[发明专利]基板清洗装置以及清洗方法

权利要求书

1.一种基板清洗装置，其特征在于，具有：

清洗槽，其将由密封构件对表面外周部进行密封并保持基板的基板架铅直地配置在内部；

多个清洗喷嘴，其被配置在所述清洗槽内部的与被配置在该清洗槽内的所述基板架相对的位置，向着所述基板架喷射清洗水，

所述多个清洗喷嘴被配置为：在其射流冲到在基板的上半部的区域中的、表面外周部的与密封构件的接触部及其附近的位置，并与该接触部呈同心圆状。

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

当将与基板的中心相应的位置定为原点并将水平和铅直地延伸的轴定为X轴和Y轴时，所述多个清洗喷嘴设置在X轴和Y轴上，以及相对该Y轴左右对称的、且相互相邻的各清洗喷嘴与所述原点分别连接的线所成的角随着远离Y轴而逐渐增大的位置上。

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

还具有多个清洗喷嘴，所述多个清洗喷嘴被配置为：在其射流冲到基板的下侧的区域中的、基板的表面外周部的与密封构件的接触部及其附近的位置，且与该接触部呈同心圆状。

4.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

所述清洗喷嘴为其射流沿着基板的表面外周部的与密封构件的接触部在横向上呈直线状地扩散的扇形喷嘴。

5.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，

还具有夹具清洗喷嘴，所述夹具清洗喷嘴被配置为：在其射流冲到对基板架的保持构件间进行密封的密封构件及其附近的位置，且与该密封构件呈同心圆状。

6.一种基板清洗方法，其特征在于，

将由密封构件对表面外周部进行密封并保持基板的基板架浸泡到清洗槽内的清洗水中，

排掉所述清洗槽内的清洗水，

一边从清洗喷嘴向着基板喷射清洗水，以使射流冲到表面外周部的与密封构件的接触部及其附近，一边从所述清洗槽排掉从该清洗喷嘴喷射出的清洗水，

通过所述清洗喷嘴向所述清洗槽的内部供给清洗水，将所述基板架浸泡到清洗水中，

从所述清洗槽提起所述基板架。

7.一种基板清洗方法，其特征在于，

在清洗槽内配置由密封构件对表面外周部进行密封并保持基板的基板架，

一边从清洗喷嘴向着基板喷射清洗水，以使射流冲到表面外周部的与密封构件的接触部及其附近，一边从所述清洗槽排掉从该清洗喷嘴喷射出的清洗水，

通过所述清洗喷嘴向所述清洗槽的内部供给清洗水，并将所述基板架浸泡到清洗水中，

排掉所述清洗槽内的清洗水，

一边从所述清洗喷嘴向着基板喷射清洗水，以使射流冲到表面外周部的与密封构件的接触部以及其附近，一边从所述清洗槽排掉从该清洗喷嘴喷射出的清洗水，

从所述清洗槽提起所述基板架。

8.根据权利要求6或7所述的基板清洗方法，其特征在于，

向着基板喷射清洗水，以使射流冲到表面外周部的与密封构件的接触部及其附近，同时向着所述基板架喷射清洗水，以使射流冲到对所述基板架的保持构件间进行密封的密封构件及其附近。