[发明专利]壳体及其制作方法无效
| 申请号： | 201010254314.6 | 申请日： | 2010-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102378512A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/00 | 分类号： | H05K5/00;C23C14/24;C23C14/06 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制作方法 | ||
1.一种壳体，其包括一基体及一形成于基体表面的光致变色层，其特征在于：该光致变色层为一氯化银-氯化亚铜层或溴化银-溴化亚铜层。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述光致变色层以真空蒸镀的方式形成，其厚度为500-1500nm。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述光致变色层中的氯化亚铜或溴化亚铜的质量百分含量为10-20％。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述壳体还包括一一保护层，该保护层形成于光致变色层的表面。
5.如权利要求4所述的壳体，其特征在于：所述保护层为一以真空蒸镀的方式形成的透明的二氧化硅光学膜层，其厚度为300-500nm。
6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体的材料为金属、玻璃或塑料。
7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用真空蒸镀法在该基体的表面沉积一光致变色层，沉积过程中同时对基体进行离子束轰击；所述的光致变色层为一氯化银-氯化亚铜层或溴化银-溴化亚铜层。
8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述真空蒸镀法以氯化银与氯化亚铜的混合块体或溴化银与溴化亚铜的混合块体作为蒸料，采用电子束加热，蒸发沉积的速率为3-10埃/秒，蒸镀的温度为50-150℃。
9.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述离子束轰击的功率为900-1500瓦。
10.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述制作方法还包括在所述光致变色层的表面蒸镀一透明二氧化硅保护层的步骤。
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