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[发明专利]纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料和制备方法-CN201410162403.6有效
发明人：刘保亭;贾艳丽;闫启庚;施健;李晓红;代秀红;郭建新;周阳;赵庆勋 -专利权人：河北大学
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： H01F41/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料及其制备方法，其制备采用磁控脉冲激光共溅射方法实现，本发明磁控脉冲激光共溅射装置的激光靶位选用纯度>99.95%的La_xN_1-xM_yO₃陶瓷激光靶材，在磁控靶位选择纯度>99.99%的Pt金属磁控靶材；应用脉冲激光轰击靶材时，La_xN_1-xM_yO₃靶材溅射物本身在缺氧的条件下会化学分解成磁性金属M和LaNMO₄电介质两种材料，该磁性金属材料再与磁控溅射的金属材料结合成磁性合金
纳米结构多功能复合薄膜材料制备方法

[发明专利]光谱散射流式细胞仪的光学配置方法-CN201880069066.2有效
发明人： J·A·博卓夫斯基;J·C·琼斯;J·A·韦尔什;W·G·特尔福德;A·罗斯纳 -专利权人：美国政府（由卫生和人类服务部的部长所代表）
申请日： 2018-10-23 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：一种微流控设备，包括：照射源，其被配置成产生多波长照射光束并将多波长照射光束引导至可包括纳米标签的微流控靶；检测器，其被配置成从微流控靶接收多波长检测光束并产生检测信号，其中，多波长检测光束包括通过多波长照射光束与微流控靶中的纳米标签之间的相互作用而弹性地侧向散射的光；以及处理器，其被配置成接收检测信号，并通过将检测信号的多波长侧向散射强度特征与一种或多种纳米标签类型的预定多波长弹性侧向散射强度分布进行比较，确定微流控靶中纳米标签的存在。
光谱散射细胞光学配置方法

[实用新型]一种磁控溅射设备-CN202021512772.0有效
发明人：李聪;潘振伟;曲佳佳;陈玲;李靖 -专利权人：绍兴精功装备检测科技有限公司
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射设备，包括磁控舱和安装在磁控舱下方的工作台,工作台内部中心设有方向向上的电机，电机的轴穿出工作台上部且穿出部分固定有与电机的轴同轴线的圆形转盘，转盘上部设有圆柱形基板，基板环形侧面铺设有一张基片，磁控舱环形侧面均匀分布有四个溅射靶，溅射靶包括封板和靶材，靶材表面设有用于覆膜的铜板，靶材朝向磁控舱中心并穿出磁控舱内侧环形面，封板固定在磁控舱外侧环形面。本实用新型基片贴合在圆柱形基板的环形表面，基板环形侧面均匀分布有四个靶材来对基片镀膜，同时基板可随着着转盘一起转动，使基片表面镀膜均匀，提高了效率，实用性好。
一种磁控溅射设备

[发明专利]可折叠自动控温光轴校准靶-CN200910023049.8有效
发明人：陈立学;刘宇;姜旭;陈静;王健军;李梅 -专利权人：中国兵器工业第二〇五研究所
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： F41J1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可折叠自动控温光轴校准靶，包括靶面、靶框、两个可折叠的支架、控温箱，靶面为白色帆布基底敷以黑色帆布图案，黑色帆布与白色帆布夹层中埋有加热丝，黑色区和白色区各安装一个感温传感器。使用时，靶框由两个可折叠杆组对接而成且与各自展开到位后的两个可折叠支架固连，加热丝和感温器件的引线与控温箱连接。本发明适用于多轴光学系统的外场光轴平行性校准及其精度检验、光学定位定向系统的精度检验或者基于热像瞄准的射击系统外场靶试。本发明的突出优点是，结构简单，成本低廉，携带方便，使用时不受场地限制。
可折叠自动光轴校准

[实用新型]金属靶材车加工冷却装置-CN202222736025.0有效
发明人：赵小虎;洪精华 -专利权人：福州市诺兴光电材料有限公司
申请日： 2022-10-17 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： B23Q11/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及金属靶材加工领域，具体为金属靶材车加工冷却装置，包括固定座、伸缩杆、箱体、泵体和喷头，所述固定座顶部设置有伸缩杆，所述伸缩杆顶部转动设置有圆形罩，所述圆形罩与伸缩杆之间设置有锁紧件，所述圆形罩左侧设置有喷头，所述箱体顶部设置有泵体，所述泵体输入端伸入箱体内部，所述泵体输出端设置有软管，通过分流块、喷头、箱体、泵体和风机的设置，便于对靶材进行冷却，相较于现有车削设备对靶材进行滴落冷却液的进行冷却的方式，雾化的冷却液在靶材上更加均匀，冷却效果更好，冷却后，风机可以将多余的冷却液吹掉，便于使靶材更加整洁。
金属靶材车加工冷却装置

