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[发明专利]一种密封内衬、半导体设备平台及维护方法-CN202211018511.7有效
发明人： 杨永雷;刘自强;秦志坚;尹宁 -专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C18/52 文献下载
摘要：本发明公开了一种密封内衬、半导体设备平台及维护方法。所述半导体设备平台包括相互连接的第一腔体和第二腔体，所述第一腔体包括连通第一腔体内外的第一端口，所述第二腔体包括连通第二腔体内外的第二端口；所述密封内衬包括：内衬本体，所述内衬本体与第一端口和第二端口分别连接；密封装置，所述密封装置设置于内衬本体，用于内衬本体与第一端口的密封、及内衬本体与第二端口的密封；所述内衬本体可以在所述第一腔体的内部进行安装或拆卸。本发明解决了现有技术的更换腔体间密封圈操作不便、费时费力的技术问题，缩短了维修周期，降低了生产成本，同时具有理想的密封效果，且能避免密封圈污染工艺处理环境。
一种密封内衬半导体设备平台维护方法

[实用新型]一种阀门组件、阀门装置及半导体设备平台-CN202221825854.X有效
发明人： 杨永雷 -专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种阀门组件、阀门装置及半导体设备平台，所述阀门组件设置于传输腔和工艺腔之间；所述阀门组件包括：主体，主体包括上表面、第一表面和第二表面，第一表面与第二表面相对，上表面与第一表面和第二表面连接，且第一表面与工艺腔连接，第二表面与传输腔连接；主体上开设有贯穿第一表面和第二表面的传送口，传送口用于连通传输腔和工艺腔；主体上还开设有气体通道，气体通道从上表面延伸至传送口；吹扫装置，设置于主体的上表面，用于将吹扫气体通过气体通道通入传送口。本实用新型既可以实现晶圆的传送以及维持工艺腔内的真空环境，还可以向工艺腔内供应吹扫气体，以吹扫工艺腔内的污染颗粒，从而保证工艺腔内的洁净度。
一种阀门组件装置半导体设备平台

[实用新型]一种通讯工程机柜扩容用外置分纤箱-CN202222045258.6有效
发明人：张杰伟;陈强;杨永雷;王辉;王景景;陈珺;孔东东;赵尧;张二艳;余道洋;平菊菊;黄程龙;辛锋 -专利权人：中国铁塔股份有限公司淮南市分公司;张杰伟
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G02B6/44 文献下载
摘要：本实用新型属于外置分纤箱技术领域，具体涉及一种通讯工程机柜扩容用外置分纤箱，包括带有遮雨盖的机柜，所述机柜的一侧悬空安装有外置分纤箱体；所述机柜的内部安装有四个彩钢螺丝，四个所述彩钢螺丝的一端均贯穿机柜并插入至外置分纤箱体中，所述外置分纤箱体中安装有四个螺母，四个所述螺母分别旋合在四个彩钢螺丝上；本实用新型设置了位于机柜一侧相互配合的外置分纤箱体、彩钢螺丝和螺母，将外置分纤箱体通过彩钢螺丝和螺母悬空安装在机柜的一侧，以此将外置分纤箱体与机柜一体化结合，并将原有柜内原有的光纤盒迁出，腾出空间，解决了新增一体化机柜建设周期较长，成本造价高的问题。
一种通讯工程机柜扩容外置分纤箱

[外观设计]外延设备-CN202130881064.8有效
发明人： 杨永雷;燕春;杨进 -专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： 24-01 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：外延设备。2.本外观设计产品的用途：用于化学气相外延设备淀积硅衬底上的外延层。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
外延设备

[实用新型]一种晶圆传输用机器人末端托片及半导体设备-CN202121286466.4有效
发明人： 杨永雷;燕春;杨进 -专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆传输用机器人末端托片及半导体设备，所述机器人末端托片形成有一向内凹陷的用于承载晶圆的承载区域，所述承载区域内包括相连接的第一自定心接触面和第二自定心接触面；所述第二自定心接触面在所述凹陷内的位置低于所述第一自定心接触面在所述凹陷内的位置，所述第二自定心接触面的倾斜角度小于所述第一自定心接触面的倾斜角度；在自定心结束后，所述第二定心接触面作为所述晶圆的支撑面。本实用新型能够保证传输过程中晶圆会自动定心到达理想位置。
一种传输机器人末端半导体设备

