[发明专利]可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术，特别是一种可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(Thin Fi1m Transistor Liquid Crystal Disp1ay，以下简称TFT-LCD)因具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当今平板显示器占据了主导地位。为了有效降低TFT-LCD的制造成本，在TFT-LCD阵列基板结构的制造过程中广泛使用掩模版，掩模版的成本是TFT-LCD制造成本的重要组成部分。

在掩模版的制造过程中，需要在基板上形成制造TFT-LCD阵列基板所需形成的各种图形，例如：在基板上形成栅线、数据线、TFT沟道和过孔等图形。发明人在实现本发明过程中发现，现有技术中，一旦掩模版制造过程结束后，所形成的图形结构固定在基板上，很难再发生变化。如果在掩模版制造结束之后，掩模版的设计条件发生变化，例如：根据实际工艺要求需要调整掩模版上所形成的图形中的TFT沟道宽度、信号线宽度或过孔直径等尺寸，或者，由于掩模板部分区域的孔径大小制作不均匀需要进行调整时，现有技术只能根据具体设计要求重新制造掩模版，从而增加了掩模版的制造成本。

发明内容

本发明的目的是提供一种可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法，用以实现掩模版上形成的图形尺寸的可控性。

为实现上述目的，本发明提供了一种调节图形尺寸的掩模版，包括基板，所述基板上形成有相互搭接的挡光材料层和压电陶瓷材料层，形成有所述挡光材料层和所述压电陶瓷材料层以外的基板区域为透光区域，且所述透光区域与所述压电陶瓷材料层相邻。

在上述技术方案的基础上，所述挡光材料层上还形成有用于对所述压电陶瓷材料层进行加压控制的控制电路。所述压电陶瓷材料层位于所述挡光材料层的下方或上方。所述压电陶瓷材料层可包括：钛酸钡薄膜或锆钛酸铅薄膜。优选的，所述压电陶瓷材料层的厚度为

为实现上述目的，本发明还提供了一种可调节图形尺寸的掩模版的制造方法，包括：

步骤11、在基板上形成挡光材料薄膜；

步骤12、在步骤11形成的基板上，通过第一次构图工艺，形成挡光材料层；

步骤13、在步骤12形成的基板上，形成压电陶瓷材料薄膜；

步骤14、在步骤13形成的基板上，通过第二次构图工艺，形成压电陶瓷材料层，所述压电陶瓷材料层搭接在所述挡光材料层上，并与所述压电陶瓷材料层和所述挡光材料层以外的透光区域相邻。

在上述技术方案的基础上，在所述挡光材料层上还可形成用于对所述压电陶瓷材料层进行加压控制的控制电路。

为实现上述目的，本发明还提供了另一种可调节图形尺寸的掩模版的制造方法，包括：

步骤21、在基板上形成压电陶瓷材料薄膜；

步骤22、在步骤21形成的基板上，通过第一次构图工艺，形成压电陶瓷材料层；

步骤23、在步骤22形成的基板上，形成挡光材料薄膜；

步骤24、在步骤23形成的基板上，通过第二次构图工艺，形成挡光材料层，所述挡光材料层搭接在所述压电陶瓷材料层上，与所述压电陶瓷材料层和所述挡光材料层以外的区域为透光区域，所述压电陶瓷材料层与所述透光区域相邻。

在上述技术方案的基础上，在所述挡光材料层上还可形成用于对所述压电陶瓷材料层进行加压控制的控制电路。

通过上述分析可知，本发明提供的可调节图形尺寸的掩模版及其制造方法，如果在掩模版制造过程中，采用压电陶瓷材料作为掩模版形成图形的边缘区域，那么，当掩模版制造完成后，由于工艺条件改变等原因需要调整掩模版图形尺寸时，可通过对压电陶瓷材料进行加压控制，从而对掩模版上的图形尺寸进行调整，而不需要重新制备新的掩模版，降低了生产制造的成本，并有利于缩短生产周期。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明可调节图形尺寸的掩模版第一实施例结构示意图；

图2为本发明可调节图形尺寸的掩模版第二实施例结构示意图；

图3为图2中A-A’向剖面图；

图4为本发明可调节图形尺寸的掩模版第三实施例结构示意图；

图5为本发明可调节图形尺寸的掩模版制造方法实施例流程图；

图6为本发明可调节图形尺寸的掩模版制造方法另一实施例流程图。

附图标记说明：