[发明专利]液晶面板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，特别涉及一种液晶面板及其制作方法。

背景技术

近年来随着科学技术的不断进步，液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)技术的不断完善，液晶显示产品逐渐遍布我们生活的每个角落。它以能耗低，易于平板化，环保等优势，在显示领域占据着非常重要的地位。

如图1所示，为现有技术中液晶面板的结构示意图，该液晶面板由彩膜基板和薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板对盒而成。

其中彩膜基板包括透明基板1，形成于透明基板1上的黑矩阵7和像素区域，形成于像素区域的具有红、绿、蓝三原色透光性的彩色滤光层9(包括红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层)，红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层的位置与薄膜晶体管上的每一个像素的位置精确对应，彩色滤光膜层上覆盖有平坦保护层(over coat)8，平坦保护层8上具有隔垫物10以形成盒内支撑，隔垫物10上涂敷有PI胶制成的取向层6。

阵列基板包括透明基板1’，形成于透明基板1’上的公共电极2，形成于透明基板1’和公共电极2上的绝缘层3，形成于绝缘层3上的像素电极4，像素电极4上涂敷有PI胶制成的取向层6’。

现有技术中彩膜基板和阵列基板上的取向层都是通过印刷的方式涂到彩膜基板和阵列基板上的，由于PI胶制作的取向层的透过率并不理想，因此会降低液晶盒的透过率，而且涂敷两层取向层会增加液晶盒厚。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何增加液晶面板的透光率，降低液晶面板的盒厚。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种液晶面板的制作方法包括以下步骤：

步骤S1、制备彩膜基板；

步骤S2、制备阵列基板；

步骤S3、将液晶和UV光活性聚合物混合成混合材料；

步骤S4、采用封框胶将彩膜基板和阵列基板对盒成液晶面板，并在其中注入步骤S3制备的混合材料；

步骤S5、对步骤S4得到的液晶面板进行取向处理，所述UV光活性聚合物形成取向层。

其中，所述步骤S3中液晶和UV光活性聚合物按照质量百分浓度为99.5％∶0.5％～90％∶10％的比例范围进行混合。

进一步地，所述步骤S3中液晶和UV光活性聚合物按照质量百分浓度为95％∶5％。

进一步地，所述步骤S5具体包括：

在所述液晶面板上方盖上网状遮光板，然后对所述液晶面板施加一个方波电场；当所述液晶和UV光活性聚合物分离后，对所述液晶面板进行UV光照射。

进一步地，所述方波电场的电场强度为1V/um-5V/um，波电场的变化周期为0.5KHz-1.5KHz。

进一步地，所述方波电场的电场强度为3V/um，波电场的变化周期为1KHz。

进一步地，所述UV光的波长为313nm或365nm。

进一步地，所述取向层为网格状，每个网格对应一个或多个像素，所述取向层的厚度与液晶面板的盒厚相同。

进一步地，所述彩膜基板包括透明基板，形成于所述透明基板上的黑矩阵和像素区域，在所述像素区域形成的彩色滤光层，在所述彩色滤光层上形成的平坦保护层，在所述平坦保护层上形成的隔垫物。

进一步地，所述阵列基板包括透明基板，在所述透明基板上形成的公共电极，在所述透明基板和公共电极上形成的绝缘层，在所述绝缘层上形成像素电极。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种液晶面板，包括：对盒的彩膜基板和阵列基板，所述阵列基板和彩膜基板之间具有取向层，所述取向层由UV光活性聚合物制成。

进一步地，所述取向层为网格状结构，每个网格对应一个或多个像素，所述取向层的厚度与液晶面板的盒厚相同。

(三)有益效果

上述技术方案具有如下有益效果：通过采用液晶分子和UV光活性聚合物材料同时注入的方式，最终形成由UV光活性聚合物材料制成的取向层，代替了由PI胶采用涂覆方式制作的影响透过率的取向层，也就提高了液晶面板的透过率。而且该UV光活性聚合物材料制成的取向层形成于彩膜基板和阵列基板之间，不会增加盒厚，与现有技术相比也就减少了液晶盒厚。

附图说明

图1是现有技术液晶面板的结构示意图；

图2是本发明实施例的液晶面板的制作方法流程图；

图3是本发明实施例的液晶面板的结构示意图；