专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]电容阵列结构-CN201721178000.6有效
  • 不公告发明人 - 睿力集成电路有限公司
  • 2017-09-14 - 2018-03-30 - H01L23/64
  • 本实用新型提供一种电容阵列结构,所述半导体衬底上形成有多个在内存数组结构中的焊盘,所述电容阵列结构包括下电极层,与所述焊盘接触,所述下电极层的截面形状为侧壁呈波浪状或矩形齿状的U型;电容介质层,覆盖于所述下电极层的内表面及外表面;及上电极层,覆盖于所述电容介质层的外表面。本实用新型的下电极板、电容介质层及上电极板表面轮廓呈波纹状或矩形齿状,在不增加电容高度的情况下,可以显着增加电容
  • 电容器阵列结构
  • [实用新型]电容阵列结构-CN201721469979.2有效
  • 不公告发明人 - 睿力集成电路有限公司
  • 2017-11-07 - 2018-05-22 - H01L23/64
  • 本实用新型提供一种电容阵列结构电容阵列结构设置于半导体衬底上,半导体衬底上形成有多个在内存数组结构中的焊盘,电容阵列结构包括:下电极层,接合于焊盘上,下电极层的截面形状为U型;电容介质层,覆盖于下电极层的内表面及外表面;上电极层,覆盖于电容介质层的外表面;及,上电极填充层,覆盖上电极层的外表面,并填满上电极层之间的间隙,上电极填充层的材质包含硼掺杂锗硅。本实用新型可以降低形成对的工艺温度,从而降低热预算对电容介质层的影响;同时可以提高载流子移动速率,从而可以降低填充层的电阻值。
  • 电容器阵列结构
  • [发明专利]半导体结构及半导体结构的制造方法-CN202011223554.X在审
  • 吴锋;朴相烈 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-11-05 - 2022-05-06 - H01L27/108
  • 本发明提供一种半导体结构及半导体结构的制造方法,涉及显示技术领域,该半导体结构包括基底,所述基底包括阵列区以及围绕所述阵列区的周边电路区,所述阵列区内设有阵列排布的多个电容,本发明通过使位于所述阵列区的边缘的数个所述电容中,任意连续相邻的三个所述电容的中心连线构成的一个虚拟角大于90°,避免位于阵列区的边缘上的数个电容中任意相邻的三个电容的中心连线形成直角,即,避免位于阵列区的边缘上的数个电容形成矩形图案,这样可以降低位于阵列区的边缘上的数个电容所受的应力,进而降低了位于阵列区的边缘上的数个电容的损坏几率,提高了半导体结构的存储性能。
  • 半导体结构制造方法
  • [实用新型]电容-CN200820155120.9有效
  • 黄威森;钱蔚宏;程仁豪;包自意 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2008-11-10 - 2009-09-16 - H01L29/92
  • 一种电容,包括第一电极和第二电极,所述第一电极包括E形结构和连接所述E形结构的中横线的直线结构,所述直线结构与所述E形结构的中横线构成T形;所述第二电极与第一电极的E形结构相互交错,并包围所述第一电极的E形结构。上述电容可以构成阵列电容或堆叠型电容。应用所述电容阵列电容或堆叠型电容可以获得较大的电容量和节省布局面积。
  • 电容器
  • [发明专利]存储器件及其制造方法-CN202211497500.1在审
  • 李善行;张日午;洪智琡 - 三星电子株式会社
  • 2022-11-24 - 2023-05-26 - H10B12/00
  • 在实施例中,一种存储器件包括存储单元阵列、第一虚设电容、第二虚设电容和第三虚设电容。存储单元阵列包括形成在基板上的栅极结构、与栅极结构相邻的第一有源区、设置在栅极结构与第一有源区之间的栅极绝缘层、以及连接到第一有源区的单元电容。第一虚设电容和第二虚设电容沿着第一方向和竖直方向延伸,并且被设置为在第二方向上与存储单元阵列相邻。第三虚设电容沿着第二方向和竖直方向延伸,并且被设置为在第一方向上与存储单元阵列相邻。存储单元阵列设置在第一虚设电容与第二虚设电容之间。
  • 存储器件及其制造方法

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