[实用新型]基板处理装置及其控制装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及对半导体晶片及液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称为基板)实施规定处理的基板处理装置及其控制装置。

背景技术

当前，作为这种装置，可以举出下述装置，即，在由具有用于对基板实施处理的多个处理部的基板处理装置对多个批次进行处理时，控制部根据包括多个处理工序在内的工艺处方，为了由各处理部依次处理各个批次而确定各批次的处理顺序，按照其时序表传送各批次并依次进行处理(例如参照专利文献1)。

这种基板处理装置，由于在实际开始对批次的处理之前，已经确定了用哪个处理部在哪个时刻处理哪个批次，因而可以高效地配置批次，提高基板处理装置的运转率。

专利文献1：特开2002-341923号公报

发明内容

但是，具有这种结构的现有例子的情况下，存在下述问题。

也就是说，现有装置在某个处理工序中使用的处理部发生异常的情况下，要使使用该处理部的预定的所有批次的处理全部停止。因此，具有在一个处理部中发生异常的情况下，基板处理装置的运转率下降的问题。

本实用新型正是鉴于以上问题而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置及其控制装置，其通过允许批次向替代处理部的调换，即使在处理部发生异常的情况下，也可以防止运转率下降。

为了实现上述目的，本实用新型采用下述构成。

也就是说，技术方案1所述的实用新型，是一种基板处理装置，其具有：多个处理部，它们用于对基板进行处理；以及控制部，其处理多个批次时，在根据包括多个处理工序的工艺处方决定时序表后执行处理，该时序表规定用于由各个处理部依次处理各批次的各批次处理顺序，其特征在于，前述处理部具有：优先处理部，其为了处理一个处理工序而优先使用；以及与前述优先处理部不同的替代处理部，其可以实施与前述处理部相同的处理，在处理工序中指定的优先处理部发生异常的情况下，对于按照指定了与发生异常的优先处理部对应的替代处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部变更时序表，以由前述替代处理部进行处理，同时前述控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。

根据技术方案1所述的实用新型，对于按照对发生异常的优先处理部指定替代处理部的工艺处方进行处理的批次，以调换到替代处理部进行批次处理的方式，控制部变更时序表，同时控制部按照该变更后的时序表继续执行该批次的处理。因此，由于即使处理部发生异常，也不必停止所有批次的处理，因而可以防止运转率下降。

此外，在本实用新型中，优选在被一个处理工序中指定的优先处理部发生异常情况下，对于按照仅指定了发生异常的优先处理部的工艺处方进行处理的批次，前述控制部进行使前述批次待命的处理，同时在前述优先处理部可以使用的时刻，在对该批次重新安排时序之后，重新开始该批次的处理(技术方案2)。对于按照仅指定发生异常的优先处理部的工艺处方进行处理的批次，控制部使该批次待命，同时，在优先处理部的异常解除的时刻，对于该批次在生成时序表后重新开始处理。因此，可以防止在工艺处方中仅指定优先处理部的批次的处理中出现问题。

此外，在本实用新型中，优选前述优先处理部是第1药液处理部，前述替代处理部是第2药液处理部(技术方案3)。为了提高处理效率，基板处理装置如由药液进行处理的第1药液处理部和具有同样构成的第2药液处理部这样成双配置同样的处理部。由于两个药液处理部可以以分别进行同样的处理方式设定液种及温度等条件，因而如果预先设定相同条件，则可以将一方作为优先使用的优先处理部，而将另一方作设定为替代处理部。

此外，在本实用新型中，优选前述优先处理部是第1纯水清洗处理部，前述替代处理部是第2纯水清洗处理部(技术方案4)。为了提高处理效率，基板处理装置如由纯水进行清洗处理的第1纯水清洗处理部和具有同样构成的第2纯水处理部这样，成双配置同样的处理部。由于两个纯水处理部可以以分别进行同样处理的方式设定纯水温度及流量等条件，因而如果预先设定相同条件，则可以将一方作为优先使用的优先处理部，而将另一方设定为替代处理部。

技术方案5所述的实用新型是一种基板处理装置，其对基板进行处理，其特征在于，具有：第1处理部；不同于前述第1处理部的第2处理部，其可以实施与前述第1处理部相同的处理；存储部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及控制部，其对应于前述工艺处方生成时序表，在前述时序表中将前述第1处理部和前述第2处理部指定为可变更并且前述第1处理部发生异常的情况下，通过调换前述第1处理部和第2处理部来变更前述时序表，同时按照调换后的情况下的时序表发出处理指令。