专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]监控装置、监控方法及气相沉积设备-CN201310002986.1无效
  • 乔徽;宁海涛 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-01-05 - 2014-07-09 - C23C16/52
  • 本发明公开一种监控装置、监控方法及气相沉积设备,该监控装置监控气相沉积设备中的加热单元或被加热单元的温度,该监控装置包括:温度探测单元,用于获得监控区域的探测温度;温度比较单元,用于比较任意两个监控区域的探测温度得到温度差值,并将温度差值与预设的安全温度值比较得到比较结果;报警单元,用于根据温度差值与安全温度值得到的比较结果,判断是否发出报警信号。当该监控装置监控到加热单元或被加热单元的各个监控区域的温差大于等于预设的安全温度时,第一时间发出报警信号通知使用者加热单元处于异常状态,以便使用者及时对加热单元进行维护,确保气相沉积设备的正常工作,减少产品的报废,提高了产品的良率。
  • 监控装置方法沉积设备
  • [发明专利]化学气相沉积设备的控制系统-CN201210591240.4无效
  • 张义明;陈力兵;祝龙飞;房伟 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-31 - 2014-07-09 - C23C16/52
  • 本发明公开一种化学气相沉积设备的控制系统,用于控制化学气相沉积设备进行沉积工艺,所述控制系统包括可编程控制器处理模块及若干个可编程控制器控制模块,所述若干个可编程控制器控制模块和所述可编程控制器处理模块通过多段网络连接线串联连接形成环形网络,使得每个所述可编程控制器控制模块通过双向的网络线路与所述可编程控制器处理模块进行通讯联系。根据本发明的控制系统,即使任意一个可编程控制器控制模块一端的网络连接线发生故障使得该可编程控制器控制模块与可编程控制器处理模块失去通讯联系,也可通过该可编程控制器控制模块另一端的网络连接线与可编程控制器处理模块进行通讯联系,提高了整个化学气相沉积设备的控制系统的可靠性。
  • 化学沉积设备控制系统
  • [发明专利]一种金属有机化学气相沉积设备-CN201210591384.X无效
  • 张义明;陈力兵;祝龙飞;房伟 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-31 - 2014-07-09 - C23C16/44
  • 本发明提供一种金属有机化学气相沉淀设备,包括腔体、设置有喷淋头的腔盖、带动所述腔盖开合的位移机构,和驱动所述位移机构工作的电动机系统,所述电动机系统包括电动机和用于驱动电动机工作的电源,其特征在于,还包括连接于所述电动机与电源之间的电源控制模块,所述电源控制模块包括限流器,所述限流器用于限制输出到所述电动机的实际电流不高于一设定值。本发明还提供一种电动机系统。本发明在电路中增加低成本的调压限流电源控制模块,使得电动机转速可调并且实际电流可限制在电动机额定电流的任何范围内,有效限制了电动机转矩,可靠保护了位移机构并保证喷淋头不会损坏。
  • 一种金属有机化学沉积设备
  • [发明专利]一种LED外延结构的生长方法及其设备-CN201210574784.X无效
  • 林翔 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-26 - 2014-07-02 - H01L33/00
  • 本发明涉及LED制备技术领域,这种LED外延结构的生长方法包括步骤Ⅰ:在第一反应腔中,在生长有第一半导体层的基底上生长量子阱层;然后在所述量子阱层上生长用于防止所述量子阱层受污染的隔离层。步骤Ⅱ:将所述生长有隔离层的基底通过转移通道转移到第二反应腔中,刻蚀隔离层后生长第二半导体层。本发明还提供这种外延结构生长设备,包括样品台以及用于所述样品台从一反应腔转移至另一反应腔的转移通道,所述转移通道充有保护气体,且控制所述保护气体压强不高于所述任一反应腔内的压强。本发明能提高量子阱层的稳定性能,大大加强LED的产品质量。
  • 一种led外延结构生长方法及其设备
  • [发明专利]一种化学气相沉积设备及其托盘-CN201210574758.7无效
  • 苏育家;左然;黄颖泉;黄允文 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-26 - 2014-07-02 - C23C16/458
  • 本发明涉及外延制作材料技术,尤其是一种化学气相沉积设备的托盘,所述托盘包括衬底承载面和多个限位件,所述多个限位件相互间隔设置于所述衬底承载面上,所述多个限位件用于限定多个衬底在所述承载面上的位置,所述限位件在平行所述衬底承载面的平面的第一截面上呈多边形或呈具有向内弯曲的边的多边形,所述多边形的角为圆角。本发明还提供具有这种托盘的化学气相沉积设备。本发明对托盘限位件的结构进行改进,比现有技术的限位件更经久耐用,避免因碰撞而破损所导致限位件材料溢出污染衬底,且限位件活动插接于托盘上,使用更方便。
