专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种变配电站边缘控制器的设计方法-CN202010756774.2在审
  • 费章君;万尚军 - 南京征途信息技术有限公司
  • 2020-07-31 - 2020-10-13 - H02J13/00
  • 本发明公开了一种变配电站边缘控制器的设计方法。该方法主要包括主控模块、触摸显示屏、传感器/智能模块接口、开关量模块、门禁控制模块、视频管理模块、以太网通信模块、无线通信模块、千兆交换机、电源模块。该边缘控制器通过各种接口采集变配电站环境信息、安防信息、视频信息、设备运行信息,通过智能策略运算做出及时响应,生成正常运行信息或报警信息,同时产生控制命令对现场设备进行相应控制,消除或缓解设备隐患,保证站内设备正常运行边缘控制器同时将上述信息通过以太网通信模块或无线通信模块上传云端做进一步处理,也可以接收来自云端控制信息,实现对当地设备的监控,从而实现了物‑云‑人的物联网交互架构。
  • 一种配电边缘控制器设计方法
  • [发明专利]面向移动边缘计算的协同任务卸载算法及系统设计方案-CN201810613564.0有效
  • 宋令阳 - 北京大学
  • 2018-06-14 - 2020-10-09 - H04W28/08
  • 本发明公开一种移动边缘计算场景下的协同任务卸载算法及其系统设计方案。该系统基于数据流任务,提出无线接入点和云计算中心协同工作的计算概念,将计算任务卸载到网络中不同层节点,实现负载分流。本发明结合系统阻塞态判断,设计了可调度任务卸载算法。在阻塞状态,本发明优化系统吞吐量以缓解阻塞情况从而减小任务延时。在非阻塞状态,本发明通过调度任务卸载策略降低任务延时。该方法兼容现有的移动通信网络系统框架设计,只需对于现有通信网络系统进行更新,无需额外硬件成本,即可实现,具有较好的实用性。
  • 面向移动边缘计算协同任务卸载算法系统设计方案
  • [实用新型]一种减少畸变和边缘减薄的新型设计QTYPE镜片-CN201720531330.2有效
  • 汪山献松;陈国贵 - 上海伟星光学有限公司
  • 2017-05-15 - 2017-12-15 - G02C7/02
  • 本实用新型涉及一种减少畸变和边缘减薄的新型设计QTYPE镜片,其镜片表面面型结构从中心到边缘为四层结构,第一层从中心开始的一个圆形结构,圆形的直径为2.80cm;第二层是第一层外部边缘开始的一个椭圆形结构,椭圆长轴为3.40cm,短轴为2.20cm;第三层是从第二层外部边缘开始的一个椭圆形结构,椭圆长轴为3.20cm,短轴为4.50cm;第四层是从第三层外部边缘开始的一个圆形结构本实用新型的第一层圆形区域屈光度和镜片光学中心的屈光度一致这样设计可以有效减少镜片表面的光学畸变,同时对镜片的边缘有很好的减薄效果。
  • 一种减少畸变边缘新型设计qtype镜片
  • [发明专利]边缘检测装置和边缘检测方法-CN201480076728.0在审
  • 加岛隆博;对马尚之 - 三菱电机株式会社
  • 2014-03-05 - 2016-10-26 - G06T7/13
  • 提供针对图像信息的图像内的变动较少的边缘能够提高边缘检测的检测率的边缘检测装置、边缘检测方法和程序。边缘检测装置具有:第1处理部(42),其使用包含第1像素块的第1局部区域的多个像素的像素值,求出第1像素块中的像素值的变动方向;第2处理部(42),其使用包含与第1像素块不同的第2像素块的第2局部区域的多个像素值,求出第2像素块中的像素值的变动方向;以及第3处理部(43),其将第1像素块的像素中的像素值的变动方向与第2像素块的像素中的像素值的变动方向之差为基准值以上的所述第1像素块作为边缘
  • 边缘检测装置方法
  • [发明专利]边缘曝光机及边缘曝光方法-CN201810402251.0有效
  • 王威 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2018-04-28 - 2020-07-28 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种边缘曝光机及边缘曝光方法。该边缘曝光机包括:用于从基板上方曝光基板边缘的光源;用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫;位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板,当边缘曝光机对一基板边缘曝光时,所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围;还包括平移机构,用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置,以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。本发明还提供了相应的边缘曝光方法。本发明的边缘曝光机及边缘曝光方法,减少反射光线光强对基板照射的影响,很好的解决真空垫亮暗不均的产生,减少良率损失。
  • 边缘曝光方法

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