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[实用新型]一种地下连续墙施工结构-CN201821871347.3有效
发明人：田辉;游军;王利彪 -专利权人：天津中海水利水电工程有限公司
申请日： 2018-11-14 - 公布日： 2019-09-06 - 主分类号： E02D5/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种地下连续墙施工结构，属于地下工程建设领域；其技术方案要点是包括设于深槽两侧壁上的导墙以及设于深槽内的多个钢筋笼，还包括设于深槽内的导向柱，导向柱竖直设于深槽内，且和深槽的两侧壁贴合；本实用新型解决了钢筋笼容易和深槽侧壁碰撞，导致深侧壁发生坍塌问题，达到了防止钢筋笼和深槽侧壁发生碰撞，使深槽的侧壁不会发生坍塌，进而使低下连续墙的强度不会受到影响的效果。
深槽钢筋笼导向柱本实用新型地下连续墙深槽侧壁施工结构两侧壁侧壁贴合坍塌地下工程建设技术方案要点外圆周面连续墙导墙竖直

[发明专利]降低碳化硅深槽侧壁粗糙度的方法及器件-CN202211737046.2在审
发明人：刘辉;朱阳军;吴凯;张广银;徐真逸;杨飞;任雨 -专利权人：江苏芯长征微电子集团股份有限公司;南京芯长征科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L29/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种方法及器件，尤其是一种降低碳化硅深槽侧壁粗糙度的方法及器件。按照本发明提供的技术方案，一种降低碳化硅深槽侧壁粗糙度的方法，所述降低深槽侧壁粗糙度的方法包括：提供具有碳化硅深槽的碳化硅衬底；在上述碳化硅深槽内沉积覆盖所述碳化硅深槽侧壁的薄膜层，以利用所沉积的薄膜层平坦化碳化硅深槽的侧壁本发明能有效降低碳化硅深槽侧壁的粗糙度，与现有工艺兼容，安全可靠。
降低碳化硅侧壁粗糙方法器件

[发明专利]图像传感器、其制备方法及电子设备-CN202210097559.5有效
发明人：李玉科 -专利权人：广州粤芯半导体技术有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供一种图像传感器、其制备方法及电子设备，图像传感器包括：基底，基底中形成有间隔排列的至少两个光电转换元件；深槽，位于基底中相邻的两个光电转换元件之间，深槽具有第一宽度；第一旋涂式介电材料，填充于深槽的底部；单晶硅层，形成于深槽侧壁，使深槽的宽度缩小至第二宽度，第二宽度小于第一宽度；高K介质层，形成于深槽底部和侧壁；第二旋涂式介电材料，填满深槽。本发明大幅度提高了深槽的深宽比，同时避免了深槽填充时孔洞的产生。
图像传感器制备方法电子设备

[实用新型]一种半挂车厢零件加工用工作台-CN202022660806.7有效
发明人：周生勋;黄瑞田;黄洪鲁 -专利权人：山东旭腾车辆制造有限公司
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： B25H1/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半挂车厢零件加工用工作台，包括底座，所述底座上设有深槽一，所述深槽一内对称设有两个移动柱，所述移动柱贯穿于深槽一设置，所述移动柱通过连接装置与深槽一连接，所述连接装置包括在深槽一内对称固定设置的两个固定杆，两个所述固定杆上滑动套设有齿条一，两个所述齿条一远离深槽一侧壁的一端与移动柱固定连接，所述深槽一侧壁对称固定设有两个深槽二，两个所述深槽二内设有移动板，所述移动板贯穿于深槽二设置，所述深槽二底部固定设有多个弹簧
一种半挂车零件工用工作台

[实用新型]一种深槽型砖制作的通槽墙-CN202222253310.7有效
发明人：顾业明;罗高作;黄新星;顾家洋 -专利权人：顾业明
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： E04B2/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种深槽型砖制作的通槽墙，通槽墙包括：顺砖墙和丁砖墙，顺砖墙指120规格的墙，丁砖墙指200、240、300三种规格的墙；通槽墙包括深槽型砖，所述深槽型砖中部具有凹槽，所述凹槽两侧具有双侧壁，底部具有底壁，所述侧壁方向垂直向上，两侧的侧壁与顶部保持水平；所述深槽型砖同向砌筑形成槽砖层，所述深槽型砖的凹槽均横向布置，形成贯穿通道；从槽砖层的一端直通到另一端；上下相邻的深槽型砖相互错开排布形成通槽墙
一种深槽型砖制作通槽墙

