[发明专利]高密度等离子体化学气相沉积设备腔体刻蚀清洗方法

权利要求书

1.一种高密度等离子体化学气相沉积设备腔体刻蚀清洗的方法，其特征在于，包括如下步骤：先对设备腔体加热到设定时间；然后分两步对设备腔体进行刻蚀清洗。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述对设备腔体加热的参数为：时间0.1～80秒，微波功率1000瓦～5000瓦，腔体压力100微托～200豪托，气体流量100～1000毫升/每分钟。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：对设备腔体进行第一步刻蚀清洗的参数为：时间0.1～260秒，微波功率1000瓦～5000瓦，腔体压力100微拖～5托，三氟化氮流量500～3500毫升/每分钟。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：对设备腔体进行第二步刻蚀清洗的参数为：时间0.1～120秒，微波功率1000瓦～5000瓦，腔体压力100微拖～5托，三氟化氮流量500～3000毫升/每分钟。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述“先对设备腔体加热到设定时间；然后分两步对设备腔体进行刻蚀清洗”，多次循环进行。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于：多次循环进行时所需的总时间小于500秒。