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[实用新型]蒸镀源-CN201720006481.6有效
发明人：何瑞亭;李晓康 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸镀源，属于蒸镀技术领域。所述蒸镀源包括蒸镀本体和n个加热部件，所述n大于1，所述蒸镀本体包括为中空结构的坩埚、环绕设置在所述坩埚外壁的加热丝和设置有n个喷嘴的坩埚盖，所述坩埚盖设置在所述坩埚开口端；所述n个加热部件设置在所述坩埚内本实用新型解决了相关技术中蒸镀源蒸镀的可靠性较差的问题，提高了蒸镀源蒸镀的可靠性，用于显示装置。
蒸镀源

[发明专利]蒸镀源-CN201410018043.2在审
发明人：高晟洙;金在福;宋原准;李宽熙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明公开一种蒸镀源。根据本发明的一实施例的蒸镀源包括：主体部件，形成为使有机物从上侧排出；加热单元，包括形成于所述主体部件的下部的第一线圈部和形成于所述主体部件的上部且比所述第一线圈部释放相对更多的热量的第二线圈部。即，蒸镀工艺在有机物于开口部发生凝固而对蒸镀源实施维护期间中断的情形变少，因此使蒸镀源的维护周期变长，从而可提高生产率。
蒸镀源

[发明专利]蒸镀源清洁设备及蒸镀系统-CN201910459263.1有效
发明人：方刚;陈策;王宝友;尹俊 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀源清洁设备及蒸镀系统。该蒸镀源清洁设备包括真空腔室、设置在真空腔室内的第一蒸镀源加热单元和第二蒸镀源加热单元，第一蒸镀源加热单元包括支撑部，支撑部用于放置至少一个点蒸镀源，第一蒸镀源加热单元内能够生成热辐射以对点蒸镀源进行清洁；第二蒸镀源加热单元与第一蒸镀源加热单元间隔分布，第二蒸镀源加热单元包括用于放置线蒸镀源或面蒸镀源的至少一个容置槽，容置槽能够产生热辐射对线蒸镀源或面蒸镀源进行清洁。本发明公开的蒸镀源清洁设备能够去除点蒸镀源、线蒸镀源以及面蒸镀源的杂质，不会对蒸镀腔室的工艺造成影响，进而可以提升蒸镀效率，提升蒸镀系统稼动率。
蒸镀源清洁设备系统

[实用新型]一种蒸镀机-CN201821175507.0有效
发明人：张珅骏 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种蒸镀机，包括至少一个蒸镀腔室，在蒸镀腔室内设置有用于放置待蒸镀基板的基座，还包括蒸镀源轨道，在蒸镀源轨道上设置有多种蒸镀材料源，该蒸镀材料源在蒸镀源轨道上运行，使得蒸镀材料源能够对基座上放置的待蒸镀基板进行蒸镀在蒸镀机内设置蒸镀源轨道，不同的蒸镀材料源在该蒸镀源轨道上运行，当一种蒸镀材料源运行到对准待蒸镀基板时，对基板进行蒸镀，蒸镀完成后该蒸镀材料源继续沿着蒸镀源轨道运行，另一种蒸镀材料源对准蒸镀基板进行蒸镀，以此完成对基板的整个蒸镀过程。解决了现有技术中一块待蒸镀基板需要多次在不同对位机构上进行对位，导致蒸镀周期长，且多次进行对位会使玻璃基板破片几率成倍增长的问题。
蒸镀材料蒸镀源蒸镀蒸镀基板蒸镀机轨道对基板对位对准玻璃基板破片本实用新型对位机构轨道运行蒸镀腔室源运行蒸镀腔室内

[发明专利]真空蒸镀机台的蒸镀源装置及其蒸镀方法-CN200610156631.8有效
发明人：李兴铨 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2006-12-29 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种真空蒸镀机台的蒸镀源装置及其蒸镀方法，该真空蒸镀机台包括有复数蒸镀源装置。每一蒸镀源装置包括有主要蒸镀源、至少一备用蒸镀源以及控制电路，控制电路分别与该主要蒸镀源以及备用蒸镀源电性连接，由控制电路使主要蒸镀源以及备用蒸镀源在不同的时域中作动。本发明可以提高蒸镀制造工艺的生产效率。
真空机台蒸镀源装置及其方法

