[发明专利]柔性显示器的制作方法以及制作柔性显示器的基板

权利要求书

1.一种柔性显示器的制作方法，其特征在于，其包括：

在刚性基材的表面形成硅牺牲层；

将柔性基材通过粘胶层贴附于该硅牺牲层上；

在该柔性基材上制作显示元件层；以及

利用含氟腐蚀性气体在常温条件下蚀刻该硅牺牲层，以气化该硅牺牲层，从而使得该柔性基材与该刚性基材分离。

2.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，该硅牺牲层的材料为非晶硅、单晶硅或多晶硅。

3.根据权利要求2所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，该硅牺牲层的厚度范围为0.5微米~2微米。

4.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，该硅牺牲层的形成方法是溅射法或化学气相沉积法。

5.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，在利用该含氟腐蚀性气体蚀刻该硅牺牲层之前，更包括切割步骤，以使得该硅牺牲层的侧面暴露出来。

6.根据权利要求1所述的柔性显示器的制作方法，其特征在于，该含氟腐蚀性气体为氟化氙、三氟化氯、三氟化溴以及氟气。

7.根据权利要求1所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，利用该含氟腐蚀气体蚀刻该硅牺牲层时，该含氟腐蚀性气体的压力为小于5托尔，蚀刻时间为1～180秒。

8.根据权利要求1所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，在该柔性基材上制作该显示元件层包括：

在该柔性基材上制作有机发光二极管显示层，该有机发光二极管显示层包括薄膜晶体管控制电路、导电电极、有机材料功能层以及金属电极；以及

封装该有机发光二极管显示层。

9.根据权利要求8所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，封装该有机发光二极管显示层的方法包括金属封装法、玻璃封装法、塑料封装法或薄膜封装法。

10.一种制作柔性显示器的基板，其特征在于，其包括刚性基材、硅牺牲层、粘胶层、柔性基材以及显示元件层，该硅牺牲层位于该刚性基材的表面并位于刚性基材与粘胶层之间，该粘胶层位于该硅牺牲层与该柔性基材之间，该柔性基材位于该显示元件层与该粘胶层之间，该显示元件层位于该柔性基材上。

11.根据权利要求10所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该硅牺牲层的材料为非晶硅、单晶硅或多晶硅。

12.根据权利要求11所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该硅牺牲层的厚度范围为0.5微米~2微米。

13.根据权利要求10所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该柔性基材为玻璃薄膜基材、不锈钢薄膜基材或塑料基材。

14.根据权利要求13所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该柔性基材的厚度范围为5 ~200微米。

15.根据权利要求10所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该显示元件层包括有机发光二极管显示层以及封装层，该有机发光二极管显示层包括薄膜晶体管控制电路、导电电极、有机材料功能层以及金属电极，该封装层为金属封装层、玻璃封装层、塑料封装层或者薄膜封装层。

16.根据权利要求10所述的制作柔性显示器的基板，其特征在于，该制作柔性显示器的基板包括多个柔性显示面板单元。