[实用新型]一种射频组合装置以及等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201220241914.3 | 申请日： | 2012-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN202601554U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 陈妙娟;徐朝阳;张亦涛;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 吴世华;冯志云 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 射频 组合 装置 以及 等离子体 处理 设备 | ||
1.一种射频组合装置，其置于一气体反应腔下，所述射频组合装置包括：
射频滤波盒，用于滤波保护，所述射频滤波盒的上表面固接一个托盘，所述托盘与所述气体反应腔相连接，使所述射频滤波器固定于所述气体反应腔的下方；以及
射频匹配盒，用于阻抗匹配，所述射频匹配盒的背面与所述射频滤波盒的正面相贴合，且所述射频匹配盒与所述射频滤波盒可拆卸地连接；
其特征在于，所述射频滤波盒的正面包括一开口，在所述射频匹配盒与所述射频滤波盒相贴合时所述射频匹配盒的背面覆盖住所述开口。
2.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述开口为如下形状中的任一种：
矩形；
正方形；以及
圆形。
3.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述开口的面积大于所述射频滤波盒正面面积的四分之三。
4.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述开口位于所述射频滤波盒正面的底部。
5.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述开口位于所述射频滤波盒正面的中部。
6.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述射频匹配盒的背面与所述射频滤波盒的正面之间通过一个或多个螺丝连接。
7.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述射频匹配盒的背面设置有一插拔式插口，所述射频滤波盒的正面与所述插拔式插口相对应的位置设置有一与插拔式插口相匹配的插拔式插头，所述插拔式插头插入所述插拔式插口中，从而连接所述射频匹配盒与所述射频滤波盒。
8.根据权利要求1所述的射频组合装置，其特征在于，所述托盘与所述气体反应腔的底部通过一个或多个螺丝连接。
9.一种等离子体处理设备，其包括：
气体反应腔，用以对被处理基板进行蚀刻，
其特征在于，还包括连接于所述气体反应腔下方的根据权利要求1至8中任一项所述的射频组合装置。
10.根据权利要求9所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述射频滤波盒的上表面固接一托盘，所述托盘与所述气体反应腔通过一个或多个螺丝连接。
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