[发明专利]氮化镓系化合物半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 201080036400.8 申请日: 2010-08-03
公开(公告)号: CN102576786A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 加藤亮;藤金正树;井上彰;横川俊哉 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氮化 化合物 半导体 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种氮化镓系化合物半导体发光元件,具有:

n型氮化镓系化合物半导体层;

p型氮化镓系化合物半导体层;

位于上述n型氮化镓系化合物半导体层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的活性层;

位于上述p型氮化镓系化合物半导体层与上述活性层之间的p型溢出抑制层;以及

与上述p型氮化镓系化合物半导体层接触的p型电极,

在上述氮化镓系化合物半导体发光元件中,

上述p型氮化镓系化合物半导体层是m面半导体层,

在上述p型氮化镓系化合物半导体层的活性层侧设置有掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg的区域。

2.根据权利要求1所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

在上述p型溢出抑制层中掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg。

3.根据权利要求1或2所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

在上述p型氮化镓系化合物半导体层中,距离上述活性层的距离为45nm以下的部分中的Mg浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内。

4.根据权利要求1至3的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

还具有位于上述活性层与上述p型溢出层之间的未掺杂间隔层。

5.根据权利要求1至3的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

上述活性层与上述p型溢出层相接。

6.根据权利要求1至5的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

上述p型氮化镓系化合物半导体层是GaN层。

7.根据权利要求1至6的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

在上述p型氮化镓系化合物半导体层的上述p型电极侧设置有掺杂了浓度高于9.0×1018cm-3的Mg的区域。

8.一种氮化镓系化合物半导体发光元件,具有:

n型氮化镓系化合物半导体层;

p型氮化镓系化合物半导体层;

位于上述n型氮化镓系化合物半导体层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的活性层;以及

与上述p型氮化镓系化合物半导体层接触的p型电极,

在上述氮化镓系化合物半导体发光元件中,

上述p型氮化镓系化合物半导体层是m面半导体层,

在上述p型氮化镓系化合物半导体层的活性层侧设置有掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg的区域。

9.根据权利要求8所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

在上述p型氮化镓系化合物半导体层中,距离上述活性层的距离为45nm以下的部分中的Mg浓度在2.0×1018cm-3以上且8.0×1018cm-3以下的范围内。

10.根据权利要求8或9所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

还具有位于上述活性层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的未掺杂间隔层。

11.根据权利要求8至10的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

上述活性层与上述p型氮化镓系化合物半导体层相接。

12.根据权利要求8至11的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,

上述p型氮化镓系化合物半导体层是GaN层。

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