[发明专利]基于P型硅片的黄铜矿类半导体薄膜异质结太阳电池无效
| 申请号: | 200910183866.X | 申请日: | 2009-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN101621085A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
| 发明(设计)人: | 吴坚;王栩生;章灵军 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;常熟阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯光伏电力(洛阳)有限公司;阿特斯光伏电子(常熟)有限公司;阿特斯太阳能光电(苏州)有限公司;阿特斯光伏科技(苏州)有限公司;常熟阿特斯太阳能电力有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/06 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陶海锋 |
| 地址: | 215129江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 硅片 黄铜矿 半导体 薄膜 异质结 太阳电池 | ||
技术领域
本发明涉及一种太阳能电池,具体涉及一种基于P型硅片的黄铜矿类半 导体薄膜异质结太阳电池。
背景技术
当今世界,常规能源的持续使用带来了能源紧缺以及环境恶化等一系列 经济和社会问题,解决上述问题的最好途经是大力发展和推广可再生能源。 在可再生能源中,太阳能发电由于地域性限制小、应用范围广、基本无污染、 可持续利用率高等优点,成为世界各国竞相发展的目标。目前,太阳能发电 在可再生能源中所占比重还很小,主要原因是使用成本过高。因此,开发高 效率、低成本的太阳能电池,使其成本接近甚至低于常规能源成本,将有着 举足轻重而又意义深远的作用。
目前,现有的各类太阳能电池中,晶体硅太阳电池占了90%的市场份额, 其中单晶硅电池的转化效率超过了17%,多晶硅电池转化效率也在15~16%。 尽管在实验室中小面积的晶体硅电池的最高转化效率接近25%,但由于其工 艺与结构过于复杂,不利于规模化生产及应用。因此,在成本不太高,工艺 不太复杂的前提下,各国都在从新的器件结构努力,开发效率更高的晶体硅 类太阳电池及其产业化技术。其中,基于晶体硅的异质结太阳电池是一个热 点的方向。如一种基于P型硅衬底的太阳能电池,参见附图1所示,包括依 次叠层结合的受光面电极1、N型非晶硅层2、本征非晶硅层3、P型硅衬底 4和背电极5。其实验室转化效率已经突破18%,产业化的电池片的转化效 率也已经达到19%。该类电池具有如下几大优点:(1)由于非晶硅的带隙在 1.7eV以上,与晶体硅的1.12eV相比更高,从而形成更强的内建电场,大幅 度地提高开路电压;(2)采用低温(200℃以内)沉积方式形成PIN结,避免了 常规硅电池工艺的高温扩散(约900℃)工艺,既减少了生产能耗,又避免了高 温产生的形变及热损伤,减少了碎片率;(3)在沉积非晶硅层形成PIN结的 同时,带来了很好的表面钝化作用。
然而,上述HIT结构的太阳能电池存在如下问题:(1)由于非晶硅材料 有很多的界面态和缺陷,载流子迁移率比较低,影响了光生电流的收集;(2) 非晶硅材料本身有光致衰退作用,要降低该类电池的效率衰减,必须尽可能 地采用N型硅片为衬底,限制了其原材料的选择范围;(3)非晶硅材料和晶 体硅材料的光吸收系数都不是很高,要提高长波响应,要求硅片的厚度不能 太薄,也限制了电池向薄型化方向发展的潜力。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于P型硅片的黄铜矿类半导体薄膜异质结太 阳电池,以获得较高的转化效率。
为达到上述发明目的,本发明采用的技术方案是:一种基于P型硅片的 黄铜矿类半导体薄膜异质结太阳电池,包括依次叠层结合的受光面电极、透 明导电层、N型黄铜矿半导体薄膜、P型晶体硅、P+背表面场和背金属电极, 形成NPP+的异质结结构。
上文中,所述N型黄铜矿半导体薄膜与P型晶体硅形成异质PN结,有 如下优点:(1)由于有高的光吸收系数,N型层可以比较薄,P型晶体硅的 厚度也可以进一步减薄;(2)由于有高的光吸收系数,再加上透明导电层兼 有减反射作用,N型层无需做类似绒面的陷光结构;(3)可以调整带隙,按 照受光顺序形成从高到低的带隙梯度分布,以达到与太阳光谱匹配形成分段 吸收的目的;这样既增加光生电流,又增大开路电压;(4)由于N型黄铜矿 半导体薄膜本身载流子迁移率比较高,再加上可以做成很高结晶质量,因而 可以更好地收集光生电流。
上述技术方案中,所述受光面电极为Al、Ag、Au、Ni、Cu/Ni、Al/Ni 或Ti/Pd/Ag电极,其厚度为100nm~400μm。优选的厚度为20~200μm。该 受光面电极主要起到收集电流的作用。
上述技术方案中,所述透明导电层为ITO、SnO2:F(FTO)、CdSnO4、 CuGaO2、CuInO2、SrCu2O2、SnO2、In2O3或掺杂的ZnO层,其厚度为 80~1000nm。优选的厚度为100~500nm。所述掺杂的ZnO层为掺B、Al、 Ga或In等的ZnO层。该透明导电层具有较高的透光性和电导率,除了起到 收集电流的作用外,还可通过优化厚度起到良好的减弱表面反射的作用。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