  • 一种化学沉积设备及其托盘
  • [发明专利]一种衬底支承座-CN201210574071.3无效
  • 陈勇 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-26 - 2014-07-02 - C23C16/458
  • 本发明涉及化学气相沉积技术领域,尤其是一种衬底支承座,包括相对设置的衬底支撑盘和加热装置,所述衬底支撑盘用于支撑待处理衬底;所述加热装置包括设有加热面的底盘以及多根两端连接有接线柱的电热丝,所述加热面面向所述衬底支撑盘,其特征在于,所述电热丝布设于所述底盘的加热面上;所述接线柱布设于所述加热面周围。本发明通过改变电热丝的布设方式,能保证底盘的加热面均匀布设有电热丝,避免局部温度过低,导致底盘加热不均匀的缺陷。
  • 一种衬底支承
  • [实用新型]喷淋头-CN201320670767.6有效
  • 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-10-28 - 2014-06-18 - C23C16/455
  • 本实用新型公开了一种喷淋头。所述喷淋头包括第一气体腔室和多个第二气体腔室,所述第一气体腔室位于所述第二气体腔室上方,所述喷淋头由堆叠的结构化板通过连接固定件连接形成;所述堆叠的结构化板包括自上而下堆叠设置的第一结构化板和第二结构化板;所述第一结构化板和第二结构化板之间形成所述多个第二气体腔室,所述第一结构化板中具有多个第一气体通道,所述第二结构化板中具有多个间隔设置第二气体通道和第三气体通道,所述第一气体通道和第二气体通道相连通并共同连通所述第一气体腔室与反应区域,所述第三气体通道连通所述第二气体腔室与反应区域。因此,避免了焊接形成的气体腔室及气体通道对反应气体的影响。
  • 喷淋
  • [发明专利]化学气相沉积设备及其用于该设备的承载机构-CN201210519944.0无效
  • 陈勇;乔徽;梁秉文;黄颖泉 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-12-06 - 2014-06-11 - C23C16/44
  • 本发明公开了一种化学气相沉积设备,其包括腔体,相对设置的进气装置和承载机构分别置于腔体的顶部和底部,共同限定反应区域,该承载机构包括若干支撑待处理衬底的衬底支撑盘及分别置于每个衬底支撑盘下面的若干加热器,各个加热器对应加热各个衬底支撑盘;该承载机构还包括衬板,其开设有与衬底支撑盘数量相对应的开孔,衬底支撑盘对应套设于开孔中;该承载机构还包括底座及连接于底座下面的底座转轴,加热器置于通过支撑轴连接于底座上的衬底支撑盘和底座之间。本发明通过将大的衬底支撑盘分解为多个小的衬底支撑盘,受热均匀性更优,进而使得衬底受热更均匀,提高了外延芯片的良率。本发明还公开了一种用于化学气相沉积设备的承载机构。
  • 化学沉积设备及其用于承载机构
  • [发明专利]LED外延片反应腔-CN201210465057.X无效
  • 陈勇;梁秉文;乔徽 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-11-16 - 2014-05-28 - H01L21/687
  • 本发明公开了一种LED外延片反应腔,包括至少两个生长区域,该些生长区域相互分隔,每一生长区域均设置有气体供给部件,该些生长区域中至少有两个生长区域分别用于生长LED外延片的结构中的不同半导体材料层。本发明通过在该基座上设置多个相互分隔的区域,并将其中的至少两个区域作为生长区域并生长不同的半导体材料,解决了生长不同层时的交叉污染问题,极大地提高了生长材料的均匀性、稳定性和光电特性。
  • led外延反应
  • [发明专利]连接柱夹紧装置及两板定位连接结构-CN201210403159.9无效
  • 杨德赞 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2012-10-22 - 2014-05-07 - H05B3/06
  • 本发明公开了一种连接柱夹紧装置,包括支撑板,支撑板上设有贯穿槽及贯穿孔,紧固部件连接贯穿槽所分开支撑板的二相对面,连接柱设于贯穿孔中,其特征在于,还包括偏心环结构,偏心环结构设置于贯穿孔和连接柱之间,偏心环结构可使连接柱相对于支撑板的贯穿孔移动。本发明还公开了一种使用该连接柱夹紧装置的两板定位连接结构,还包括固定连接有至少两个连接柱的第二板,第一板具有至少两个该连接柱夹紧装置,使用该连接柱夹紧装置将第一板和第二板固定连接,由于第一板具有的至少两个该连接柱夹紧装置可使连接柱相对于第一板移动,从而不需将第一板和第二板的连接柱安装孔一一精确对应,降低了加工难度的同时降低成本。
  • 连接夹紧装置定位结构
  • [发明专利]近距离耦合喷淋头及反应腔室-CN201310518681.6无效
