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[发明专利]用光导来形成导电通孔-CN201880035594.6有效
发明人： G·巴特利;M·多伊尔;D·贝克尔;M·珍森 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H05K3/42 文献下载
摘要：本发明提供一种用光导来形成导电通孔的方法和结构。在示例性实施例中，该方法包括：在基体材料中垂直于基体材料的平面的方向上提供通孔；将光致抗蚀剂层施加到所述通孔的内表面，将光导插入所述通孔，通过所述光导将所述光致抗蚀剂层的一部分曝光，从而产生所述光致抗蚀剂层的曝光部分和所述光致抗蚀剂层的未曝光部分，去除所述光致抗蚀剂层的一部分，并用金属镀覆所述通孔的去除了所述光致抗蚀剂层的区域，由此得到所述通孔的镀有金属的一部分和所述通孔的未镀有金属的一部分。
用光形成导电

[发明专利]聚乙烯吡罗烷酮在制药中的新用途-CN200810012609.5无效
发明人：潘卫三;张志宏;关津;聂淑芳;孙光美;彭博 -专利权人：沈阳药科大学
申请日： 2008-08-05 - 公布日： 2009-01-07 - 主分类号： A61K47/32 文献下载
摘要：通常用做口服固体制剂的黏合剂，在口服液体制剂中作为增稠剂，在缓控释制剂中做黏合剂、阻滞剂、促渗剂等。本发明中PVP可以作为致孔剂用于口服渗透泵制剂的处方设计。以PVP作为致孔剂，包衣膜要比PEG等作为致孔剂的包衣膜光亮，外观更好。PVP具备做致孔剂的良好特性，是聚乙二醇作为致孔剂的良好替代品。PVP的加入可以调节包衣膜的水通透率，从而调节药物的释放速率。
聚乙烯吡罗烷酮制药中的用途

[发明专利]一种可降低卷烟主流烟气中CO等有害物质释放量的致孔卷烟纸的制备方法-CN201410130879.1有效
发明人：银董红;罗玮;王平军;陈泽亮;钟科军 -专利权人：湖南中烟工业有限责任公司
申请日： 2014-04-02 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： D21H27/00 文献下载
摘要：一种可降低卷烟主流烟气中CO等有害物质释放量的致孔卷烟纸的制备方法，将卷烟纸纤维素的裂解催化剂与致孔剂添加到卷烟纸中；所述的裂解催化剂与致孔剂的质量比为1∶10-20∶1；所述的裂解催化剂与致孔剂在卷烟纸中总的添加量为0.3-3.0g m^-2；将纤维木浆、疏解、打浆、然后添加无机填料，经脱水、纸张成型、压榨、烘干、喷洒裂解催化剂与致孔剂混合溶液、再烘干、卷取、复卷制得，提高主流烟气中CO的扩散能力
一种降低卷烟主流烟气 co 有害物质释放制备方法

[发明专利]用于促进波导内的全内反射的气穴结构-CN201980090867.1在审
发明人：邓晓培;V·辛格;杨书强;K·罗;N-W·皮;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： G02B6/10 文献下载
摘要：将固体致孔剂材料旋涂到前侧和后侧并填充凹槽。然后在波导的凸起构造和固体致孔剂材料上形成第一前盖层和第一后盖层。然后加热整个结构并且固体致孔剂材料分解成致孔剂气体。第一前盖层和第一后盖层是多孔的，以允许致孔剂气体逸出并且空气进入凹槽中。空气使波导的高折射率透明材料和空气之间的折射率差异最大化，以促进在波导中的从波导和空气之间的界面的反射。
用于促进波导反射气穴结构

[发明专利]合成革的制备方法-CN201410083037.5有效
发明人：刘超;李苏;赵尚振 -专利权人：安踏（中国）有限公司
申请日： 2014-03-07 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： D06N3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种合成革的制备方法，所述合成革的制备方法按以下步骤进行首先使用添加有致孔剂的第一聚氨酯组合物浸渍布基；其次利用洗脱剂将凝聚于所述布基上的所述致孔剂洗脱出，从而于凝聚有聚氨酯层的所述布基中形成空隙；其中，所述致孔剂既溶于所述第一聚氨酯组合物又溶于所述洗脱剂的高分子聚合物；本发明中所提供的合成革的制备方法中在浸渍布基的第一聚氨酯组合物中加入了致孔剂，并且在后期将凝聚于布基上的致孔剂脱出，这样，致孔剂脱出后布基上形成空隙，该空隙形成透湿通道，可以提高透湿效果；并且，致孔剂的脱出属于微观颗粒，不会影响布基以及附着于布基表面的聚氨酯的整体连接面，不会降低合成革的力学性能。
合成革制备方法用于聚氨酯组合

