[发明专利]液晶面板及其制作方法

权利要求书

1.液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、制备彩膜基板；

步骤S2、制备阵列基板；

步骤S3、将液晶和UV光活性聚合物混合成混合材料；

步骤S4、采用封框胶将彩膜基板和阵列基板对盒成液晶面板，并在其中注入步骤S3制备的混合材料；

步骤S5、对步骤S4得到的液晶面板进行取向处理，所述UV光活性聚合物形成取向层。

2.如权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中液晶和UV光活性聚合物按照质量百分浓度为99.5％∶0.5％～90％∶10％的比例范围进行混合。

3.如权利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中液晶和UV光活性聚合物按照质量百分浓度为92.5％∶7.5％。

4.如权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S5具体包括：

在所述液晶面板上方盖上网状遮光板，然后对所述液晶面板施加一个方波电场；当所述液晶和UV光活性聚合物分离后，对所述液晶面板进行UV光照射。

5.如权利要求4所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述方波电场的电场强度为1V/um-5V/um，波电场的变化周期为0.5KHz-1.5KHz。

6.如权利要求5所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述方波电场的电场强度为3V/um，波电场的变化周期为1KHz。

7.如权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述取向层为网格状，每个网格对应一个或多个像素，所述取向层的厚度与液晶面板的盒厚相同。

8.如权利要求1-7任一项所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括透明基板，形成于所述透明基板上的黑矩阵和像素区域，在所述像素区域形成的彩色滤光层，在所述彩色滤光层上形成的平坦保护层，在所述平坦保护层上形成的隔垫物。

9.如权利要求1-7任一项所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述阵列基板包括透明基板，在所述透明基板上形成的公共电极，在所述透明基板和公共电极上形成的绝缘层，在所述绝缘层上形成像素电极。

10.如权利要求1-7任一项所述的方法制作的液晶面板，包括对盒的彩膜基板和阵列基板，其特征在于，所述阵列基板和彩膜基板之间具有取向层，所述取向层由UV光活性聚合物制成。

11.如权利要求10所述的液晶面板，其特征在于，所述取向层为网格状结构，每个网格对应一个或多个像素，所述取向层的厚度与液晶面板的盒厚相同。