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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]用于外延沉积III-V材料层的反应腔-CN201320347098.9有效
发明人：李王俊;叶芷飞 -专利权人：光垒光电科技（上海）有限公司
申请日： 2013-06-17 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制作技术设备，是一种用于外延沉积III-V材料层的反应腔，所述反应腔包括：腔体；设置于所述腔体底部的加热器；位于所述加热器上方的衬底托盘；以及设置于所述腔体顶部，并与所述衬底托盘相对设置的喷淋头，所述喷淋头与所述衬底托盘之间限定为反应区，所述喷淋头用于往所述反应区喷射反应气体；所述喷淋头包括III族源扩散腔、V族源扩散腔和油冷却腔，所述III族源扩散腔和所述V族源扩散腔设置在所述油冷却腔背离所述加热器的一侧。本实用新型能扩大沉积气源的输出温度范围内调整，可避免沉积气源在喷淋头出气面上形成疏松沉积物而容易脱落污染衬底，能适应现有工艺要求。
用于外延沉积 iii 材料反应

[发明专利]喷淋头以及气相沉积设备-CN201310211810.7无效
发明人： 叶芷飞 -专利权人：光垒光电科技（上海）有限公司
申请日： 2013-05-30 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种喷淋头以及气相沉积设备。所述喷淋头包括：喷淋头体，所述喷淋头体具有多个气体腔和冷却腔；其中，所述冷却腔位于所述气体腔下方，所述每个气体腔皆具有多个气体管道贯穿所述冷却腔和所述喷淋头体的下表面；所述喷淋头还包括设置在喷淋头体下方的热壁板；从而使得喷淋头表面的温度不至于过低；通过设置与喷淋头主体间隔设置的热壁板，能够吸收由加热器产生的热量，且减少所述喷淋头冷却腔对热壁板的冷却，使得热壁板的下表面温度升高至大于等于350℃，使得在下表面沉积的材料层致密不易掉落，从而减少污染，此外，气体腔的气体管道贯穿冷却腔，能够保证气体在到达反应腔室之前处于较为稳定的状态，不易发生预反应。
喷淋以及沉积设备

[发明专利]喷淋头的清洗方法-CN201210019422.4无效
发明人： 叶芷飞 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-01-21 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种喷淋头的清洗方法，所述方法在反应腔室的外部对喷淋头进行非原位(non-in-situ clean)清洗，所述方法不需要人手接触喷淋头表面，提高了MOCVD设备的产能，改善了清洗的效果。
喷淋清洗方法

[发明专利]用于气相沉积工艺的反应腔室-CN201210330818.0无效
发明人：孙仁君;左然;何晓崐;叶芷飞;谭华强;田益西 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-09-07 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明实施例解决的技术问题是提供一种用于气相沉积工艺的反应腔室，包括：托盘，其上表面用于放置衬底；腔室侧壁，环绕所述托盘一周，还包括：构件，至少有一部分环绕所述托盘的边缘，所述构件用于改进托盘的边缘的气流场、温度场或浓度场的均匀性。本发明实施例提高了反应腔室中的托盘上尤其是托盘边缘处的气流场、温度场或浓度场的均匀性，提高了衬底上形成的外延材料层的均匀性。
用于沉积工艺反应

[发明专利]气体系统-CN201110409679.6无效
发明人： 叶芷飞;梁秉文 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2011-12-09 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C30B25/16 文献下载
摘要：本发明实施例提了一种气体系统，包括：设置有第一气体控制单元的第一气体管路，所述第一气体控制单元用于控制所述第一气体管路上的气体流量或气体压力；设置有第二气体控制单元的第二气体管路，所述第二气体控制单元用于控制所述第二气体管路上的气体压力；气体压力平衡控制单元，跨接于所述第一气体管路和第二气体管路之间，用于产生压力控制信号，该压力控制信号作为第二气体控制单元的输入信号，使得所述第二气体管路与所述第一气体管路的气体压力保持平衡，从而使得第一气体管路和第二气体管路的气体压力基本不会波动，使得反应腔室的源气体的浓度以及质量的稳定，提高了外延工艺的稳定性和重复性，改善了形成的外延材料层的质量。
气体系统

[发明专利]用于化学气相沉积工艺的喷淋头-CN201210019415.4无效
发明人：梁秉文;陈勇;叶芷飞 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-01-21 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在衬底上进行化学气相沉积工艺的喷淋头，包括：金属主体层，在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度；外表面层，位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面，所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。本发明提高了化学气相沉积工艺形成的外延材料层的质量，也提高了化学气相沉积设备的产能和效率。
用于化学沉积工艺喷淋

