专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]改善边缘放置误差的方法-CN202210859062.2在审
  • 戴韫青 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2022-07-20 - 2022-11-01 - G03F1/36
  • 本发明提供一种改善边缘放置误差的方法,提供设计版图,对设计版图第一次光学临近修正得到第一光罩图形;其中,第一光罩图形上形成有至少一个片段图形,使得第一光罩图形呈阶梯状,第一光罩图形的第一曝光后轮廓与设计版图间存在第一边缘放置误差;在第一光罩图形存在高度差处插入补偿图形,得到第二光罩图形;根据第二光罩图形得到第二曝光后轮廓,使得第二曝光后轮廓与设计版图间存在的第二边缘放置误差小于第一边缘放置误差。本发明在光罩修正图形中落差较大的两图形之间生成一个阶梯状的图形做为缓冲,曝光产生的轮廓有较小的边缘放置误差(EPE),并且其轮廓上的波浪现象也减弱。
  • 改善边缘放置误差方法
  • [发明专利]边缘放置误差的检测方法-CN202111013392.1在审
  • 朱晓亮;张家锦 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-08-31 - 2023-03-03 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种边缘放置误差的检测方法,包括:提供一掩模版,形成有包括剂量测试图形和边缘粗糙度测试图形的测试标记;根据测试标记执行曝光工艺,并检测获得影响边缘放置误差的参数,参数包括照明位置精度、剂量重复性影响值、套刻误差边缘粗糙度影响值和局部CD均匀性误差;根据参数设计包括第一前层图形和第一当层图形的边缘放置误差测试图形;执行曝光和显影工艺,检测第一前层图形与第一当层图形之间的套准位置,以判断边缘放置误差是否在容许量内本发明的技术方案能够拟合出套刻误差和CD均匀性误差等参数在边缘放置误差中的占比或者能够获得各个参数与边缘放置误差之间的关系式。
  • 边缘放置误差检测方法
  • [发明专利]次分辨率辅助图形校正方法-CN200910045706.9有效
  • 李承赫 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2009-01-23 - 2010-07-28 - G03F1/14
  • 一种次分辨率辅助图形校正方法,包括:设置辅助图形,确定辅助图形参数的初始值;移动主图形的边缘,并计算主图形的边缘放置误差,获得对应于所述辅助图形参数的所述主图形边缘放置误差的最小值;根据主图形边缘放置误差的所述最小值,计算主图形边缘的图案参数,获得与所述主图形边缘图案参数最大值所对应的辅助图形参数;重复主图形边缘放置误差和主图形图案参数的计算步骤,对辅助图形参数进行更新,直至确定辅助图形,使对应的主图形的边缘放置误差为零以及具有最大的图案参数
  • 分辨率辅助图形校正方法
  • [发明专利]将板状件放置在加工机中的装置和方法-CN201080032180.1有效
  • M·卡笛罗;让-克劳德·丽贝艾德 - 鲍勃斯脱股份有限公司
  • 2010-07-16 - 2012-05-23 - B65H9/12
  • 一种用于将板状件(10)放置在加工机(1)中的方法,所述加工机包括用于将这些板状件(10)放置在传送器(30)的多个夹持构件(31)中的进料器(20),所述传送器以有节奏的流将所述板状件传送到相继的站(所述方法包括以下相继的步骤,在每个板状件(10)的前进过程中:通过检测所述板状件(10)的前边缘或后边缘,测量板状件(10)相对于理论位置的纵向放置误差和角度放置误差;根据所测量的纵向放置误差和角度放置误差控制进料器(20);激活固定装置(21),以便将板状件(10)安装在进料器(20)上;通过检测印刷在所述板状件上(10)的对准标记(12),测量安装在进料器(20)上所述板状件(10)相对于理论位置的纵向放置误差、横向放置误差和角度放置误差
  • 将板状件放置加工中的装置方法
  • [发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版-CN202111001006.7在审
  • 杜杳隽 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2021-08-30 - 2023-03-03 - G03F1/36
  • 光学邻近修正方法及掩膜版,方法包括:提供原始版图图形;获取原始版图图形的边缘轮廓;将原始版图图形的边缘轮廓分割成多个分段;以第一窗口为单位分割原始版图图形;以第一窗口为窗口内区创建第二窗口;第二窗口包括第一窗口的窗口外区,第一窗口与第二窗口共中心;基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息,对窗口内外区的分段的边缘放置误差执行加速迭代计算,修正原始版图图形,获取目标版图图形。因在修正原始版图图形时,基于分段的边缘放置误差受相邻分段的修正量的影响的信息进行,即考虑到相邻分段之间的关联效应,使得所确定的每个分段的修正量具有较高的精度。
  • 光学邻近修正方法掩膜版
  • [发明专利]一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质-CN202211586936.8在审
  • 请求不公布姓名 - 华芯程(杭州)科技有限公司
  • 2022-12-09 - 2023-04-18 - G03F1/36
  • 本申请公开了一种芯片边缘放置误差确定方法、装置、设备、存储介质,涉及光学邻近校正技术领域,包括:对芯片仿真的光刻胶图形边缘进行像素化处理,获取目标像素;利用预设编码方式对目标像素进行编码,获取目标像素编码对目标像素编码进行适应性评估,并从与目标像素编码对应的目标像素中选择出第一目标像素;基于第一目标像素生成第一目标像素种群,并输出第一目标像素种群的目标适应值;利用目标适应值对PID控制器的参数进行调整,确定芯片边缘放置误差对光刻胶图形边缘进行像素化处理并且基于对目标像素编码的适应性评估的方式选择合适的适应值,将目标适应值至PID控制器的参数调整中,实现简单便捷的确定芯片边缘放置误差
  • 一种芯片边缘放置误差确定方法装置设备存储介质

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