“涂布抗蚀液”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2398973个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置-CN200580040035.7有效
发明人：谷口克人;小岛一弘;能谷敦子 -专利权人： AZ电子材料（日本）株式会社
申请日： 2005-11-25 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂涂布液供给装置和一种涂布液供给方法，以将含有很少颗粒的光致抗蚀剂涂布液供给至光致抗蚀剂涂布装置。还提供了一种光致抗蚀剂涂布装置，其通过使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置，可以实现具有很少缺陷和优异成本特性的涂布。该光致抗蚀剂涂布液供给装置具有用于光致抗蚀剂涂布液的缓冲容器；循环过滤装置，用于从缓冲容器中取出部分光致抗蚀剂涂布液，将其过滤并返回至缓冲容器；和用于将涂布液从缓冲容器或循环装置供给至涂布装置的管。还提供使用所述光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法，以及将涂布液供给装置与狭缝涂布装置组合使用的光致抗蚀剂涂布装置。
光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用方法光致抗蚀剂涂布

[发明专利]抗蚀剂涂布方法和抗蚀剂涂布装置、以及使用该抗蚀剂涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法-CN201110076398.3无效
发明人：松本浩治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-03-28 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供能够更为迅速、均匀地对利用具有毛细管状间隙的喷嘴涂布了抗蚀液的被涂布面进行干燥的抗蚀剂涂布方法和抗蚀剂涂布装置、以及使用该抗蚀剂涂布方法的光掩模底版和光掩模的制造方法。本发明的抗蚀剂涂布方法是向被涂布面10a朝向下方的状态的基板10涂布抗蚀液的方法，在该方法中，将积存在液槽中的抗蚀液利用喷嘴24的毛细管现象引导至被涂布面与被涂布面10a进行接液、使喷嘴24与基板10在水平方向相对移动，从而将抗蚀液110涂布至被涂布面10a；对于被涂布面10a供给在一定方向上相对流速大致恒定并与被涂布面10a平行的气流，使气流与经涂布的抗蚀液110相接触，从而对经涂布的抗蚀液110进行干燥。
抗蚀剂涂布方法装置以及使用光掩模底版制造

[发明专利]涂布装置-CN200610143525.6有效
发明人：原田光治;内河喜代司 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-11-10 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布装置，该涂布装置抑制颜料分散型抗蚀剂的颜料成分凝聚。本发明所提供的涂布装置为将颜料分散型抗蚀剂液涂布于被处理基板上的涂布装置，该涂布装置具有：喷嘴，该喷嘴用于吐出颜料分散型抗蚀剂液；用于供给颜料分散型抗蚀剂液的涂布液供给部；以及将由所述涂布液供给部供给的颜料分散型抗蚀剂液导向喷嘴的配管由于本发明的涂布装置具有上述结构，因而即使颜料分散型抗蚀剂液通过导电管内，也可以抑制颜料成分的凝聚。
装置

[发明专利]掩模坯件的制造方法及涂布装置-CN200810177837.8有效
发明人：宫田凉司;浅川敬司 -专利权人： HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种掩模坯件的制造方法及涂布装置，其包括使从收容有液状抗蚀剂(21)的液槽(20)通过喷嘴(22)到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使基板和喷嘴相对移动，在被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂膜的工序。在该抗蚀剂膜的形成工序中，在对被涂布面涂布抗蚀剂(21)的过程中，一边向上述液槽(20)内补充抗蚀剂，一边进行控制使得液槽内的抗蚀剂的液面在一定高度。
掩模坯件制造方法装置

[发明专利]抗蚀剂图案被覆用涂布液-CN201580049091.0有效
发明人：西田登喜雄;志垣修平;藤谷德昌;远藤贵文;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2015-09-18 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C09D201/06 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种新型的抗蚀剂图案被覆用涂布液。本发明涉及抗蚀剂图案被覆用涂布液以及使用该涂布液的抗蚀剂图案或反转图案的形成方法，所述抗蚀剂图案被覆用涂布液包含：A成分：含有至少1个羟基或羧基的聚合物；B成分：A‑SO
抗蚀剂图案被覆用涂布液

[发明专利]处理液供给装置-CN201710805006.X有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[发明专利]涂布方法和涂布装置-CN200410078406.8无效
发明人：河野幸弘;田中志信 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-09-10 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： B05D1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部(125)，由多功能单元(172)内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构成的涂布垫(162)中，并且由多功能单元(172)内的按压部以规定的压力将涂布垫(162)压在喷嘴部背面(160)的下半部，同时，通过直进驱动部(176)的一直前进地驱动，使涂布垫(162)沿着喷嘴纵向(Y方向)从抗蚀液喷嘴(120)的一端按照直线一直地滑动到另一端。
方法装置

