[发明专利]纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料和制备方法有效

专利信息
申请号: 201410162403.6 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN103956261A 公开(公告)日: 2014-07-30
发明(设计)人: 刘保亭;贾艳丽;闫启庚;施健;李晓红;代秀红;郭建新;周阳;赵庆勋 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: H01F41/18 分类号: H01F41/18;H01F10/18;C23C14/35;C23C14/34;C23C14/08
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 苏艳肃
地址: 071002 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料及其制备方法,其制备采用磁控脉冲激光共溅射方法实现,本发明磁控脉冲激光共溅射装置的激光靶位选用纯度>99.95%的LaxN1-xMyO3陶瓷激光靶材,在磁控靶位选择纯度>99.99%的Pt金属磁控靶材;应用脉冲激光轰击靶材时,LaxN1-xMyO3靶材溅射物本身在缺氧的条件下会化学分解成磁性金属M和LaNMO4电介质两种材料,该磁性金属材料再与磁控溅射的金属材料结合成磁性合金MPt,最终能够获得纳米多功能铁磁复合薄膜MPt:LaNMO4。本发明可实现对纳米铁磁性复合薄膜磁学、光学、电学性能的调控,实现复合薄膜的多功能化。
搜索关键词: 纳米 结构 多功能 复合 薄膜 材料 制备 方法
【主权项】:
纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料的制备方法,其特征在于采用磁控脉冲激光共溅射方法实现,具体包括以下步骤:①在磁控脉冲激光共溅射装置的激光靶位选用纯度>99.95%的LaxN1‑xMyO3陶瓷激光靶材,磁控靶位选择纯度>99.99%的Pt金属磁控靶材;其中,M=Fe、Ni、Co、Cr或Mn, N=Ca,Sr,Bi或Ba;0<X≤1, 0<Y; ②将厚度0.1 mm‑2 mm的衬底置于磁控脉冲激光共溅射装置中的样品台上;③生长纳米多功能铁磁复合薄膜:真空室的背底真空度为(0.01~10)×10‑4 Pa , 激光脉冲溅射的靶间距为1~10 cm, 磁控溅射的靶间距为1~15 cm, 准备溅射时充入高纯氩气,保持动态平衡溅射气压为0.01~80 Pa,激光脉冲溅射功率密度为0.1~5 J/cm2, 激光溅射频率为1~10 Hz,磁控溅射功率密度为0.15~10 W/cm2,得到10‑1000 nm 的MPt: LaNMO4纳米结构多功能铁磁复合薄膜材料,其中Pt来自于磁控溅射,M来自于激光靶材LaxN1‑xMyO3分解的单质金属。
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