[发明专利]边缘曝光机及边缘曝光方法有效
| 申请号： | 201810402251.0 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN108388087B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 王威 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;刘巍 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种边缘曝光机及边缘曝光方法。该边缘曝光机包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。本发明还提供了相应的边缘曝光方法。本发明的边缘曝光机及边缘曝光方法，减少反射光线光强对基板照射的影响，很好的解决真空垫亮暗不均的产生，减少良率损失。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种边缘曝光机，其特征在于，包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。
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