[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法-CN201810609169.5有效
发明人：贾文斌;孙力;施槐庭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，属于显示领域。所述蒸镀装置包括：蒸镀基台、蒸镀源基台、移动组件和至少两组蒸镀源，每组蒸镀源包括至少一个蒸镀源；所述蒸镀基台用于固定待蒸镀的基板；所述移动组件与所述蒸镀源基台固定连接，所述移动组件用于带动所述蒸镀源基台由所述待蒸镀的基板的一端移动至所述待蒸镀的基板的另一端；所述至少两组蒸镀源沿所述蒸镀源基台的移动方向，依次固定设置在所述蒸镀源基台靠近所述蒸镀基台的一侧，所述至少两组蒸镀源在同一时刻的有效蒸镀面积不重叠，其中，每组蒸镀源用于在所述蒸镀过程中形成一个蒸镀膜层本发明有效地提高了蒸镀装置的蒸镀效率。本发明用于制造显示面板中的膜层。
装置方法

[发明专利]蒸镀粒子射出装置及蒸镀装置、以及蒸镀膜制造方法-CN201780095302.3有效
发明人：西口昌男 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：蒸镀粒子射出装置(1)具备：第二蒸镀源(20)、及在Y轴方向上夹着第二蒸镀源的第一蒸镀源(10)和第三蒸镀源(30)。在第一蒸镀源及第三蒸镀源中，在X轴方向上排列着朝向第二蒸镀源倾斜的多个喷嘴(12、31)。在第二蒸镀源中，在X轴方向上排列着朝向第一蒸镀源倾斜的多个喷嘴(23)和朝向第三蒸镀源倾斜的多个喷嘴(22)。
粒子射出装置以及镀膜制造方法

[发明专利]蒸镀装置及利用此的蒸镀量测量方法-CN201310325675.9有效
发明人：朱星中;车裕敏;朴锡焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-07-30 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：根据本发明的蒸镀装置包括：多个蒸镀源，喷射蒸镀物质；基板固定部，将基板固定为与蒸镀源面对；蒸镀源挡板，布置在蒸镀源的一侧，并可开闭各个蒸镀源的入口；主挡板，布置在蒸镀源和固定于基板固定部的基板之间，并构成为使蒸镀物质的一部分穿过而蒸镀到基板根据本发明的实施例，可有效率地掌握存在问题的蒸镀源而均匀地调整多个蒸镀源的蒸镀量。而且，通过准确地掌握存在问题的蒸镀源，可减少材料的损失。
装置利用蒸镀量测量方法

[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL元件-CN201580041850.9有效
发明人：越智贵志;川户伸一;小林勇毅;松永和树;菊池克浩;市原正浩;松本荣一 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2015-07-24 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：在蒸镀装置(11)中设置有：第一蒸镀源(12)及第二蒸镀源(13)；与该第一蒸镀源(12)及第二蒸镀源(13)连接的共用配管(27)；与共用配管(27)连接并且放出来自第一蒸镀源(12)及第二蒸镀源(13)中的各个蒸镀源的蒸镀颗粒的蒸镀颗粒放出源(29)；与蒸镀颗粒放出源(29)连接的排气阀(32)；和与排气阀(32)连接的排气泵(34)。
装置方法有机 el 元件

[发明专利]蒸镀设备及蒸镀方法-CN200410088841.9无效
发明人：周国庆 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2004-11-05 - 公布日： 2006-05-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种蒸镀方法，适用于蒸镀设备，以将蒸镀源蒸镀至基板上。此蒸镀设备具有纯化室与蒸镀室，其中纯化室内设置有加热装置，而蒸镀室内设置有成膜装置。首先，提供蒸镀源于纯化室内，其中蒸镀源表面形成杂质。然后，通过加热装置加热蒸镀源，以使杂质成为气体而与蒸镀源分离。接着，将蒸镀源移至蒸镀室内，以通过成膜装置将蒸镀源蒸镀至基板上。因此，此蒸镀方法可在成膜之前除去杂质，以提供较佳之方法合格率。
设备方法

[发明专利]蒸镀方法及蒸镀设备-CN201710055136.6有效
发明人：彭兆基;邱林;李倩;何麟;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀方法及蒸镀设备。上述蒸镀方法包括如下步骤：将蒸镀材料放置于蒸镀设备的蒸镀源中，将蒸镀源与待蒸镀基板相对设置，且蒸镀源的开口朝向待蒸镀基板；对蒸镀源进行加热至预设温度后，移动蒸镀源和/或待蒸镀基板，使蒸镀源相对于待蒸镀基板采用上述蒸镀方法进行蒸镀时，即使TS距离较小，由于蒸镀源相对于待蒸镀基板，在平行于待蒸镀基板的平面上移动的轨迹为波浪线，则shadow effect贡献度低、分布均匀且无周期性波动，不容易形成低视角G向mura，从而能够提高蒸镀PPI。此外，本发明还涉及一种可采用上述蒸镀方法的蒸镀设备。
方法设备