[发明专利]一种圆筒体端面钻孔专用夹具-CN201810345910.1在审
发明人：曾庆富;张春华;温海峰;宋立平 -专利权人：哈尔滨建成集团有限公司
申请日： 2018-04-18 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： B23B49/02 文献下载
摘要：夹具主体上由上到下竖直开设有安装孔及定位深槽，钻套穿装在安装孔内，定位深槽弧形通槽，槽底水平设置，夹具主体上开设长孔，长孔的对称中心线由前到后水平设置，长孔的上、下两侧壁分别与安装孔及定位深槽的槽底相通，夹具主体的前部水平开设有螺纹孔，螺纹孔与定位深槽的前侧壁相通，工件的侧壁插装在定位深槽内，安装孔的中心轴线与定位深槽的后侧壁之间的垂直距离为圆筒体工件定位孔到圆筒体工件内孔边缘的距离。
定位深槽圆筒体安装孔夹具主体长孔钻孔专用夹具水平设置螺纹孔钻孔相通机械加工技术产品合格率对称中心线工件定位孔垂直距离工件端面工件内孔弧形通槽水平开设由上到下中心轴线定位孔后侧壁两侧壁面加工前侧壁侧壁插装穿装前部竖直钻套划线加工生产

[实用新型]一种剪板机快速定位靠栅-CN201920069737.7有效
发明人：姜胜平;姜胜刚;任明洋;康彦龙;吕河庆 -专利权人：新疆帅府高新技术有限公司
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： B23D33/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种剪板机快速定位靠栅，包括剪板机，所述剪板机上设有两个送料台，两个所述送料台上分别设有两个第一深槽和两个第二深槽，两个所述第一深槽和第二深槽的侧壁上均设有钢直尺，所述钢直尺上设有刻度，两个所述第一深槽的底部均固定连接有支架，两个所述第一深槽之间固定连接有铁板，两个所述第一深槽上均设有定位装置，所述定位装置包括滑动连接在第一深槽上的两个定位板。本实用新型提出的剪板机快速定位靠栅，可搭配剪板机自带的前移动定位共同使用，通过后定位板进行定位，定位板可沿着设定在定位台上的深槽滑动，在深槽侧壁上设有刻度表，根据不同规格的尺寸可快速定位。
深槽剪板机快速定位靠栅本实用新型定位装置定位板钢直尺后定位板滑动连接深槽侧壁移动定位滑动铁板刻度表送料台侧壁剪板送料支架自带搭配

[实用新型]一种基于优化刻槽技术的器件-CN201922465523.4有效
发明人：徐远 -专利权人：苏州矽航半导体有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于优化刻槽技术的器件，器件的材料为硅，器件上设有深槽，深槽的内腔侧壁已经BOE溶液清洗，深槽内沉积二氧化硅；未经BOE溶液清洗的内腔侧壁的粗糙程度大于清洗后的内腔侧壁的粗糙程度，未经BOE溶液清洗的内腔侧壁上生长有氧化层，BOE溶液将氧化层漂去；未生长氧化层的器件已被刻槽，器件上的深槽经等离子体干法刻蚀而成型，器件在刻蚀深槽前表面还设有硬掩模，在刻蚀的过程中器件与硬掩模均被消耗；在硬掩模被刻蚀前本实用新型所提及的器件的可以将深槽刻蚀引入的漏电控制在较低的水平。
一种基于优化技术器件

[发明专利]X射线金透射光栅的制备方法-CN201910555170.9有效
发明人：胡华奎;郑衍畅;唐冶;王铭;邱克强;刘正坤;付绍军;杨春来;王海 -专利权人：安徽工程大学
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种X射线金透射光栅的制备方法，该方法先使用金属催化刻蚀技术制作大槽深、侧壁陡直且光滑的硅光栅掩模，然后在硅光栅掩模槽中电镀沉积黄金，最后去掉硅光栅掩模获得大槽深、侧壁陡直且光滑的金透射光栅本发明与现有技术相比，其有益技术效果体现在：能制作出大槽深、侧壁陡直且光滑的金透射光栅。
射线透射光栅制备方法

[发明专利]一种深硅槽中选择性外延锗方法-CN202110956076.1在审
发明人：杨荣 -专利权人：杨荣
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明提供了一种深硅槽中选择性外延锗方法，包括：步骤1、在硅衬底表面沉积硬掩膜，并制作深硅槽；步骤2、在深硅槽的侧壁和底部同时选择性外延生长锗；步骤3、高温退火使侧壁锗材料再分布；步骤4、重复步骤2‑3使深硅槽处外延生长锗表面高于硬掩膜；步骤5、进行化学机械抛光使锗表面与硬掩膜表面齐平；步骤6、去除硬掩膜，完成深硅槽的选择性外延锗。本发明提出的方案在硅槽侧壁和底部同时外延锗/锗硅，结合高温锗再分布技术，可以在不影响形貌的情况下，实现深硅槽中锗/锗硅外延生长；并且无需在硅与锗中间插入氧化硅层，有利于提升硅波导到锗器件的耦合效率。
一种深硅槽中选择性外延方法

