专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]触控装置的制作方法-CN201210527816.0有效
  • 陈建宇;叶家骏;庄文奇;陈逸祺 - 友达光电股份有限公司
  • 2012-12-10 - 2013-03-20 - G06F3/041
  • 本发明公开一种触控装置的制作方法,其包括提供具第一透明导电层的基板,图案化第一透明导电层形成下部触控感测层,再于基板上形成第一保护层与第一光抗蚀层,利用一光掩模图案化第一光抗蚀层使其具有第一开口并具有不同的厚度,移除厚度较小的部分以形成第二开口,然后图案化暴露出的第一保护层而形成开与接触洞。移除第一光抗蚀层后,依序形成第二透明导电层与第二光抗蚀层,利用同一光掩模以图案化第二光抗蚀层,使第二光抗蚀层具有对应于第一保护层开的第三开口,暴露出第二透明导电层,接着移除被暴露的第二透明导电层
  • 装置制作方法
  • [发明专利]形成T或伽玛形电极的方法-CN200610064335.5有效
  • 安浩均;林钟元;文载京;张宇镇;池弘九;金海天 - 韩国电子通信研究院
  • 2006-11-29 - 2007-07-25 - H01L21/28
  • 本发明提供一种形成精细T或伽玛形栅极电极的方法,包括:在半导体衬底上沉积第一绝缘层;在该第一绝缘层上涂覆具有彼此不同的敏感度的至少两个光抗蚀层,且构图该光抗蚀层以具有不同尺寸的开口;使用该光抗蚀层作为蚀刻掩模蚀刻该第一绝缘层以形成其中接触衬底的部分比其上面的部分窄的台阶式,并移除该光抗蚀层;在该第一绝缘层上形成光抗蚀层,并在该光抗蚀层中形成开口以具有T或伽玛形栅极头图案;关于栅极图案进行栅极凹进工艺;以及沉积栅极金属在该栅极图案上,并移除该光抗蚀层。
  • 形成伽玛形电极方法
  • [发明专利]一种煤层液态CO2-CN202211074864.9有效
  • 徐超;杨通;王凯;王梦溪;李丹;苏明清;周爱桃;郭海军 - 中国矿业大学(北京)
  • 2022-09-02 - 2023-03-10 - E21B43/26
  • 本发明公开了一种煤层液态CO2裂增透与循环堵漏装置及方法,包括抽采裂孔、抽采管、液态CO2裂装置、堵漏以及堵漏装置,在煤体相邻位置依次布置抽采裂孔,分别安装抽采管与液态CO2裂装置,并进行封作业;堵漏经进料口进入粉尘发生器中经注粉管吹入钻孔内部,悬浮的堵漏在裂隙与抽采管路之间形成的负压梯度作用下进入贯通裂隙中,并对流动通道进行堵塞;而多余的堵漏则在吸尘管的作用下排出钻孔内部、重新进入粉尘发生器,进而形成一个闭合、流动的循环回路,进而对钻孔裂隙进行有效地堵漏。本发明解决了裂过程中出现的漏风问题,避免了巷道风流窜入抽采管路引起抽采纯度降低、抽采效果下降等现象的发生。
  • 一种煤层液态cobasesub
  • [发明专利]导电通制作工艺-CN200410028292.6有效
  • 何昆耀;宫振越 - 威盛电子股份有限公司
  • 2004-03-09 - 2005-01-05 - H01L21/48
  • 一种导电通制作工艺。首先,形成至少一贯于一基板上,且此贯连接基板的第一表面与第二表面。接着,形成一光抗蚀层于基板的贯内壁、第一表面以及第二表面。然后,形成多个槽道于光抗蚀层上,其中每一槽道是自第一表面经由贯内壁,而延伸至第二表面,且这些槽道分别暴露出部分贯内壁、部分第一表面以及部分第二表面。最后,将一导电材质填入在每一槽道内,以分别形成一导线,并移除光抗蚀层。此导电通制作工艺可提供多重的信号连接路径。
  • 导电制作工艺
  • [发明专利]高深宽比开口及其制作方法-CN200510118414.5无效
  • 周珮玉;廖俊雄 - 联华电子股份有限公司
  • 2005-10-28 - 2007-05-02 - H01L23/522
  • 一种制作高深宽比接触的方法,包括提供半导体衬底,其具有导电区域、接触蚀刻停止层,及层间介电层;于该层间介电层上形成一光抗蚀图案,包括一开口,其位于该导电区域的正上方;利用该光抗蚀图案作为蚀刻硬掩模,并利用该接触蚀刻停止层为干蚀刻停止层,经由该开口各向异性干蚀刻该层间介电层,形成接触上半部部位;去除该光抗蚀图案;以及经由该接触上半部部位各向同性干蚀刻该接触蚀刻停止层,并形成加宽的接触底部
  • 高深开口及其制作方法
  • [实用新型]片剂冲具-CN90206993.4无效
  • 侯景孝;庄福玉 - 中国人民解放军空军医学专科学校
  • 1990-05-21 - 1990-12-12 - B30B11/34
  • 本实用新型涉及的片剂冲具属压片机用压冲模具的改进设计。它是由上冲、下冲、模圈等件组合构成的压冲模具,特点是在下冲上还设置有活动芯子,以及上、下冲冲头部位均具有与活动芯子呈滑动配合设置的轴向,压片时活动芯子头部嵌入上冲的轴向内而使由模圈、上、下冲冲头所形成的片剂成型充料空间中心具有活动芯子的芯体将该冲具用在不同型号的压力机上可生产出诸如带药片、哨糖、带的助剂触酶片等片剂产品。
  • 片剂致孔冲具

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