[发明专利]核壳结构球形致孔剂及其用于制备三维细胞支架-CN201210202659.6有效
发明人：陈际达;王天会;宋永婷;郭菊仙;林聪;罗浩;谭忠燕 -专利权人：重庆大学
申请日： 2012-06-19 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： B01J13/02 文献下载
摘要：一种核壳结构球形致孔剂及其用于制备三维细胞支架的方法，所述的致孔剂其核为具有较高的强度的碳酸钙/海藻酸钙复合物，壳为具有弹性的海藻酸钙水凝胶，该致孔剂是通过第一步在砂磨机中配制碳酸钙/海藻酸钠悬浮液；第二步制备致孔剂微球的核，其粒径在200-1000μm；第三步将第二步制得的微球过滤，沸腾干燥、筛分微粒，得到需要粒径的微粒；第四步过滤致孔剂，并转入20%的氯化钙溶液中浸泡1h，过滤，用蒸馏水反复冲洗至无游离钙离子，即获得核壳结构的致孔剂用所述的核壳结构球形致孔剂可以制备出孔隙间相互连通、孔隙直径大小和连通通道直径可以人为控制的三维细胞支架，且操作简便快速，适宜于工业化生产。
结构球形致孔剂及其用于制备三维细胞支架

[发明专利]原位低介电常数加盖以改良整合损坏抗性-CN201180057643.4无效
发明人： K·S·伊姆;J·徐;S·恩戈;A·T·迪莫斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2013-08-07 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：该方法包含：将基板安置在处理区域内；在存在等离子体的情况下，将有机硅化合物与氧化气体以及提供致孔剂的前驱物反应，以将包含硅、氧及碳的含致孔剂的低k介电层沉积在基板上；将包含硅、氧及碳的多孔介电加盖层沉积在含致孔剂的低k介电层上；以及紫外线(UV)固化含致孔剂的低k介电层及多孔介电加盖层，以经由多孔介电加盖层从含致孔剂的低k介电层中移除致孔剂的至少一部分，以将含致孔剂的低k介电层转化为具有气隙的多孔低k介电层。
原位介电常数加盖改良整合损坏抗性

[发明专利]用于制造半导体器件的方法-CN200710142599.2无效
发明人：全承镐 -专利权人：东部高科股份有限公司
申请日： 2007-09-04 - 公布日： 2008-03-12 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种用于制造半导体器件的方法，包括在具有底层的半导体基底上涂覆光致抗蚀剂层；在光致抗蚀剂层上执行软烤过程；在已经经过软烤过程的光致抗蚀剂层上执行曝光过程；在由曝光过程形成的光致抗蚀剂图形孔上执行曝后烤(PEB)过程；在已经经过PEB过程的光致抗蚀剂图形孔上执行显影过程；在已经经过显影过程的光致抗蚀剂图形孔上执行硬烤过程。本方法改进PR图形孔的环形度以在照相术过程后的蚀刻过程中改进接触轮廓，使器件操作可靠性的提高。
用于制造半导体器件方法

[发明专利]一种金属离子固定化改性硅胶整体柱及其制备方法-CN201710147147.7有效
发明人：林旭聪;陈雨晴;徐雯;谢增鸿 -专利权人：福州大学
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： B01D15/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属离子固定化改性硅胶整体柱及其制备方法，其是由含金属离子的功能单体、纳米笼型硅氧烷交联剂、致孔剂和引发剂组成；所述致孔剂是以苯类致孔剂、醇类致孔剂、酰胺类致孔剂组成的三元体系。
一种金属离子固定改性硅胶整体及其制备方法

[发明专利]多孔丝素支架的制备方法-CN201110435546.6有效
发明人：张克勤;廖银琳 -专利权人：苏州大学
申请日： 2011-12-22 - 公布日： 2012-06-13 - 主分类号： C08J9/26 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种多孔丝素支架的制备方法，包括如下步骤：(1)制备丝素溶液；(2)制备丝素支架模板：将致孔剂微球分散在溶剂中并使得致孔剂微球有序排列，然后通过干燥处理获得丝素支架模板，所述致孔剂微球为尺寸均匀的PS微球或PMMA微球；(3)将丝素溶液注入到丝素支架模板中，然后通过干燥固化获得支架；(4)去除支架中的致孔剂微球，干燥后得到多孔丝素支架。本发明采用尺寸均匀的PS微球或PMMA微球作为致孔剂以制备丝素支架模板，由于PS微球或PMMA微球尺寸的可控性，所以可以对多孔丝素支架中的孔及孔隙进行调控，而且所获得孔的有序度高，孔隙间的连通性较好。
多孔丝素支架制备方法

