[发明专利]半导体集成电路及其相位补偿用电容的电容值调整方法有效

专利信息
申请号: 200810086537.9 申请日: 2008-03-14
公开(公告)号: CN101266275A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 阿川谦一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G01R31/00 分类号: G01R31/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 岳耀锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 集成电路 及其 相位 补偿 用电 电容 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体集成电路,其特征在于具有:

放大电路,其包含相位补偿用电容,具有对来自第1以及第2输入端子的输入电压差进行放大后从输出端子输出的放大器,并且在所述第1输入端子和所述输出端子之间具有反馈环路;以及

稳定性判定调整电路,其向所述第1或第2输入端子输出不同频率的正弦波电压,对所述正弦波电压下的所述放大电路的输出电压的振幅进行测定,根据所述振幅之比对所述相位补偿用电容的电容值进行调整。

2.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于:

所述正弦波电压是预定的多个频率的正弦波电压。

3.根据权利要求1所述的半导体集成电路,其特征在于,所述稳定性判定调整电路将所述放大电路的输出电压的振幅成为最大值的频率设为第1频率,根据所述最大值与比所述第1频率低的第2频率的所述输出电压的振幅之比,对所述相位补偿用电容的电容值进行调整。

4.根据权利要求3所述的半导体集成电路,其特征在于,所述第2频率为所述第1频率的十分之一以下。

5.一种半导体集成电路,其特征在于具有:

放大电路,其包含相位补偿用电容,具有对来自第1以及第2输入端子的输入电压差进行放大后从输出端子输出的放大器,并且在所述第1输入端子和所述输出端子之间形成反馈环路;

正弦波产生部,其根据频率控制信号改变频率,使正弦波电压经由到达所述第1或第2输入端子的路径输入到所述第1或第2输入端子;

振幅测定部,其与所述输出端子连接,对来自所述输出端子的输出电压的振幅进行测定;

控制部,其根据电容控制信号对所述相位补偿用电容的电容值进行调整;以及

运算部,其输出所述频率控制信号,根据在所述振幅测定部中测定的振幅以及从所述正弦波产生部输出的正弦波电压的振幅求出基于所述频率控制信号的频率下的闭环路增益,向所述控制部输出所述电容控制信号,以使第1频率下的所述闭环路增益和比所述第1频率低的第2频率下的所述闭环路增益之比成为预定值。

6.根据权利要求5所述的半导体集成电路,其特征在于,所述运算部将所述闭环路增益成为最大值的频率设为所述第1频率。

7.根据权利要求6所述的半导体集成电路,其特征在于,所述第2频率为所述第1频率的十分之一以下。

8.一种半导体集成电路,其特征在于具有:

正弦波产生部,其根据频率控制信号改变频率来输出正弦波电压;

放大电路,其包含相位补偿用电容,并且具有对来自第1以及第2输入端子的输入电压差进行放大后从输出端子输出的放大器、和对连接所述第1输入端子与所述输出端子来形成反馈环路或连接所述第1输入端子与所述正弦波产生部进行切换的第1开关;

第2开关,其连接在所述第1或第2输入端子与所述正弦波产生部之间;

振幅测定部,其与所述输出端子连接,对来自所述输出端子的输出电压的振幅进行测定;

控制部,其根据开关控制信号进行所述第1以及第2开关的控制,根据电容控制信号进行所述相位补偿用电容的电容值的调整;以及

运算部,其输出所述频率控制信号,输出所述开关控制信号,以经由所述第1开关连接所述第1输入端子与所述正弦波产生部且使所述第2开关断开,由此计算出任意的频率下的所述放大电路的环路增益,根据所述环路增益计算出单位增益频率,输出所述开关控制信号,以经由所述第1开关连接所述第1输入端子与所述输出端子而形成反馈环路且使所述第2开关接通,由此计算出所述单位增益频率下的所述放大电路的闭环路增益与比所述单位增益频率低的第2频率下的闭环路增益之比,向所述控制部输出所述电容控制信号,以使所述比成为预定值。

9.根据权利要求8所述的半导体集成电路,其特征在于,所述第2频率为所述单位增益频率的十分之一以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810086537.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top