[实用新型]一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置-CN200820010151.5无效
发明人：肖金泉;郎文昌;孙超;宫骏;杜昊;赵彦辉;杨英;闻立时 -专利权人：中国科学院金属研究所
申请日： 2008-01-11 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及薄膜制备领域，具体地说是一种新型的改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置。所述改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置设有动态控制磁场发生装置、靶材、靶材底座，靶材安装于靶材底座上，动态控制磁场发生装置为主控磁场发生装置和辅助磁场发生装置构成，主控磁场发生装置放置于靶材后面，和靶材同轴放置，辅助磁场发生装置套在主控磁场发生装置周围。本实用新型通过两组磁场发生装置配合使用，在靶面上形成动态分布的拱形磁场，达到改善弧斑的放电形式和工作稳定性，控制弧斑的运动轨迹，提高靶材刻蚀均匀性和靶材利用率，减少靶材大颗粒的发射，用以制备高质量的薄膜的目的
一种改善电弧离子镀沉积工艺动态磁控弧源装置

[发明专利]用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机及溅镀方法-CN201010170252.0无效
发明人：张一熙 -专利权人：亚洲太阳科技有限公司
申请日： 2010-04-30 - 公布日： 2011-11-09 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀机及溅镀方法，该磁控溅镀机包含一具有溅镀空间的腔体以及一设于腔体的溅镀空间内的基板与靶材，靶材用以溅镀基板，并于靶材背面侧设有至少一磁性元件，藉由磁性元件的磁场作用，使靶材被撞击出来的溅镀原子沉积于基板表面上，而形成一高均匀度及高品质的镀膜；本发明还提供一种用于薄膜太阳能电池制造的磁控溅镀方法。
用于薄膜太阳能电池制造磁控溅镀机方法

[发明专利]一种医疗器械表面镀钛处理装置及处理方法-CN201910754122.2在审
发明人：张波;朱理瀚;金旭栋;龙海燕;虞文武;聂俊;马雯雯 -专利权人：常州机电职业技术学院
申请日： 2019-08-15 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：它包括真空室、底座、动力机构、货杆、放电电源和磁控靶位，所述底座同心设置于真空室内，所述底座与动力机构相连，所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位，所述中心靶位上套接环柱状钛靶，所述立式靶位数量为多个，多个立式靶位沿真空室圆周方向均布在真空室内壁上，每个立式靶位上均装有三个圆形钛靶，所述环柱状钛靶和圆形钛靶均与放电电源相连，所述货杆与底座通过行星机构相连。
靶位镀钛医疗器械表面钛靶底座处理装置动力机构放电电源磁控靶真空室货杆真空室内壁表面镀钛器械表面通用性差同心设置行星机构不均匀环柱状钛镀层接环均布上套柱状室内生产

[发明专利]一种利用磁控共溅射法制备超薄钨硅薄膜的方法-CN201510628815.9在审
发明人：贾小氢;付凤凤;康琳;吴培亨 -专利权人：南京大学
申请日： 2015-09-28 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了利用磁控共溅射法制备超薄钨硅薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：靶材选取，选取高纯硅和钨作为靶材，将靶材放入磁控共溅射室；衬底处理，对衬底依次用超声波和氩离子清洗，将处理后的衬底送入磁控共溅射室，置于样品台上；制备钨硅薄膜，磁控共溅射室的真空度小于等于2×10^-5Pa，工作气体是氩气，调节溅射气压、溅射功率、沉积速率和靶材到衬底的距离，经过一定时间溅射制备钨硅薄膜。
一种利用磁控共溅射法制超薄薄膜方法

[发明专利]多弧离子镀膜涂层工艺-CN202210539640.4有效
发明人：刘浩;陈效全 -专利权人：无锡乾泰新材料科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：其工艺步骤为：步骤1、基材预处理；步骤2、磁控多弧离子镀TiN过渡涂层；步骤3、磁控多弧离子镀TiTaN涂层；步骤4、磁控多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层。采用辉光放电和离子轰击对基材进行刻蚀，提高了涂层与基材的结合强度，同时，使用磁控弧技术对基材进行多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层，二次镀膜采用TaTi靶作为靶材，三次镀膜中使用Co靶材、BiScC靶，使涂层粘结更好的，提高涂层致密性和耐磨性。
离子镀膜涂层工艺