[发明专利]喷淋头清洗装置-CN201110305184.9无效
发明人： 叶芷飞;梁秉文 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2011-10-10 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种喷淋头清洗装置，用于对喷淋头的表面进行清洗，包括：清洗刷，具有刷毛；清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。本发明实施例解决了喷淋头的表面无法清洗的问题，避免喷淋头表面的污染物对下一次沉积工艺的影响。
喷淋清洗装置

[实用新型]用于气相沉积工艺的反应腔室-CN201220455725.6有效
发明人：孙仁君;左然;何晓崐;叶芷飞;谭华强;田益西 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-09-07 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型实施例解决的技术问题是提供一种用于气相沉积工艺的反应腔室，包括：托盘，其上表面用于放置衬底；腔室侧壁，环绕所述托盘一周，还包括：构件，至少有一部分环绕所述托盘的边缘一周，所述构件用于改进托盘的边缘的气流场、温度场或浓度场的均匀性。本实用新型实施例提高了反应腔室中的托盘上尤其是托盘边缘处的气流场、温度场或浓度场的均匀性，提高了衬底上形成的外延材料层的均匀性。
用于沉积工艺反应

[实用新型]用于化学气相沉积工艺的喷淋头-CN201220027841.8有效
发明人：梁秉文;陈勇;叶芷飞 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2012-01-21 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于在衬底上进行化学气相沉积工艺的喷淋头，包括：金属主体层，在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度；外表面层，位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面，所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。本实用新型提高了化学气相沉积工艺形成的外延材料层的质量，也提高了化学气相沉积设备的产能和效率。
用于化学沉积工艺喷淋

[实用新型]喷淋头清洗装置-CN201120383309.5有效
发明人： 叶芷飞;梁秉文 -专利权人：光达光电设备科技（嘉兴）有限公司
申请日： 2011-10-10 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供一种喷淋头清洗装置，用于对喷淋头的表面进行清洗，包括：清洗刷，具有刷毛；清洗刷机械手，用于夹持和移动清洗刷，使得所述清洗刷和/或刷毛能够与喷淋头的表面进行相对运动，利用该相对运动清洗喷淋头的表面；吸附装置，用于吸附清洗过程中的污染物。本实用新型实施例解决了喷淋头的表面无法清洗的问题，避免喷淋头表面的污染物对下一次沉积工艺的影响。
喷淋清洗装置

[实用新型]一种载重调整定位装置-CN201020647755.8有效
发明人： 叶芷飞;杨华新 -专利权人：理想能源设备有限公司
申请日： 2010-11-24 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： B23P19/00 文献下载
摘要：一种载重调整定位装置，包含底板、固定设置在所述底板上的至少一组推移结构，以及放置在所述底板上的移动承载装置；所述移动承载装置能够在所述推移结构的推动下，在所述底板上水平移动。本实用新型的载重调整定位装置在装配大型设备时，待装配设备被固定在移动承载装置上，固定在底板上的推移结构推动移动承载装置在底板上水平移动而带动待装配设备水平调整定位；无需另外设置推移结构的固定点，降低了对装配场所的条件要求，方便了大型设备安装。
一种载重调整定位装置

[实用新型]管道连接器和应用所述管道连接器的化学气相沉积设备-CN201020658125.0有效
发明人： 叶芷飞;张昭 -专利权人：理想能源设备有限公司
申请日： 2010-11-29 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： F16L23/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种管道连接器，其用于密封连接化学气相沉积设备中的反应腔和真空管道，所述管道连接器包含：与反应腔的排气口固定连接的第一法兰；与真空管道的一端连接的第二法兰；以及限定所述第一法兰和第二法兰之间距离的连接部件；所述管道连接器还包含：第三法兰，所述第三法兰设置于所述第一法兰和所述第二法兰之间；所述第三法兰与所述第一法兰之间形成有滑动密封连接，所述第三法兰与所述第二法兰之间形成有球面密封连接。本实用新型还公开了一种应用所述管道连接器的化学气相沉积设备。在化学气相沉积过程中，本实用新型能有效保证化学气相沉积设备中反应腔和真空管道之间的连接密封性能，从而保证化学气相沉积的效果。
管道连接器应用化学沉积设备

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