[发明专利]涂布处理方法、程序、计算机存储介质和涂布处理装置-CN201110090050.X有效
发明人：吉原孝介;一野克宪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-04-08 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： B05D1/40 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布处理方法、程序、计算机存储介质和涂布处理装置，能够在使用旋涂法将涂布液涂布于基板的情况下，使涂布液的涂布量为少量，并且使涂布液均匀地涂布在基板面内。该涂布处理方法，包括：在使晶片加速旋转的状态下，从喷嘴向该晶片的中心部喷出抗蚀剂液，将抗蚀剂液涂布在晶片上的涂布工序(S3)；之后将晶片的旋转减速，使晶片上的抗蚀剂液平坦化的平坦化工序(S4)；以及，之后将晶片的旋转加速，使晶片上的抗蚀剂液干燥的干燥工序(S5)。在涂布工序(S3)中，使晶片的旋转加速度按照第一加速度、大于上述第一加速度的第二加速度和小于上述第二加速度的第三加速度的顺序变化，使该晶片始终加速旋转。
处理方法程序计算机存储介质装置

[发明专利]处理液供给装置和处理液供给方法-CN201910344158.3在审
发明人：大久保敬弘;榎木田卓;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置和处理液供给方法。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。
处理液液处理装置送出处理液供给装置抗蚀液送出部抗蚀剂涂布装置处理液供给贮存处理液供给源涂布抗蚀液供给装置补充晶圆质量管理共享吸引

[实用新型]处理液供给装置-CN201721148388.5有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。在以往的处理液供给装置中，有时处理液经过过滤器时的液压由于缓冲罐与过滤器的位置关系、两者之间的配管等而不成为期望的液压。本实用新型的抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[实用新型]处理液供给装置-CN201920585622.3有效
发明人：大久保敬弘;榎木田卓;古庄智伸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置，作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个，所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部，该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置，其中，所述送出部具有多个泵，所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液，并且送出补充来的处理液，所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。
处理液液处理装置送出抗蚀液送出部处理液供给装置抗蚀剂涂布装置本实用新型贮存质量管理处理液供给源涂布抗蚀液供给装置补充晶圆共享吸引

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质-CN202310045125.5在审
发明人：桾本裕一朗;梶原英树;松浦和宏;水篠真一;重本北斗;丰泽聪大;坂井勇治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
处理装置方法以及存储介质

[实用新型]基板处理装置-CN202320086586.2有效
发明人：桾本裕一朗;梶原英树;松浦和宏;水篠真一;重本北斗;丰泽聪大;坂井勇治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-01-30 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置，能够提高与对基板进行的涂布液的涂布有关的便利性。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。
处理装置

[发明专利]涂布方法和涂布装置-CN200610085007.3无效
发明人：藤田直纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-05-30 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够使涂布膜的膜厚控制特别是周缘部的膜厚均匀化容易进行的涂布方法。在面状涂布单元(ACT)(40)中，在载物台(80)上载置基板(G)，使抗蚀剂液供给机构(86)和喷嘴移动机构(88)工作，通过长喷嘴(82)的涂布扫描，在基板(G)上从基板的一端向另一端形成抗蚀剂液的面状涂布膜此时面状抗蚀剂涂布膜(100)在向基板(G)的外侧扩展的过程中与线状涂布膜(76)接触乃至一体化，面状抗蚀剂涂布膜(100)外缘的位置被线状涂布膜(76)所规定，同时膜厚也得以控制。
方法装置

[发明专利]处理液供给装置以及基板处理系统-CN201811057063.5有效
发明人：一野克宪;中岛常长;船越秀朗;松冈伸明;梶原正幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： B05B9/04 文献下载
摘要：本公开涉及供给异物更少的处理液的处理液供给装置以及基板处理系统。抗蚀液供给装置(200)经由配设了用于去除抗蚀液中的异物的过滤器(206)以及用于送出抗蚀液的泵(207)的供给路径(202)，向涂布喷嘴(142)供给抗蚀液。控制部(U)进行使来自泵(207)的抗蚀液的送出停止的控制，以及进行在通过回吸阀(208)的动作使来自涂布喷嘴(142)的抗蚀液的喷出中断之后、将开闭阀(205)关闭以使所述喷出完全停止的控制。
处理供给装置以及系统

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条