[发明专利]一种热控多层的毁伤阈值确定方法-CN202310200436.4在审
发明人：贺敏波;任伟艳;邬志华;杨雨川;丁雅菲;付怀龙;胡月宏;黄禄明;徐天恒;刘斯琦 -专利权人：中国人民解放军32027部队
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明公开热控多层的毁伤阈值确定方法。包括以下步骤：确定热控多层靶标毁伤图像和靶面外热流功率密度分布图，对热控多层靶标毁伤图像和靶面外热流功率密度分布图按照N×N网格进行相同尺度的全靶面划分，以获得N2个网格单元，其中热控多层靶标毁伤图像是试验后热控多层的毁伤形貌正面图像，用于对网格单元内的毁伤状态判定；靶面外热流功率密度分布图是试验时辐照在热控多层靶标表面上的功率密度分布图，用于网格单元内的平均功率密度的计算确定不同平均功率密度分别对应的毁伤概率，相应的，确定不同毁伤概率下热控多层的阈值功率密度。
一种多层毁伤阈值确定方法

[实用新型]磁控靶及其靶芯-CN201920257418.9有效
发明人：刘洋;汪振南;雷绍温;杨永雷;见东伟 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种磁控靶的靶芯，包括靶基座、第一磁体以及第二磁体。靶基座具有安装面。第一磁体设置于安装面。第一磁体具有第一磁极面。第一磁极面远离安装面设置。第二磁体与第一磁体相邻设置于安装面。同时使得使磁力路径变长，更多的等离子体聚集在靶表面。在相同电场E的作用下，更多的等离子轰击靶材，溅射出更多的沉积物质，使沉积物质更多的沉积附着在正对的基片表面。因此，可以在相同时间，使溅射速率更快，靶材利用率提高。
磁控靶及其

[发明专利]电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置-CN201310733941.1有效
发明人：张小波;赵升升;王玉河 -专利权人：深圳市微普诺薄膜技术有限公司;深圳市速普仪器有限公司
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置包括平面磁控阴极模块、控制电机模块及闭环控制模块；平面磁控阴极模块包括磁路模块、靶材；控制电机模块包括电机、电机驱动模块及编码模块；电机驱动模块分别连接电机及编码模块，通过闭环控制模块采集平面磁控阴极模块的溅射阴极的溅射电源信号作为反馈信号，而编码模块则将反馈信号编码为电机驱动模块驱动电机转动的控制信号，因而能够控制电机的转速和转向，使得与电机连接的磁路模块与靶材表面的距离在靶材寿命周期内保持动态不变。从而能够克服现有磁控溅射平面阴极在靶材溅射寿命周期内因靶材刻蚀导致的工艺参数漂移，以排除其工艺调试研发中对薄膜结构性能的影响。
电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置

[实用新型]电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置-CN201320874588.4有效
发明人：张小波;赵升升;王玉河 -专利权人：深圳市微普诺薄膜技术有限公司;深圳市速普仪器有限公司
申请日： 2013-12-26 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置包括平面磁控阴极模块、控制电机模块及闭环控制模块；平面磁控阴极模块包括磁路模块、靶材；控制电机模块包括电机、电机驱动模块及编码模块；电机驱动模块分别连接电机及编码模块，通过闭环控制模块采集平面磁控阴极模块的溅射阴极的溅射电源信号作为反馈信号，而编码模块则将反馈信号编码为电机驱动模块驱动电机转动的控制信号，因而能够控制电机的转速和转向，使得与电机连接的磁路模块与靶材表面的距离在靶材寿命周期内保持动态不变。从而能够克服现有磁控溅射平面阴极在靶材溅射寿命周期内因靶材刻蚀导致的工艺参数漂移，以排除其工艺调试研发中对薄膜结构性能的影响。
电机闭环控制磁控溅射平面阴极装置

[发明专利]一种磁控溅射系统-CN201110358232.0无效
发明人：赵科新;佟辉;周景玉;刘丽华;张雪;戚晖 -专利权人：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
申请日： 2011-11-11 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及镀膜设备，具体地说是一种磁控溅射系统，包括磁控室、基片转台、基片转台驱动电机、传动机构、磁控靶、机台架、真空抽气系统及电动提升机构，磁控室安装在机台架上、与位于机台架内的真空抽气系统相连，在磁控室内均布有多个安装在磁控室下法兰上的磁控靶；基片转台转动安装在磁控室上盖上，所载基片位于磁控室内、各磁控靶的上方，磁控室上盖上还安装有基片转台驱动电机，基片转台通过传动机构由驱动电机驱动旋转；机台架内安装有电动提升机构，其输出端由机台架穿出、与磁控室的上盖相连接
一种磁控溅射系统

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