专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于生成结构色的多层级微纳结构-CN202211385454.6在审
  • 万晓霞;章倩;吕嘉旭;薛智爽;师祎菲 - 武汉大学
  • 2022-11-07 - 2023-03-14 - G02B5/00
  • 本申请公开了一种用于生成结构色的多层级微纳结构。该多层级微纳结构,包括衬底以及呈点阵状排布在衬底上的若干个结构色呈色单元;其中,结构色呈色单元由若干个点阵状排布的纳米所形成;当不同结构色呈色单元所确定的基色不同时,结构色呈色单元中所含有的纳米的整体排布状况不同,排布状况为排布周期、排布数量和纳米尺寸参数中的至少一者。以上提供的用于生成结构色的多层级微纳结构,根据纳米结构结构色呈色单元基色光谱的影响规律,利用结构色呈色单元的排列密度和大小控制结构色的阶调层次,实现颜色的混合,以解决现有结构色生成方法生成的结构色数量少
  • 一种用于生成结构多层级微纳
  • [发明专利]一种在光纤表面制备一维硅纳米结构阵列的方法-CN201310733552.9有效
  • 左则文 - 安徽师范大学
  • 2013-12-27 - 2014-04-09 - B81C1/00
  • 本发明涉及一种在光纤表面制备一维硅纳米结构的方法,通过对具有柱状微结构的多晶硅薄膜进行化学刻蚀,获得在光纤表面的一维硅纳米结构阵列。所述方法在清洁的石英光纤纤芯表面沉积非晶硅薄膜;然后对非晶硅进行高温退火,得到具有柱状微结构的多晶硅薄膜,并使部分晶分离;以HF酸加H2O2腐蚀溶液对多晶硅薄膜进行化学刻蚀,优先腐蚀掉晶之间的多孔界面层,使得晶之间进一步分离,并减小柱晶的尺寸,从而获得硅纳米线阵列;进一步的刻蚀导致晶从光纤表面脱离,留下下层的锥形纳米结构阵列。本制备方法简单,成本低廉,可以制备出分层的一维硅纳米结构阵列,能够对纳米线的长度、直径、掺杂类型及水平等实现有效控制,并且通过光纤盘绕或管式沉积设备可以实现长距离光纤上一维硅纳米结构阵列的制备,甚至允许卷到卷的制备过程
  • 一种光纤表面制备一维硅纳米结构阵列方法
  • [发明专利]量子点发光二极管及其制备方法-CN201811641059.3有效
  • 雷卉;曹蔚然 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2018-12-29 - 2021-07-06 - H01L51/52
  • 该量子点发光二极管包括底电极、顶电极以及设置在所述底电极和所述顶电极之间的量子点发光层,所述量子点发光二极管为底发射型量子点发光二极管,所述底电极靠近所述量子点发光层的表面设置有纳米结构;所述纳米结构中的纳米的侧边包覆有用于形成环形微腔的第一材料层,相邻两纳米侧边包覆的所述第一材料层之间设有第二材料,所述第一材料层的折射率大于所述纳米的折射率,且所述第一材料层的折射率大于第二材料的折射率。该纳米结构在光输出方向对输出光进行一定程度的振荡放大、限制引导,降低波导模式,从而提高器件出光效率。
  • 量子发光二极管及其制备方法
  • [发明专利]一种纳米压印用模版的制备及其应用-CN201110404116.8无效
  • 宋玉军 - 北京航空航天大学
  • 2011-12-07 - 2012-05-02 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种纳米压印用模版的制备及其应用,属于先进材料及纳米结构加工技术领域。制备纳米压印用模版的方法包括制备纳米与表面支撑层;在另外一基板上制备过渡层;将过渡层和表面支撑层粘接牢固;将多孔纳米氧化铝模版腐蚀掉,形成具有规则的突出的纳米结构纳米压印用模版的步骤。本发明的纳米压印用模版的特征尺寸可以小到5纳米,使用该模版可以低成本、大批量制备大面积无缺陷的规则排列的具有不同横截面形状的纳米线或纳米管。
  • 一种纳米压印模版制备及其应用
  • [发明专利]一种偏离化学计量比的Mg掺杂ZnO纳米及其制备方法-CN201711272755.7在审
  • 余璇;于晓明 - 浙江海洋大学
  • 2017-12-06 - 2018-05-04 - C01G9/02
  • 本发明涉及一种偏离化学计量比的Mg掺杂ZnO纳米及其制备方法,属于半导体材料技术领域。该Mg掺杂ZnO纳米的化学结构组成为MgxZnO;其中,0.7≤x≤0.9。其制备方法主要包括以下步骤配制纳米前驱溶液和制备Mg掺杂ZnO纳米,在配制纳米前驱溶液过程中Zn2+/Mg2+/pH值缓冲剂三者的摩尔比为1x1,其中x是化学计量比的偏离值,其在0.7≤x≤0.9本发明偏离化学计量比的Mg掺杂ZnO纳米制备方法简单,成本低,溶液组分易调控,可重复性强,适用于大面积商业化生产制造,制成的Mg掺杂ZnO纳米具有强光散射性能,在太阳能电池及光探测器件等领域有重要应用前景
  • 一种偏离化学计量mg掺杂zno纳米及其制备方法
  • [发明专利]一种QLED器件及其制备方法-CN201710724540.8有效
  • 刘佳;曹蔚然;梁柱荣 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2017-08-22 - 2020-05-26 - H01L51/50
  • 本发明公开一种QLED器件及其制备方法,包括石墨烯阴极、纳米金属中空、电子功能层、量子点发光层和阳极;所述纳米金属中空设置于所述石墨烯阴极上;所述电子功能层设置于所述纳米金属中空内和所述纳米金属中空间隙中;所述量子点发光层设置于所述纳米金属中空上和电子功能层上;所述阳极设置于所述量子点发光层上。本发明采用上述结构来增加电子注入,平衡载流子,增加QLED器件效率。一方面,G和金属在氧气作用下,氧化形成O‑‑X+偶极子,有助于电子注入。另一方面,电子功能层与纳米结构接触,可以增加接触面积,增加注入量。同时,金属层的存在可以阻挡空穴,从而有效的平衡了电子和空穴,增加了效率。
  • 一种qled器件及其制备方法

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