[发明专利]氮化镓系化合物半导体发光元件有效
申请号: | 201080036400.8 | 申请日: | 2010-08-03 |
公开(公告)号: | CN102576786A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 加藤亮;藤金正树;井上彰;横川俊哉 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化 化合物 半导体 发光 元件 | ||
1.一种氮化镓系化合物半导体发光元件,具有:
n型氮化镓系化合物半导体层;
p型氮化镓系化合物半导体层;
位于上述n型氮化镓系化合物半导体层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的活性层;
位于上述p型氮化镓系化合物半导体层与上述活性层之间的p型溢出抑制层;以及
与上述p型氮化镓系化合物半导体层接触的p型电极,
在上述氮化镓系化合物半导体发光元件中,
上述p型氮化镓系化合物半导体层是m面半导体层,
在上述p型氮化镓系化合物半导体层的活性层侧设置有掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg的区域。
2.根据权利要求1所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
在上述p型溢出抑制层中掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg。
3.根据权利要求1或2所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
在上述p型氮化镓系化合物半导体层中,距离上述活性层的距离为45nm以下的部分中的Mg浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内。
4.根据权利要求1至3的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
还具有位于上述活性层与上述p型溢出层之间的未掺杂间隔层。
5.根据权利要求1至3的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
上述活性层与上述p型溢出层相接。
6.根据权利要求1至5的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
上述p型氮化镓系化合物半导体层是GaN层。
7.根据权利要求1至6的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
在上述p型氮化镓系化合物半导体层的上述p型电极侧设置有掺杂了浓度高于9.0×1018cm-3的Mg的区域。
8.一种氮化镓系化合物半导体发光元件,具有:
n型氮化镓系化合物半导体层;
p型氮化镓系化合物半导体层;
位于上述n型氮化镓系化合物半导体层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的活性层;以及
与上述p型氮化镓系化合物半导体层接触的p型电极,
在上述氮化镓系化合物半导体发光元件中,
上述p型氮化镓系化合物半导体层是m面半导体层,
在上述p型氮化镓系化合物半导体层的活性层侧设置有掺杂了浓度在1.0×1018cm-3以上且9.0×1018cm-3以下的范围内的Mg的区域。
9.根据权利要求8所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
在上述p型氮化镓系化合物半导体层中,距离上述活性层的距离为45nm以下的部分中的Mg浓度在2.0×1018cm-3以上且8.0×1018cm-3以下的范围内。
10.根据权利要求8或9所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
还具有位于上述活性层与上述p型氮化镓系化合物半导体层之间的未掺杂间隔层。
11.根据权利要求8至10的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
上述活性层与上述p型氮化镓系化合物半导体层相接。
12.根据权利要求8至11的任意一项所述的氮化镓系化合物半导体发光元件,其中,
上述p型氮化镓系化合物半导体层是GaN层。
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