[发明专利]金属互连线电容结构无效
| 申请号： | 201310264720.4 | 申请日： | 2013-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN103325766A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 赵芳芳;王伟;陈展飞 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/522 | 分类号： | H01L23/522 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 互连 电容 结构 | ||
1.一种金属互连线电容结构，包括：
多个电容单元，所述电容单元包括多层金属互连层，以及连接相邻金属互连层之间的多个金属连接线，每一所述金属连接线均连接多层所述金属互连层；所述金属互连层之间形成有介质层；所述金属互连层能够由所述介质层隔离，组成电容；
多个电容单元连线，将所述电容单元连接在一起。
2.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述金属互连层中设有多个金属线。
3.如权利要求2所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述金属线长度范围是3μm～13μm，宽度范围是0.05μm～0.13μm。
4.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述电容单元的长度范围是3μm～15μm，宽度范围是0.05μm～0.15μm。
5.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述金属互连层分为两组，分别作为电容的两个极板。
6.如权利要求5所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述金属连接线为两根。
7.如权利要求6所述的金属互连线电容结构，其特征在于，一根所述金属连接线连接其中一个极板，另一根所述金属连接线连接另一个极板。
8.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述电容单元之间的横向间距范围是0.1μm～0.3μm，纵向间距范围是0.1μm～0.3μm。
9.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述电容单元的电容值范围是1pF～5pF。
10.如权利要求1所述的金属互连线电容结构，其特征在于，所述金属互连线电容结构还包括两根电容值测试线，所述电容值测试线分别与所述电容单元的两个电极板连接，用于检测电容值。
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