[实用新型]用于化学气相沉积工艺的喷淋头有效

专利信息
申请号: 201220027841.8 申请日: 2012-01-21
公开(公告)号: CN202450156U 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 梁秉文;陈勇;叶芷飞 申请(专利权)人: 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 314300 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 用于 化学 沉积 工艺 喷淋
【权利要求书】:

1.一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头,其特征在于,包括:

金属主体层,在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度;

外表面层,位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面,所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。

2.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述金属主体层中具有冷却介质流动,该冷却介质用于对所述金属主体层进行冷却,使得所述金属主体层的温度低于200摄氏度。

3.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层上设置有温控装置,用于控制外表面层的温度,使得所述外表面层的靠近衬底一侧的温度范围为300~800摄氏度。

4.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的厚度范围为10微米到5毫米。

5.如权利要1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层通过机械方式与所述金属主体层结合,使得所述外表面层可以从所述金属主体层上移除。

6.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的靠近衬底一侧的表面为粗糙表面。

7.如权利要求7所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的靠近衬底一侧的表面的粗糙度范围为200纳米~100微米。

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