[实用新型]一种射频组合装置以及等离子体处理设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制程设备，尤其是对于基板实施等离子体处理的等离子体处理设备，具体地，涉及一种用于等离子体处理设备中的射频组合装置。

背景技术

在半导体设备的制造过程中，例如蚀刻、沉积、氧化、溅射等处理过程中，通常会利用等离子体对基板(半导体晶片、玻璃基板等)进行处理。一般地，对于等离子体处理装置来说，作为生成等离子体的方式，大体上可分为利用电晕(glow)放电或者高频放电，和利用微波等方式。

在高频放电方式的等离子体处理装置中，等离子体处理装置的反应腔通常配置上部电极和下部电极，优选地这两个电极平行设置。而且，通常在下部电极之上载置被处理基板，经由整合器将等离子体生成用的高频电源施加于上部电极或者下部电极。通过由该高频电源所生成的高频电场来使电子加速，因电子与处理气体的冲击电离而发生射频等离子体。

在现有工艺中，等离子体处理装置包括一个使反应气体进行混合后对被处理基板处理加工的反应腔，反应室腔的下方一般都会连接有一个射频滤波盒，而射频滤波盒的六个面中有5个面存在非常局限的空间，其分别为：上表面通过一个托盘连接反应腔、下表面为接地的框架、左侧面设有电器盒、右侧面设有真空管路、背面设有门阀和真空泵，此时其正面也被一个用于阻抗匹配的射频匹配盒占据的情况下，就使得射频滤波盒的更换、维修极为不便。

本实用新型希望提供一种射频组合装置，使与射频滤波盒相连接的射频匹配盒拆离后能够针对射频滤波盒进行更换以及维修，从而解决这一问题。

实用新型内容

针对现有技术中的缺陷，本实用新型的目的是提供一种射频组合装置以及等离子体处理设备。

根据本实用新型的一个方面，提供一种射频组合装置，被优选地置于一气体反应腔下，所述射频组合装置包括：射频滤波盒，用于滤波保护，所述射频滤波盒的上表面固接一个托盘，所述托盘与所述气体反应腔相连接，使所述射频滤波器固定于所述气体反应腔的下方；以及射频匹配盒，用于阻抗匹配，所述射频匹配盒的背面与所述射频滤波盒的正面相贴合，且所述射频匹配盒与所述射频滤波盒可拆卸地连接；其特征在于，所述射频滤波盒的正面包括一开口，在所述射频匹配盒与所述射频滤波盒相贴合时所述射频匹配盒的背面覆盖住所述开口。

优选地，所述开口为矩形、正方形或圆形中的任一种。

优选地，所述开口的面积大于所述射频滤波盒正面面积的四分之三。

优选地，所述开口位于所述射频滤波盒正面的底部。

优选地，所述开口位于所述射频滤波盒正面的中部。

优选地，所述射频匹配盒的背面与所述射频滤波盒的正面之间通过一个或多个螺丝连接。

优选地，所述射频匹配盒的背面设置有一插拔式插口，所述射频滤波盒的正面与所述插拔式插口相对应的位置设置有一与插拔式插口相匹配的插拔式插头，所述插拔式插头插入所述插拔式插口中，从而连接所述射频匹配盒与所述射频滤波盒。

优选地，所述托盘与所述气体反应腔的底部通过一个或多个螺丝连接。

根据本实用新型的另一个方面，还提供一种等离子体处理设备，其包括：气体反应腔，用以对被处理基板进行蚀刻，其特征在于，还包括连接于所述气体反应腔下方的所述的射频组合装置。

优选地，所述射频滤波盒的上表面固接一托盘，所述托盘与所述气体反应腔通过一个或多个螺丝连接。

本实用新型通过提供一种射频组合装置以及等离子体处理设备。其在射频滤波盒的正面设置一开口，从而解决了原本射频滤波盒维修不便的问题，使与射频滤波盒相连接的射频匹配盒拆离后便能够针对射频滤波盒进行更换以及维修。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1示出根据本实用新型的第一实施例的所述射频组合装置的整体结构图；

图2示出根据本实用新型的第二实施例的所述射频组合装置拆分后的结构图；

图3示出根据本实用新型的第二实施例的所述射频组合装置拆分后的结构图；以及

图4示出根据根据本实用新型的第三实施例的，所述射频滤波盒1的正面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详细说明。