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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于边缘密封剂和层压坝的光学装置通气间隙-CN201980049076.4有效
发明人：邢文栋;V·辛格;N·P·瑞克斯;J·D·施穆伦;E·D·卡罗尔;K·B·宾克利;F·Y·徐;T·默西埃;W·H·韦尔奇;M·A·克鲁格 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及一种光学装置，例如目镜，其包括多个波导层。光学装置可以包括用于减少光污染的边缘密封剂、限制光学装置的层之间的边缘密封剂的芯吸的层压坝、以及允许在目镜的外部与内部之间的空气流动的位于密封剂与坝中的通气间隙。间隙允许从具有未反应的聚合物和/或累积的水分的目镜的内部排气，以防止由排出的化学物质与目镜层的(例如，离子、酸性等)表面的化学反应引起的缺陷累积。间隙还防止可能随时间而物理地使目镜变形的压力差。
用于边缘密封剂层压光学装置通气间隙

[发明专利]制造单片光子器件的方法、光子器件-CN201780052297.8有效
发明人： S·D·巴加特;C·佩罗兹;V·辛格;F·Y·徐 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2017-08-23 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G02B1/04 文献下载
摘要：制造高折光指数光子器件包括将可聚合组合物布置在第一衬底的第一表面上和使所述可聚合组合物与第二衬底的第一表面接触，由此将所述可聚合组合物铺展在第一衬底的第一表面上。将所述可聚合组合物固化以产生聚合物结构，其具有与第一衬底的第一表面接触的第一表面、与聚合物结构的第一表面相反并与第二衬底的第一表面接触的第二表面和10μm至1cm的在聚合物结构的第一表面和聚合物结构的第二表面之间的选择的残留层厚度。将所述聚合物结构与第一衬底和第二衬底分离以产生具有至少1.6的折光指数的单片光子器件。
制造单片光子器件方法

[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层-CN202310432964.2在审
发明人： V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;C·弗莱肯斯坦 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。一种配置光学层的压印光刻方法，包括以这样的方式在衬底的一面的顶部上沉积一组液滴，即该组液滴不接触形成在衬底上的功能图案。该压印光刻方法还包括固化该组液滴以形成间隔层，该间隔层与衬底的所述一面相关联且具有选择为使得该间隔层可以支承与衬底相邻并且在与功能图案间隔开的位置处跨越该组液滴的表面的高度。
压印光刻工艺配置光学

[发明专利]使用光栅耦合器的单侧图案化的光学目镜-CN202310086465.2在审
发明人： K·罗;V·辛格;N-W·皮;杨书强;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G02B25/00 文献下载
摘要：本发明涉及使用光栅耦合器的单侧图案化的光学目镜。目镜包括基板和在基板的单侧上图案化的耦入光栅。第一光栅耦合器被图案化在基板的单侧上并且具有第一光栅图案。第一光栅耦合器被光学耦合到耦入光栅。第二光栅耦合器邻近第一光栅耦合器被图案化在基板的单侧上。第二光栅耦合器具有不同于第一光栅图案的第二光栅图案。第二光栅耦合器被光学耦合到耦入光栅。
使用光栅耦合器图案光学目镜

[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层-CN201880015078.7有效
发明人： V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;C·弗莱肯斯坦 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种配置光学层的压印光刻方法，包括以这样的方式在衬底的一面的顶部上沉积一组液滴，即该组液滴不接触形成在衬底上的功能图案。该压印光刻方法还包括固化该组液滴以形成间隔层，该间隔层与衬底的所述一面相关联且具有选择为使得该间隔层可以支承与衬底相邻并且在与功能图案间隔开的位置处跨越该组液滴的表面的高度。
压印光刻工艺配置光学

[发明专利]使用光栅耦合器的单侧图案化的光学目镜-CN202080043479.0有效
发明人： K·罗;V·辛格;N-W·皮;杨书强;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G02B6/34 文献下载
摘要：目镜包括基板和在基板的单侧上图案化的耦入光栅。第一光栅耦合器被图案化在基板的单侧上并且具有第一光栅图案。第一光栅耦合器被光学耦合到耦入光栅。第二光栅耦合器邻近第一光栅耦合器被图案化在基板的单侧上。第二光栅耦合器具有不同于第一光栅图案的第二光栅图案。第二光栅耦合器被光学耦合到耦入光栅。
使用光栅耦合器图案光学目镜

[发明专利]用于将折射光学器件与衍射目镜波导显示器集成的方法和系统-CN202180034835.7在审
发明人：吴哲宇;R·K·科曼杜里;V·辛格;杨书强;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G02B6/26 文献下载
摘要：目镜波导包括具有世界侧和用户侧的一组波导层。目镜波导还包括：第一盖板，其具有第一屈光力并且与一组波导层的世界侧相邻地设置；以及第二盖板，其具有第二屈光力并且与一组波导层的用户侧邻近地设置。
用于折射光学器件衍射目镜波导显示器集成方法系统

