[实用新型]硅基射频滤波电容排有效

专利信息
申请号: 201320486563.7 申请日: 2013-08-09
公开(公告)号: CN203445115U 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 王绍东;蒋赞勤;朴贞真;吴洪江 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 米文智
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 射频 滤波 电容
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及半导体器件领域。

背景技术

芯片电容广泛应用于混合集成电路、多芯片微波组件(MCM)、以及微波射频电路的封装测试中,主要用于射频信号的滤波、隔直等功能。目前主流的产品是基于高阶陶瓷材料的陶瓷芯片电容和硅基的MOS电容。

随着技术的发展,小型化、集成化成为射频微波组件发展方向。特别是随着机载、弹载、星载等应用领域,特别是相控阵体制的雷达接收和发射组件,对小型化的要求越来越高。小型化、集成化的发展主要体现在以下两个方面:(1)多芯片的集成,包托多个芯片(包括多功能芯片)的组装,通过将多个芯片集成在一个封装模块内实现小型化;(2)多通道的集成,及以前将多个独立的通道模块组合成整机模块,变成将多个通道集成在一起。这两个方面往往要同时满足。多芯片的集成要求器件以裸芯片的形式进行应用,适合于微组装工艺中的烧结、粘接、键合等工艺技术。多通道的集成,要在更小的空间内集成更多的元器件,而且在更小的空间内电磁辐射、干扰等问题更加严重,通道间的隔离问题更加突出,如果通道隔离问题解决不好就会使得系统指标下降甚至完全不能应用。微波多芯片组件中尤其是幅度、相位控制的数控移相器、数控衰减器芯片的应用中控制线往往很多、很密集,通常的互联线需要在PCB或陶瓷等上制作很密的线条,要求精度高,而且容易引入互扰,在多通道的组件中共用的控制线会造成控制通道间信号的泄露,影响整机的性能。

现有芯片电容技术中存在如下问题:

1)传统的芯片电容主要是分立的方式,在需要多个电容应用时要多个单独电容排列在一起,占用较大面积空间。

2)传统的微波电路中控制芯片与微波射频芯片的连接往往采用陶瓷Al2O3陶瓷基板或复合介质电路板,由于电介质常数低、不能做的电极的介质不能做的很薄,不能对微波辐射干扰进行很好的抑制。

实用新型内容

本实用新型提供了一种针对多芯片微波组件开发的硅基射频滤波电容排,本实用新型可作为微波电路与控制电路芯片的过渡元件,特别适合为多芯片微波组件中的幅相控制电路做滤波,可以明显降低射频信号引入的干扰,在多通道组件中能够提高通道的隔离度。

本实用新型采用的技术方案为:一种硅基射频滤波电容排,自下而上包括下电极、低阻硅衬底、薄膜介质和上电极;所述上电极由一系列独立的电极条组成,所述电极条呈条状并列纵贯于薄膜介质上,所述电极条的端口A和端口B分别位于薄膜介质相对的两端。

所述电极条呈直线状或折线状。

各电极条的端口A等距并行排列,端口B也为等距并行排列。

所述端口A之间的距离为:0.15mm,端口B之间的距离为:0.25mm。

所述上电极的四周与薄膜介质的四周边缘之间保留有至少0.02mm的区域。

所述低阻硅衬底的电阻率为0.0011-0.0013Ω                                                cm3,或0.002-0.003Ωcm3,介电常数为11.7。

所述薄膜介质为双层介质层。

采用上述技术方案取得的技术进步为:本实用新型在硅基上集成电极条,电极条的端口与常用的数控衰减器、数控移相器、驱动器芯片的控制端子相对应,可以作为微波电路与控制电路芯片的过渡元件,特别适合为多芯片微波组件中的幅相控制电路做滤波,并很好实现滤波性能;本发明从S波段到毫米波段都有很好的射频滤波性能,用一级电容排能够增加射频抑制25dB以上;本实用新型还可以明显降低射频信号引入的干扰,在多通道组件中能够提高通道的隔离度。

附图说明

图1为本发明实施例1结构的主视图;

图2为图1的仰视图;

图3为实施例2的主视图;

图4为实施例2的应用连接图;

其中,1、薄膜介质,2、电极条,3、低阻硅衬底,4、下电极,C、微波控制芯片,D、驱动控制芯片。

具体实施方式

实施例1

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十三研究所,未经中国电子科技集团公司第十三研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320486563.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top