[发明专利]薄膜晶体管基板及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201110261781.6 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN102306634A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 郑文达 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G02F1/133;G02F1/1368
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶显示技术领域,尤其是涉及一种薄膜晶体管基板及其制作方法。

背景技术

目前,使用液晶显示器已成为一种潮流。液晶显示器具有高画质、所占体积小、功率消耗低辐射小等优点。随着液晶显示器技术的日益成熟,使得液晶显示器广泛应用到各个领域中。现有的液晶显示器大都设有薄膜晶体管基板、彩色滤光片基板以及设置于两基板之间的液晶层。其中,薄膜晶体管基板包括基板本体和设置的基板上的两层金属层,该两层金属层之间还设置有绝缘层等其他层。

其中,上述薄膜晶体管基板设置的两层金属层,一般通过物理气相沉积金属镀膜的方式形成。采用这种方式产生的金属层存在晶格界面的缺陷,薄膜晶体管基板在后续的高温制程中,因金属层的晶格界面的缺陷,金属层中的金属可能因温度的升高而向晶格界面缺陷的方向凸起,形成金属小丘,该金属小丘甚至可穿透绝缘层,从而导致在通电的情况下两金属层产生短路现象。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种薄膜晶体管基板及其制造方法,防止薄膜晶体管基板中金属层的晶格界面缺陷,防止金属层小丘现象的发生。

本发明提出一种薄膜晶体管基板的制造方法,包括:

在薄膜晶体管基板上设置第一金属层后,对该薄膜晶体管基板进行退火处理,使该第一金属层的晶格重新排列,防止第一金属层产生晶界缺陷。

优选地,所述对该薄膜晶体管基板进行退火处理之前还包括:

在第一金属层上形成扫描线。

优选地,上述方法还包括:

在所述第一金属层上依次设置隔离层和第二金属层后,对该薄膜晶体管基板进行退火处理,使该第二金属层的晶格重新排列,防止第二金属层产生晶界缺陷。

优选地,所述对该薄膜晶体管基板进行退火处理,使该第二金属层的晶格重新排列之前还包括:

在第二金属层上形成数据线。

优选地,所述对薄膜晶体管基板进行退火操作具体为:

将薄膜晶体管基板置于升温环境中,控制升温环境在30分钟-60分钟内由25℃匀速升温至400℃-600℃;

保持400℃-600℃40-60分钟;

控制升温环境在60分钟-80分钟内匀速降温至25℃。

优选地,控制升温环境由25℃匀速升温至400℃-600℃的时间为45分钟。

优选地,所述隔离层包括绝缘层和半导体层,绝缘层设置在第一金属层上,半导体层设置在绝缘层与第二金属层之间。

本发明另提出一种薄膜晶体管基板,设有第一金属层,所述薄膜晶体管基板在第一金属层成形于其上之后,经退火处理,使第一金属层的晶格被重新排列。

优选地,所述第一金属层形成有扫描线,所述退火处理操作在第一金属层上形成扫描线之后执行。

优选地,上述薄膜晶体管基板还包括:

依次设置在所述第一金属层上的隔离层和第二金属层,该薄膜晶体管基板在隔离层和第二金属层设置后,经退火处理,使第二金属层的晶格被重新排列。

优选地,所述第二金属层形成有数据线,所述在设置第二金属层后的退火处理操作,在第二金属层上形成数据线之后执行。

优选地,所述退火处理的工艺具体为:

将薄膜晶体管基板置于升温环境中,控制升温环境在30-60分钟内由25℃匀速升温至400℃-600℃;

保持400℃-600℃40-60分钟;

控制升温环境在60分钟至80分钟内匀速降温至25℃。

优选地,所述退火处理的工艺中,控制升温环境由25℃匀速升温至400℃-600℃的时间为45分钟。

优选地,所述隔离层包括绝缘层和半导体层,绝缘层设置在第一金属层上,半导体层设置在绝缘层与第二金属层之间。

本发明通过在薄膜晶体管基板形成第一金属层后,对该薄膜晶体管基板依次进行退火处理,使第一金属层的晶格重新排列;有效地防止了第一金属层产生晶界缺陷,从而有效地防止了第一金属层小丘现象的发生。

附图说明

图1是本发明的薄膜晶体管基板的制造方法流程图;

图2是本发明的薄膜晶体管基板的结构示意图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。

具体实施方式

应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

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