[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层-CN202210838277.6在审
发明人： V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;S·杨 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及在压印光刻工艺中配置光学层。一种配置光学层的压印光刻方法包括选择要施加到基板上以改变基板的有效折射率的纳米层的一个或多个参数；以及在基板上压印纳米层以改变基板的有效折射率，使得可透射通过基板的相对光量改变选定的量。
压印光刻工艺配置光学

[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层-CN201880067545.0有效
发明人： V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;S·杨 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种配置光学层的压印光刻方法包括选择要施加到基板上以改变基板的有效折射率的纳米层的一个或多个参数；以及在基板上压印纳米层以改变基板的有效折射率，使得可透射通过基板的相对光量改变选定的量。
压印光刻工艺配置光学

[发明专利]用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻-CN202210366992.4在审
发明人： M·N·米勒;F·Y·徐;V·辛格;E·C·布洛伊;J·舍费尔;R·D·泰克尔斯特;V·K·刘;S·巴尔加瓦;J·D·施穆伦;B·T·朔文格特 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：描述了使用围限结构和/或图案光栅减少或防止密封剂聚合物(例如胶水)芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶，如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构，如边缘图案以控制和围限封边胶的毛细流动并防止封边胶芯吸到这些层的功能波导光栅图案中。此外，封边胶可用碳掺杂或以其它方式加黑以减少光从边缘反射回层内部，由此改进该组装件的光学功能。
用于光学器件边缘密封剂光晕减轻

[发明专利]带有具有降低的偏振灵敏度的衍射光栅的显示装置-CN202080075176.7在审
发明人： V·辛格;K·罗;邓晓培;杨书强;F·Y·徐;K·梅塞尔 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： B82Y20/00 文献下载
摘要：衍射光栅在头戴式显示系统中提供光学元件，例如，将光耦入波导中或将光耦出波导。这些衍射光栅可以被配置为具有降低的偏振灵敏度。例如，这样的光栅可以以相似的效率水平将不同偏振的光耦入或者耦出。衍射光栅和波导可包括透射层和金属层。衍射光栅可包括闪耀光栅。
带有具有降低偏振灵敏度衍射光栅显示装置

[发明专利]生成虚拟内容显示-CN201780073910.4有效
发明人： K·罗;V·辛格;F·Y·徐 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2017-10-04 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G02B27/44 文献下载
摘要：一种生成虚拟图像的方法，包括将光束引导到目镜的第一侧，其中包括将所述光束透射到目镜的第一波导内；通过第一波导的第一衍射元件将光束的第一部分朝向目镜的第二波导偏转，光束的第一部分与光的第一相位相关联；通过位于目镜的第一侧上的突起将光束的第二部分朝向第二波导偏转，光束的第二部分与不同于第一相位的光的第二相位相关联；以及通过第二波导的第二衍射元件将光束的第一部分和第二部分中的一些部分偏转，以提供与虚拟图像相关联的基于第一相位和第二相位的出射光束。
生成虚拟内容显示

[发明专利]制造衍射光栅的方法-CN202080065471.4在审
发明人：杨书强;K·罗;V·辛格;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：一种制造闪耀衍射光栅的方法包括：提供主模板基板；以及在多个主模板区域中在主模板基板上压印周期性重复的线。主模板区域中的不同主模板区域中的周期性重复的线在不同的方向上延伸。该方法还包括：使用主模板区域中的至少一个作为主模板来在光栅基板上压印至少一个闪耀衍射光栅图案。
制造衍射光栅方法

[发明专利]具有偏振敏感性降低的衍射光栅的显示设备-CN202080065482.2在审
发明人： K·罗;V·辛格;N-W·皮;杨书强;F·Y·徐 -专利权人：奇跃公司
申请日： 2020-07-16 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：闪耀衍射光栅在头戴式显示系统中提供光学元件，以例如将光耦入到波导中或将光从波导耦出。这些闪耀衍射光栅可以被配置为具有降低的偏振敏感性。例如，这种光栅可以以相似的效率水平将不同偏振的光耦入或耦出。闪耀衍射光栅和波导可以形成在诸如铌酸锂的高折射率基板中。在一些实施方式中，闪耀衍射光栅可以包括具有40nm至120nm，例如80nm，的特征高度的衍射特征。衍射特征可以被蚀刻到例如铌酸锂的高折射率基板中。
具有偏振敏感性降低衍射光栅显示设备

[发明专利]用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻-CN201780051980.X有效
发明人： M·N·米勒;F·Y·徐;V·辛格;E·C·布洛伊;J·舍费尔;R·D·泰克尔斯特;V·K·刘;S·巴尔加瓦;J·D·施穆伦;B·T·朔文格特 -专利权人：分子印记公司
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：描述了使用围限结构和/或图案光栅减少或防止密封剂聚合物(例如胶水)芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶，如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构，如边缘图案以控制和围限封边胶的毛细流动并防止封边胶芯吸到这些层的功能波导光栅图案中。此外，封边胶可用碳掺杂或以其它方式加黑以减少光从边缘反射回层内部，由此改进该组装件的光学功能。
用于光学器件边缘密封剂光晕减轻

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