[发明专利]批处理用晶圆支撑架和加载互锁真空室-CN202110807117.0在审
发明人： 杨永雷;燕春;杨进 -专利权人：江苏天芯微半导体设备有限公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提供了一种批处理用晶圆支撑架，所述晶圆支撑架设置于加载互锁真空室，其特征在于，包括顶板、至少两根支撑柱和基板，所述支撑柱一端固定于所述顶板，另一端固定于所述基板；每一所述支撑柱沿其延伸方向上设置有多个垂直其延伸方向的支撑平台，多个所述支撑平台上处于同一平面的支撑平台用于放置一片晶圆。所述晶圆支撑架可一次运送多片晶圆，提升了晶圆运送的效率；并且在现有技术基础上，结合所述晶圆支撑架的特点重新设计了一种与之配套使用的加载互锁真空室。
批处理用晶圆支撑架加载互锁真空

[发明专利]供气装置-CN201910577685.9在审
发明人：张伟;江振南;杨永雷;见东伟;邬英 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本申请提供一种供气装置，包括至少一个匀气室和安装板；所述匀气室用于将氛围气体缓冲后输出到镀膜腔，所述匀气室设有至少一个进气口和多个用于将氛围气体输送到所述镀膜腔的出气孔；所述安装板用于将所述匀气室与所述镀膜腔密封固定到一起。本申请采用匀气室将氛围气体气流缓冲均匀后再由出气孔输送到镀膜腔内，缓冲后的氛围气体压力均匀，从出气孔流出速度趋紧统一。
供气装置

[发明专利]磁控溅射靶-CN201910150575.4在审
发明人：刘洋;汪振南;见东伟;杨永雷 -专利权人：领凡新能源科技（北京）有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种磁控溅射靶，所述磁控溅射靶包括靶头、靶芯主体、靶材筒，所述靶芯主体容置在所述靶材筒内，所述靶头与所述靶芯主体连接；所述磁控溅射靶还包括：冷却结构，所述靶头上设有第一口和第二口，所述冷却结构包括相互连通的第一腔和第二腔，所述第一腔位于所述靶芯主体内部，所述第二腔位于所述靶材筒与所述靶芯主体之间，所述第一腔与所述靶头上的所述第一口连通，所述第二腔与所述靶头上的所述第二口连通。所述磁控溅射靶具有较好的冷却效果，能够提高磁控溅射靶的运行稳定性。
磁控溅射

[实用新型]磁控溅射靶-CN201920255138.4有效
发明人：刘洋;汪振南;见东伟;杨永雷 -专利权人：领凡新能源科技（北京）有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开一种磁控溅射靶，所述磁控溅射靶包括靶头、靶芯主体、靶材筒，所述靶芯主体容置在所述靶材筒内，所述靶头与所述靶芯主体连接；所述磁控溅射靶还包括：冷却结构，所述靶头上设有第一口和第二口，所述冷却结构包括相互连通的第一腔和第二腔，所述第一腔位于所述靶芯主体内部，所述第二腔位于所述靶材筒与所述靶芯主体之间，所述第一腔与所述靶头上的所述第一口连通，所述第二腔与所述靶头上的所述第二口连通。所述磁控溅射靶具有较好的冷却效果，能够提高磁控溅射靶的运行稳定性。
磁控溅射

[实用新型]磁控靶及其靶芯-CN201920257418.9有效
发明人：刘洋;汪振南;雷绍温;杨永雷;见东伟 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种磁控靶的靶芯，包括靶基座、第一磁体以及第二磁体。靶基座具有安装面。第一磁体设置于安装面。第一磁体具有第一磁极面。第一磁极面远离安装面设置。第二磁体与第一磁体相邻设置于安装面。第二磁体具有与第一磁极面极性相反的第二磁极面，且第二磁极面远离安装面设置。第二磁极面在远离第一磁体的方向上高度逐渐降低。本实用新型可以使磁场跑道的范围增大，使溅射范围得以增大。同时使得使磁力路径变长，更多的等离子体聚集在靶表面。在相同电场E的作用下，更多的等离子轰击靶材，溅射出更多的沉积物质，使沉积物质更多的沉积附着在正对的基片表面。因此，可以在相同时间，使溅射速率更快，靶材利用率提高。
磁控靶及其

