[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 201110310003.1 申请日: 2011-10-13
公开(公告)号: CN102456728A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 谷高真一;后藤胜敏 申请(专利权)人: 本田技研工业株式会社
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及适合使用于变频器等电力转换装置的半导体装置。

背景技术

以往,在用于大电流的变频器等电力转换装置中采用了绝缘栅型的半导体装置,作为代表性的绝缘栅型的半导体装置,已知IGBT(绝缘栅双极型晶体管)。此外,已知如下结构的半导体装置:为了降低通态电压而将多个IGBT单元(cell)设置成带型或者网型。在该结构的半导体装置的表面,设有数个IGBT单元共用的发射极,从设于半导体装置的周边的周边电极以恰当的间隔将多根接合引线接合于该发射极从而与该发射极电连接。

然而,在这样的结构的半导体装置中,已知下述情况:在发生锁定(latch up)的情况下,因有大电流流过接合引线而使接合引线的正下方的电流密度比周边高,从而该正下方的IGBT单元破损。

作为改善半导体装置内的电流分布的不均衡、并抑制接合引线的正下方的电流密度的技术,已知在专利文献1中公开的技术。

根据该专利文献1的公开,示出了越是靠近接合引线的IGBT单元,发射极与接合引线之间的布线电阻越小这一情况。换言之,在距离接合引线较远的IGBT单元中,利用比较大的布线电阻在接合引线之间产生较大的电流损耗,与此相对,在接合引线的正下方的IGBT单元中电流损耗较小,因此其结果是,暗示出形成了在接合引线的正下方达到峰值的不均匀的电流分布。

并且,在专利文献1中,为了使随离开接合引线的距离不同而不同的各IGBT单元的电流负载均匀化以实现电流分布的均匀化,在距离接合引线较远且电流负载较小的部位处减小IGBT单元的尺寸以提高电流密度,与此相反地,在距离接合引线较近且电流负载较大的部位处扩大IGBT单元的尺寸以降低电流密度。由此,在半导体装置内,显示出电流分布均匀化并且能够抑制接合引线的正下方的电流集中。

专利文献1:日本特开平10-112541号公报

然而,在距离接合引线较远的部位的IGBT单元与较近的部位的IGBT单元之间,上述布线电阻的差并未大至使各自的电流损耗产生显著的差的程度。由此,即便使得IGBT单元的尺寸随离开接合引线的距离不同而可变,也无法使电流分布充分地均匀化,无法抑制接合引线的正下方的电流密度。除此之外,当使得IGBT单元的尺寸随离开接合引线的距离不同而可变时,存在着电路设计和制造变得繁杂的问题。

发明内容

本发明正是鉴于上述情况而做出的,其目的在于提供一种半导体装置,该半导体装置无需使单元的尺寸可变就能够实现半导体装置内的电流分布的均匀化。

为了达成上述目的,本发明的半导体装置具有多个绝缘栅型的开关单元,对各开关单元的栅极施加栅极驱动电压,使与该栅极驱动电压相应的发射极电流流向以覆盖各开关单元的方式设置的共同的发射极,并且将引线接合于该发射极,其特征在于,因从所述引线的接合位置离开的距离不同,各开关单元的所述栅极驱动电压形成差异,与各开关单元的所述栅极驱动电压相应地改变各开关单元的互感,使得所述开关单元各自的发射极电流大致相等。

根据本发明,即使因从引线的接合位置离开的距离不同而使栅极驱动电压产生差异,也能够通过与该栅极驱动电压的差异相应地使各开关单元的互感改变,来使各开关单元各自的发射极电流大致相等。

由此,实现了半导体装置内的电流分布的均匀化,并且,由于不存在引线的接合位置的电流密度比其他部分高的情况,因此能够抑制在发生锁定时的接合位置处的破损,能够提高耐锁定性。

此外,由于无需使开关单元的尺寸可变,因此也不存在电路设计和制造变得繁杂的情况。

此外,本发明的特征在于,在上述半导体装置中,通过改变所述开关单元的发射极宽度来改变所述互感。

根据本发明,由于构成为通过改变开关单元的发射极宽度来改变互感,因此能够简单且准确地调整各开关单元的互感。

根据本发明,即使因从引线的接合位置离开的距离不同而使栅极驱动电压产生差异,也能够通过与该栅极驱动电压的差异相应地使各开关单元的互感改变,来使各开关单元各自的发射极电流大致相等。由此,实现了半导体装置内的电流分布的均匀化,并且,由于不存在引线的接合位置的电流密度比其他部分高的情况,因此能够抑制在发生锁定时的接合位置处的破损,能够提高耐锁定性。此外,由于无需使开关单元的尺寸可变,因此也不存在电路设计和制造变得繁杂的情况。

此外,由于构成为通过改变所述开关单元的发射极宽度来改变所述互感,因此能够简单且准确地调整各开关单元的互感。

附图说明

图1是示意性地示出本发明的实施方式涉及的半导体装置的平面结构的图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于本田技研工业株式会社,未经本田技研工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110310003.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top