[发明专利]一种致介孔剂及其制备的多级孔分子筛-CN202010338241.2在审
发明人：洪梅;杨世和;王涯;董磊;王彦顶 -专利权人：北京大学深圳研究生院
申请日： 2020-04-26 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C01B39/54 文献下载
摘要：一种致介孔剂及其制备的多级孔分子筛，致介孔剂为类氨基酸结构的两性离子小分子，致介孔剂的分子结构上存在羧基负离子；致介孔剂制备多级孔分子筛步骤包括凝胶的制备、晶化反应和焙烧处理。本发明中制备多级孔结构分子筛使用的类氨基酸结构两性离子小分子致介孔剂，具有环境友好、成本低廉的特点，原位水热合成的制备工艺操作简单，适合规模化工业生产；合成的多级孔结构分子筛具有微孔‑介孔结构，有利于提高分子筛中微孔结构的利用率
一种致介孔剂及其制备多级分子筛

[发明专利]一种全氟聚合物中空纤维多孔膜及其制备方法-CN201010255949.8有效
发明人：肖长发;黄庆林;胡晓宇;安树林 -专利权人：天津工业大学
申请日： 2010-08-18 - 公布日： 2010-11-17 - 主分类号： B01D71/32 文献下载
摘要：本发明公开一种全氟聚合物中空纤维多孔膜及其制备方法，该膜的成膜体系重量百分比配方组成为：全氟聚合物40~60；聚合物添加剂10~30；复合致孔剂10~30；有机低分子液体5~20，各组分之和为100%，全氟聚合物是四氟乙烯基与全氟第二单体共聚改性产物；聚合物添加剂为含氟烷烃聚合物或其混合物；复合致孔剂包括可溶性致孔剂和非溶性致孔剂；有机低分子液体为高沸点的聚合物添加剂的稀释剂。该制备方法先将聚合物添加剂、复合致孔剂和有机低分子液体强制混合；再将混合物与全氟聚合物颗粒混均；然后注入双螺杆机，在300-360℃温度下熔融共混纺丝，最后经常规后处理即得。
一种聚合物中空纤维多孔及其制备方法

[发明专利]沉积用掩模的制造方法-CN201610227809.7有效
发明人：郑性基;姜圭修 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-04-13 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明一实施方式公开了沉积用掩模的制造方法，该方法包括以下步骤：在衬底的外表面上涂覆第一光致抗蚀剂层；在第一光致抗蚀剂层上布置第一光掩模，并且在调节第一光致抗蚀剂层与第一光掩模之间的距离的同时曝光第一光致抗蚀剂层的一部分；对第一光致抗蚀剂层进行显影以在第一光致抗蚀剂层中形成第一掩模图案孔；在第一掩模图案孔中镀上第一金属层；以及去除第一光致抗蚀剂层。
沉积用掩模制造方法

[发明专利]一种聚醚醚酮中空纤维多孔膜及其制备方法-CN202210290846.8有效
发明人：赵玉潮;黄岩;杨浩;翟哲;王清强;金楠 -专利权人：烟台大学
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B01D67/00 文献下载
摘要：方法包括以下步骤：A.聚合物致孔剂和无机致孔剂复配成可完全溶出的复合致孔剂，与聚醚醚酮树脂和添加剂预混后，挤出切粒得到聚醚醚酮中空纤维膜纺丝专用粒料；B.纺丝粒料在挤出机中充分熔融，经圆环形中空喷丝组件挤出，内部通入气体，经喷丝头拉伸、中空熔体固化、在线拉伸卷绕、热处理后，在线萃洗出复合致孔剂，干燥得到聚醚醚酮中空纤维膜。本发明复合致孔剂粒子复配方式可增强有机/无机粒子混合分散效果，避免团聚；通过熔融挤出、在线拉伸、定型、萃洗成型，得到具有多重贯通微孔结构聚醚醚酮中空纤维膜，有效解决聚醚醚酮熔纺致孔难题，大大提高膜孔隙率和通量
一种聚醚醚酮中空纤维多孔及其制备方法

[发明专利]光致抗蚀剂去除组合物、制造半导体装置和封装件的方法-CN202210185641.3在审
发明人：尹孝鎭;金承源;金泰永;朴友情;裵珍惠;申贤燮;李玟泰;韩勋;金文荣;金文昌;梁哲模;崔允硕 -专利权人：三星电子株式会社;KPX化工有限公司
申请日： 2022-02-28 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：提供了一种光致抗蚀剂去除组合物以及使用该组合物制造半导体装置和半导体封装件的方法。所述光致抗蚀剂去除组合物包括极性有机溶剂、烷基氢氧化铵、不包括羟基的脂肪胺和一元醇。为了制造半导体装置，可以在基底上形成光致抗蚀剂图案，然后可以将光致抗蚀剂去除组合物施加到光致抗蚀剂图案。为了制造半导体封装件，可以在基底上形成包括多个通孔的光致抗蚀剂图案。可以在所述多个通孔内部形成包括金属的多个导电柱，并且可以通过将发明构思的光致抗蚀剂去除组合物施加到光致抗蚀剂图案来去除光致抗蚀剂图案。半导体芯片可以在相应的导电柱之间粘附到基底。
光致抗蚀剂去除组合制造半导体装置封装方法