[实用新型]轴密封结构-CN201822044795.2有效
发明人： 杨永雷;汪振南;见东伟 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2018-12-06 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： F16J15/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种轴密封结构，其中，该轴密封结构包括：壳体，壳体的外部具有一底部呈锥形的凹孔；密封结构，密封结构密封设于轴体和壳体之间的凹孔间隙，且密封结构的底部与凹孔底部外形相配，其中，轴体在轴线方向贯穿凹孔；压盖，盖设于凹孔的开口，用于紧压密封结构。本实用新型通过将壳体凹孔的底部设置成锥形，并将与凹孔底部外形相配的密封结构密封在壳体和轴体之间的间隙，并利用压盖压紧密封结构，密封结构在受力的过程中，密封结构发生形变，与轴体和壳体紧密配合，阻断了气体沿轴体轴线方向的泄漏；具有密封效果好、不易发生气体泄漏的优点。
密封结构凹孔壳体轴体本实用新型轴密封结构外形相配压盖密封紧压密封结构密封效果好紧密配合壳体凹孔气体泄漏压紧密封轴体轴线轴线方向形变盖设受力泄漏开口贯穿外部

[实用新型]一种衬底材料切割设备-CN201821989575.0有效
发明人：见东伟;汪振南;雷绍温;杨永雷;张伟;邬英;刘洋 -专利权人：领凡新能源科技(北京)有限公司
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底材料切割设备，包括安装架和固定安装于所述安装架的底座；所述安装架上设置有上切刀装置，所述上切刀装置与第一驱动件连接；所述上切刀装置在所述第一驱动件的驱动作用下靠近或远离所述底座；所述上切刀装置上还设置有衬底材料夹具；所述衬底材料夹具连接至第二驱动件，并在所述第二驱动件的驱动作用下靠近或远离所述底座；所述衬底材料夹具的下表面设置有展平部件。上述技术方案，通过在衬底材料夹具的下表面设置有展平部件，在衬底材料夹具向底座靠近的过程中，展平部件将卷曲的衬底材料展平，提高了衬底材料的品质。
衬底材料夹具上切刀装置驱动件展平底座安装架下表面驱动切割设备卷曲

[实用新型]压紧装置及切割设备-CN201822268851.0有效
发明人：朱子超;汪振南;见东伟;杨永雷 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： B26D7/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种压紧装置及切割设备，压紧装置包括：支撑件(11)，具有用于支撑待压紧件的支撑面(111)；压紧机构(20)，设置在支撑件(11)的上方，并可沿垂直于支撑面(111)的方向移动；第一驱动组件(30)，第一驱动组件(30)与压紧机构(20)连接，用于带动压紧机构(20)移动；压紧装置还包括：限位机构(40)，限位机构(40)与压紧机构(20)连接，用于限制压紧机构(20)压紧待压紧件后产生向上的位移。本实用新型的技术方案增加限位机构，限制压紧机构压紧待压紧件后产生向上的移动，保证压紧的可靠性，避免在工作状态下出现误松开的情况，更加可靠、安全。
压紧机构限位机构压紧装置压紧件压紧本实用新型驱动组件支撑件支撑面方向移动切割设备移动松开垂直支撑安全保证

[实用新型]磁控溅射镀膜装置及磁控溅射镀膜生产线-CN201822240112.0有效
发明人：陈道逵;汪振南;杨永雷 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种磁控溅射镀膜装置及磁控溅射镀膜生产线，磁控溅射镀膜装置包括第一本体和第二本体。第一本体设有第一腔体。第二本体与第一本体相对设置，靶材安装于第二本体上，第二本体用于密封第一腔体以形成镀膜腔。运输轨道与第一本体连接，第二本体与运输轨道可滑动连接，第二本体能沿运输轨道滑动，第二本体能与第一本体密封连接。该磁控溅射镀膜装置及磁控溅射镀膜生产线的零部件如靶材等的检修和更换较为方便，维护难度小。
磁控溅射镀膜装置运输轨道磁控溅射镀膜第一腔体靶材本实用新型可滑动连接密封连接相对设置滑动镀膜腔密封检修零部件维护

[实用新型]校准工装和校准系统-CN201822240144.0有效
发明人： 杨永雷;雷绍温;张伟;刘洋 -专利权人：山西米亚索乐装备科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种校准工装，用于校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置。校准工装包括工装主体。工装主体包括第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面。第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面两两相互垂直且相交。第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面分别作为校准的参考面。在校准时，可以通过比较磁场扫描设备与第一校准平面、第一校准平面或第三校准平面上不同区域的相对位置是否一致，来判断磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置是否符合要求。同时，在校准过程中，可以明确得到磁场扫描设备安装上不符合要求的具体部位及原因，便于用户做针对性调整，从而避免了盲目调整验证，节省了工作流程，提高了工作效率。
校准磁场扫描工装主体安装座工装靶材本实用新型工作流程工作效率设备安装参考面相交垂直验证

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