专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种几何图形绘制的方法、装置、设备及存储介质-CN202011017679.7有效
  • 朱玉荣;请求不公布姓名;请求不公布姓名 - 安徽文香科技股份有限公司
  • 2020-09-24 - 2023-08-01 - G06T11/20
  • 本申请公开了一种几何图形绘制的方法、装置、设备及存储介质,该方法包括:获取从书写开始到书写结束期间的采样点坐标序列和采样点坐标序列构成的手绘几何图形,采样点坐标序列中的采样点按顺序形成采样点坐标列表。根据手绘几何图形获取包含手绘几何图形的最小外接矩形,再根据最小外接矩形和采样点坐标列表获得第一顶点、第二顶点和第三顶点。根据采样点坐标列表、第一顶点、第二顶点和第三顶点确定手绘几何图形对应的目标几何图形。最后,绘制手绘几何图形对应的目标几何图形。通过提供的几何图形绘制的方法,基于手绘几何图形,利用几何原理将用户的手绘几何图形自动识别并转换为规整的几何图形,过程简单、灵活,提升了用户的体验感。
  • 一种几何图形绘制方法装置设备存储介质
  • [发明专利]生成电路版图的方法、设备和计算机可读存储介质-CN202011504380.4在审
  • 不公告发明人 - 全芯智造技术有限公司
  • 2020-12-18 - 2021-03-30 - G06F30/392
  • 该方法包括:生成参考几何图形;以及基于参考几何图形,依次生成第一数量个几何图形,第一数量小于最终生成的电路版图中的几何图形的数目。在生成第一数量个几何图形中的目标几何图形时,目标几何图形为第一数量几何图形中的任意一个几何图形,执行如下操作执行:基于约束条件,确定目标几何图形在电路版图中的位置;以及基于相邻的一组几何图形的颜色和预定的多个颜色,对目标几何图形着色。在根据本公开的实施例的生成电路版图的方法中,在生成每个几何图形时,只需要利用DRC检查其与相邻的一个或多个几何图形之间的距离,不需要计算所有的几何图形之间的连接的数量。
  • 生成电路版图方法设备计算机可读存储介质
  • [发明专利]几何图形着色方法、电子设备和计算机可读存储介质-CN202011501865.8有效
  • 不公告发明人 - 全芯智造技术有限公司
  • 2020-12-17 - 2022-08-30 - G06T11/40
  • 本文描述了几何图形着色方法、电子设备和计算机可读存储介质。该方法包括:从与第一几何图形相邻的一组几何图形中确定第二几何图形,第一几何图形被着色成除预定颜色之外的第一颜色,第二几何图形被着色成预定颜色中的第二颜色,第二颜色不同于第一组几何图形中除第二几何图形之外的几何图形的颜色;对第一和第二几何图形重新着色获得重新着色的电路版图,第一几何图形被着色成第二颜色且第二几何图形被着色成预定多个颜色中的不同于第二颜色的第三颜色;确定重新着色的电路版图是否存在颜色相同的相邻几何图形;若确定不存在,保留对第一和第二几何图形的重新着色。以此方式,可以显著减小着色冲突,从而能够优化几何图形的着色。
  • 几何图形着色方法电子设备计算机可读存储介质
  • [外观设计]面动成体演示器-CN202230569220.1有效
  • 靳延 - 浙江扬光教育科技有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-12-27 - 19-07
  • 5.组件1为旋转支撑架,组件2为双面几何图形卡片(灯笼)、组件3为双面几何图形卡片(蝴蝶)、组件4为双面几何图形卡片(笼中鸟)、组件5为双面几何图形卡片(螃蟹)、组件6为双面几何图形卡片(苹果)、组件7为双面几何图形卡片(树)、组件8为双面几何图形卡片(西瓜)、组件9为双面几何图形卡片(小车)、组件10为双面几何图形卡片(雨伞)、组件11为双面几何图形卡片(三角形)、组件12为双面几何图形卡片(半圆)、组件13为双面几何图形卡片(梯形1)、组件14为双面几何图形卡片(正方形和三角形)、组件15为双面几何图形卡片(长方形)、组件16为双面几何图形卡片(梯形2)、组件17为双面几何图形卡片(双菱形)。
  • 成体演示
  • [发明专利]分析光掩模几何图形的系统和方法-CN200580041726.9无效
  • K·纳卡加瓦;P·巴克 - 凸版光掩膜公司
  • 2005-10-05 - 2007-11-14 - G06F19/00
  • 在生成了模拟几何图形(106)之后,可修正模拟的几何图形(106)用以生成预测的结果几何图形(108)。预测的结果几何图形(108)包括在把修正的几何图形(102)用作为成像光掩模坯的抗蚀剂层用于建立光掩模(52)的输入来处理光掩模(52)的情况下会形成在光掩模(52)的图案层(58)中的几何图形的预测。换言之,预测的结果几何图形(108)包括在对由模拟几何图形(106)所限定的图案层(58)的区域上执行蚀刻工艺的情况下会形成在图案层(58)中的几何图形的预测。
  • 分析光掩模几何图形系统方法
  • [实用新型]一种可绘制立体几何图形的绘图模板-CN200720101241.0无效
  • 温梦涛 - 温梦涛
  • 2007-04-26 - 2008-07-02 - B43L13/00
  • 本实用新型涉及一种可绘制立体几何图形的绘图模板。它以模板为主体,其特征在于模板主体上设有镂空的几何图形,所述几何图形的一顶角端至少开设一与几何图形相通的透槽。所述镂空的几何图形包括三角形、平行四边形、多边形、椭圆形。由于在现有绘图模板上设置了顶角端开设有垂直向下且等长透槽的三角形、平行四边形、多边形以及一内角为钝角的四边形镂空几何图形,在绘图中,沿镂空几何图形画出相应形状的轮廓线后,再沿顶角端的透槽画出直线并连接相应的直线,就可很快画出所需要的立体几何图形,有利于学生学习成绩的提高并可帮助学生三维空间概念的建立,且结构简单,设计构思巧妙,具有很好的推广利用前景。
  • 一种绘制立体几何图形绘图模板

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