[实用新型]一种地下连续墙刷壁器-CN202320854305.3有效
发明人：吴烁;王晓琼;李世龙;白坤;郑衍彬;赵文亮;张成君;韩凤启 -专利权人：中铁十四局集团大盾构工程有限公司;中铁十四局集团有限公司
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： E02D13/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及刷壁器技术领域，具体涉及一种地下连续墙刷壁器，包括安装箱，安装箱的两侧均设置有用于对地下连续墙深槽侧壁进行刮刷的钢刷板一，安装箱的底部固定有用于对地下连续墙深槽底部进行刮刷的钢刷板二，安装箱的内部有调节机构该刷壁器通过固定板与成槽机固定，当成槽机在对地下连续墙的深槽进行挖掘时，同时带动刷壁器移动，通过两个钢刷板一，对深槽的侧壁进行刮刷，将粘附在深槽侧壁的泥土清理干净，同时通过钢刷板二对深槽的槽底进行刮刷，使得槽底的泥土也被清理干净，避免了深槽内部残留的泥土等杂物导致地下连续墙的接缝处出现渗漏的情况。
一种地下连续墙刷壁器

[发明专利]支护深基坑侧壁的方法-CN93110191.3无效
发明人：周茂源 -专利权人：周茂源
申请日： 1993-03-20 - 公布日： 1997-12-17 - 主分类号： E02D29/02 文献下载
摘要：本发明提供一种支护深基坑侧壁的方法，在地基建筑线内缘开挖深基槽8，在深基槽8侧壁纵、横向上钻孔、灌注水泥砂浆、插入锚杆2，在深基槽8侧壁面上布设槽型钢1，槽型钢1同锚杆2相接，一起构成护壁整体。
支护基坑侧壁方法

[实用新型]CCD相机安装调节架-CN201821509016.5有效
发明人：陈刚;袁聪;汪伟;林少辉 -专利权人：武汉吉事达科技股份有限公司
申请日： 2018-09-15 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： F16M11/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种CCD相机安装调节架，此CCD相机安装调节架为金属件，其上有三个深槽，其特征在于：金属件为一单个零件，每个深槽的侧壁厚度是其底壁厚度的1.5倍以上，三个深槽的底壁长度方向相互垂直，每个深槽两侧壁有螺孔或通孔
安装调节架深槽本实用新型金属件底壁单个零件两侧壁体积小侧壁螺孔通孔垂直

[实用新型]一种用于转动竖直搁架系统的栽培槽-CN201520683959.X有效
发明人：刘敏德;朱冬波 -专利权人：海南润达现代农业股份有限公司
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： A01G31/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于转动竖直搁架系统的栽培槽，包括槽体、黑色盖板和白色盖板；槽体内均匀设置数个深槽，深槽与深槽之间的连接部上设置进出水孔，每个深槽的侧壁上均设有透气孔；黑色盖板覆盖在深槽上，白色盖板覆盖在黑色盖板上该栽培槽结构简单、使用方便、降低成本、有利作物根系能均衡健康生长。
一种用于转动竖直系统栽培

[发明专利]全硅基微流体器件的腔体的制造方法-CN201110270253.7有效
发明人：杨海波;马清杰;吕宇强 -专利权人：上海先进半导体制造股份有限公司
申请日： 2011-09-13 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种全硅基微流体器件的腔体的制造方法，包括步骤：提供<111>晶向的单晶硅衬底，其上形成有氧化层；将氧化层图形化，露出多个正方形窗口图形；以氧化层为掩模，刻蚀硅衬底，形成上层深槽；在氧化层表面和上层深槽的侧壁及底部淀积保护层；将氧化层表面和上层深槽底部的保护层去除；以氧化层和上层深槽侧壁的保护层为掩模，刻蚀硅衬底，形成下层深槽；湿法刻蚀下层深槽，在硅衬底内部形成腔体；将上层深槽的孔洞填满，将腔体封闭；以氧化层为掩模，刻蚀硅衬底本发明形成腔体的过程中基于单片硅衬底本身进行加工，通过先分层形成底部腔体后填充深槽的方式，不涉及硅键合或胶粘合技术即可形成腔体。
全硅基微流体器件制造方法

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