[实用新型]一种掺杂蒸镀源喷嘴结构-CN201721486236.6有效
发明人：何文双;吴炜钦;罗武峰;蔡晓义;柯贤军;苏君海;李建华 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2017-11-09 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型提供一种掺杂蒸镀源喷嘴结构，所述掺杂蒸镀源喷嘴设置于掺杂蒸镀源上，在所述掺杂蒸镀源两侧各设有主体蒸镀源，所述主体蒸镀源上设有主体蒸镀源喷嘴，位于两个所述主体蒸镀源喷嘴中间的掺杂蒸镀源喷嘴设有至少两个喷嘴支管，所述喷嘴支管中的至少两个分别朝向两侧的主体蒸镀源喷嘴。本实用新型改造了掺杂蒸镀源的喷嘴结构，使得掺杂蒸镀源喷嘴由向上方喷出掺杂材料改进为可向左右方向喷出掺杂材料，提高左右两侧的主体蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，同时降低掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料含量，使得主体蒸镀源喷嘴与掺杂蒸镀源喷嘴上方的掺杂材料与主体材料含量一致
蒸镀源喷嘴掺杂掺杂材料蒸镀源本实用新型喷嘴喷出支管掺杂均匀性喷嘴结构器件产品主体材料左右两侧改进改造

[实用新型]蒸镀设备-CN202122005493.6有效
发明人：赵利;孙军旗;刘芳军;孙玉群;鲁艳春 -专利权人：北海惠科半导体科技有限公司
申请日： 2021-08-24 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种蒸镀设备，具有一蒸镀腔体，所述蒸镀设备包括：蒸镀源和蒸镀锅；蒸镀源，设置在所述蒸镀腔体的底部；其中，所述蒸镀源的数量设置至少两个，每个所述蒸镀源间隔排布，且每个所述蒸镀源到所述蒸镀腔体的中心线的距离相等；蒸镀锅，设置在所述蒸镀腔体的顶部，所述蒸镀锅在所述蒸镀腔体内绕所述中心线公转；其中，单个所述蒸镀源用于将蒸镀材料转化为气体分子蒸镀材料，所述气体分子蒸镀材料在所述蒸镀腔体中运动形成单个蒸镀区域；所有所述单个蒸镀区域构成总蒸镀区域，所述蒸镀锅对应设置在所述总蒸镀区域内。本实用新型实施例以此提高了蒸镀的效率。
设备

[发明专利]一种连续蒸镀系统及使用方法-CN202211034070.X在审
发明人：李再兴;李浩毅;张奇;李端科 -专利权人：中能兴盛（香河）机电设备有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本申请提供一种连续蒸镀系统及使用方法，设计主坩埚、次坩埚及材料室，通过监控蒸镀源重量变化连续向蒸镀室补充蒸镀源，而不必一次加入大量的蒸镀源，实现较长时间的连续蒸镀作业；通过在蒸镀室内设计第一浓度检测仪和第二浓度检测仪，利用蒸镀源气体浓度控制基板向蒸镀室输送的连续性，使基板在蒸镀源气体浓度均匀性较高的环境中形成蒸镀层，提高了蒸镀层质量的一致性；通过在蒸镀室内设计蒸镀罩，有效控制了蒸镀源气体的扩散方向，使其沿蒸镀源气体通道均匀的沉积在基板上，进一步提高了蒸镀质量的均匀性和一致性；通过设计挡板，加快了蒸镀罩内蒸镀源气体浓度的均匀化速度，既提高了蒸镀作业效率，也可以节约蒸镀源，提高蒸镀源利用率。
一种连续系统使用方法

[实用新型]蒸镀源及蒸镀装置-CN201920182065.0有效
发明人：沈文涛;高超飞;葛晶涛;刘旭亮;张明照 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蒸镀源及蒸镀装置。蒸镀源包括：蒸镀源盖板，用于支撑蒸镀源盖板的支撑体；蒸镀源盖板相对于支撑体可旋转设置；其中，蒸镀源盖板包括盖板本体，盖板本体上设有贯穿盖板本体的至少一个贯通槽，且至少一个贯通槽呈螺旋状排布。应用本实用新型技术方案的蒸镀源及蒸镀装置，由于蒸镀材料能够从贯通槽中喷射至待蒸镀基板上，蒸镀过程中，蒸镀源盖板旋转，能够使蒸镀材料在喷射时发生旋转扩散，保证喷射出的蒸镀材料的均匀性，从而有利于改善成膜的均匀性
蒸镀源盖板盖板本体蒸镀材料贯通槽喷射本实用新型蒸镀装置均匀性支撑体可旋转设置呈螺旋状蒸镀基板成膜排布蒸镀扩散贯穿支撑应用保证

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