自氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、碳化硅、氧化镓、氮化镓以及氧化锆中的至少一种。

7.一种研磨基板的制造方法，其特征在于，其包含使用权利要求1～6中任一项所述的研磨用组合物来研磨由结晶性的金属化合物形成的基板的工序。