[发明专利]Li4Sr(BO3)2化合物、Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体及其制法和用途有效

专利信息
申请号: 201310247500.0 申请日: 2013-06-20
公开(公告)号: CN104233468B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 张国春;罗军华;夏明军;赵三根;吴以成 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所;中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B9/12;G02F1/355
代理公司: 北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙)11417 代理人: 刘元霞
地址: 100190*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: li sub sr bo 化合物 非线性 光学 晶体 及其 制法 用途
【权利要求书】:

1.一种分子式为Li4Sr(BO3)2的非线性光学晶体。

2.一种权利要求1所述Li4Sr(BO3)2的非线性光学晶体,其特征在于,该晶体不含对称中心,属于单斜晶系Cc空间群,晶胞参数为β=105.22(1)°,Z=4。

3.一种制备权利要求1或2中的Li4Sr(BO3)2的非线性光学晶体的方法,其特征在于,采用助熔剂法生长Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体,所述助熔剂选自Li2O、Li2O-B2O3或Li2O-B2O3-LiF。

4.根据权利要求3的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

将Li2O、SrO、B2O3以摩尔比4–8:1:1–3,其相当于摩尔比Li4Sr(BO3)2:Li2O:B2O3=1:2–6:0–2,或Li2O、SrO、B2O3、LiF以摩尔比4–8:1:1–3:1–3,其相当于摩尔比Li4Sr(BO3)2:Li2O:B2O3:LiF=1:2–6:0–2:1–3,混合并研磨均匀后并融化,在高温熔体表面或熔体中生长晶体。

5.根据权利要求4的方法,其特征在于,

Li2O、SrO、B2O3以摩尔比4–7:1:1–2;或Li2O、SrO、B2O3、LiF以摩尔比为4–6:1:1–2:1–2。

6.根据权利要求3-5任一项的方法,其特征在于,

所述Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体生长晶体的条件为,降温速率:0.1℃~5℃/天;转速:0~50转/分;旋转方向:单向旋转或双向旋转。

7.根据权利要求6的方法,其特征在于,

降温速率:0.2~1℃/天;转速:10~40转/分;旋转方向:可逆双向旋转。

8.根据权利要求6的方法,其特征在于,

待晶体生长到所需尺度后,提升籽晶杆,使晶体脱离液面,以不大于100℃/小时的速率降温至室温,即得Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体。

9.根据权利要求8的方法,其特征在于,

待晶体生长到所需尺度后,提升籽晶杆,使晶体脱离液面,以小于50℃/小时的速率降温至室温,即可得Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体。

10.根据权利要求3-5任一项的方法,其特征在于,

降温速率:0.2~1℃/天;转速:10~40转/分;

待晶体生长到所需尺度后,提升籽晶杆,使晶体脱离液面,以小于50℃/小时的速率降温至室温,即可得Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体。

11.根据权利要求3-5任一项的方法,其特征在于,所述方法还包括对Li4Sr(BO3)2非线性光学晶体的后处理:晶体生长结束后,仍将晶体留在生长炉中进行退火,以不大于100℃/小时的速率降至室温。

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