  • 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-10-28 - 2014-02-05 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种近距离耦合喷淋头及反应腔室。所述近距离耦合喷淋头包括第一气体管道和第二气体管道,用于将反应气体引出至反应区域,所述近距离耦合喷淋头具有朝向反应区域的出气面,所述第一气体管道和第二气体管道贯穿所述出气面,所述出气面沿半径方向被均匀分为多个区域,在每个所述区域中,所述第一气体管道的出气口成条状排布形成第一气孔排,所述第二气体管道的出气口成条状排布形成第二气孔排,所述第一气孔排和第二气孔排间隔设置。出气口呈条状排布,简化了近距离耦合喷淋头的复杂程度,使得制造过程变得简单;通过将出气面均匀分为多个区域,有利于保证反应气体的均匀性。
  • 近距离耦合喷淋反应
  • [发明专利]喷淋头的制作方法-CN201310522280.8无效
  • 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-10-28 - 2014-01-29 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种喷淋头的制作方法。包括:提供第一板,在所述第一板中形成多个第一通道和多个凹槽,所述凹槽和第一通道间隔排列,所述第一通道贯穿所述第一板,所述多个凹槽的开口朝向一致且所述开口方向与所述第一通道的长度方向一致;提供第二板,在所述第二板中形成多个第二通道,所述第二通道与所述第一通道相对应以便将第二板和第一板贴合后所述第二通道与第一通道限定第一气体通道,所述第二板与所述凹槽贴合后,所述第二板与所述凹槽限定第一气体腔室;在所述第一板或第二板内形成连通所述第一气体腔室与反应区域的第三通道;利用连接固定件将所述第一板和第二板固定贴合在一起。该方法尽可能减少了焊接工艺在喷淋头制作过程中的出现,从而有效降低了制作难度,提高了对反应气体的控制能力。
  • 喷淋制作方法
  • [发明专利]分离式喷淋头结构-CN201310470103.X无效
  • 苏育家 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-10-10 - 2014-01-22 - B23K37/00
  • 本发明公开了一种分离式喷淋头结构,包括:气体分配部,至少具有第一气体分配腔室和第一气体管,所述第一气体分配腔室用于提供第一气体,所述第一气体管的一端与所述第一气体分配腔室相连通;冷却部,与所述气体分配部的下表面相连接,所述冷却部下方为反应区域,所述冷却部中至少设置有第一延伸管,所述第一延伸管一端与所述第一气体管的另一端相连接,来自所述第一气体分配腔室的气体经过所述第一气体管和所述第一延伸管流向反应区域;其中所述冷却部的上表面以及所述气体分配部的下表面具有台阶设计,且所述冷却部的上表面的台阶设计的形状与气体分配部的下表面的台阶设计的形状互补,使得所述冷却部与气体分配部之间的连接界面为台阶表面。
  • 分离喷淋结构
  • [发明专利]喷淋头及反应腔室-CN201310516968.5无效
  • 谭华强;乔徽;林翔;苏育家 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-10-28 - 2014-01-22 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种喷淋头及反应腔室。所述喷淋头包括第一气体腔室,所述第一气体腔室具有自上而下相对设置的第一板和第二板,所述第二板为一预分配板,所述预分配板中具有多个预分配通道,反应气体经过预分配通道被分配在多个区域中,所述第一气体腔室具有多个第一气体通道,所述第一气体通道与预分配通道相连通,用于将第一气体腔室中的气体输送至反应区域,之后沿与各个预分配通道相连通的第一气体通道流向反应区域。如此由外部通入的气体先进行预分配,从而提高了反应气体在第一气体腔室中的均匀性,也进而改善了反应气体的稳定性。
  • 喷淋反应
  • [发明专利]分离式喷淋头装置-CN201310401366.5无效
  • 谭华强 - 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司
  • 2013-09-05 - 2013-12-11 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种分离式喷淋头装置。该分离式喷淋头装置包括一个气体分配部和一个冷却部,该气体分配部包括多个通气管;该冷却部为桶状,包括一个底部和一个侧壁;该气体分配部收容于该侧壁内,并与该冷却部配合形成一个封闭空间;该侧壁包括一个用于向该封闭空间输入吹扫气体的吹扫通道;该底部包括多个通气孔,每一通气管对应连接至一个通气孔。本发明的分离式喷淋头装置不易产生故障。
  • 分离喷淋装置

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