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[发明专利]处理液供给装置-CN201710805006.X有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[发明专利]曝光装置-CN202180020118.9在审
发明人： 木村一彦 -专利权人：纳米系统解决方案株式会社
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种能够在确保吞吐量的同时提高曝光精度的曝光装置。曝光装置（100）具备：反射型液晶调制装置（21、22）；光源装置（10），用均匀化后的紫外线波长区域的脉冲状的激光光同样地照明反射型液晶调制装置（21、22）；投影光学系统（30），使由反射型液晶调制装置（21、22）调制后的反射光进行成像；以及工作台（40），支承利用由投影光学系统（30）成像后的图案进行曝光的对象。
曝光装置

[发明专利]处理液供给方法和处理液供给装置-CN201610195709.0有效
发明人：志手英男;木村一彦;汤本知行 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2016-03-31 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种处理液供给方法，可读取的计算机存储介质和处理液供给装置，其通过从过滤器除去微小气泡，抑制过滤器的性能下降。该处理液供给方法向晶片上供给作为处理液的稀释剂，其包括：利用脱气机构对稀释剂进行脱气处理而生成脱气稀释剂的脱气处理液生成步骤；将脱气稀释剂贮存在泵(P1)的贮存室(210)内的处理液贮存步骤；使经由稀释剂供给管(200)与贮存室的下游侧连接的过滤器(201)的下游侧相对于泵的贮存室内的压力成为负压，从而使贮存室内的脱气稀释剂通过过滤器的过滤器通液步骤；和停止从泵的贮存室向过滤器供给稀释剂后，将过滤器的下游侧为负压的状态维持规定的时间的负压维持步骤。
处理供给方法装置

[实用新型]处理液供给装置-CN201721148388.5有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。在以往的处理液供给装置中，有时处理液经过过滤器时的液压由于缓冲罐与过滤器的位置关系、两者之间的配管等而不成为期望的液压。本实用新型的抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

[发明专利]电解电容器的封口体以及使用该封口体的电解电容器-CN200880016834.4有效
发明人：藤田博昭;木村一彦;家村正利;小泽正;芦浦诚;川面哲司 -专利权人：日本贵弥功株式会社;横滨橡胶株式会社
申请日： 2008-03-31 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H01G9/10 文献下载
摘要：本发明提供：不会发生由于有机过氧化物交联而带来的硫化返原，能够满足长期耐热性等条件的电解电容器的封口体以及使用该封口体的电解电容器。该封口体是通过使丁基橡胶与在分子中具有即使有氧存在也能在常温稳定的氮氧化物自由基的化合物(a)、自由基引发剂(b)和二官能性以上的自由基重合性单体(c)反应来改性而得到改性的丁基橡胶组合物，再以有机过氧化物使其交联而获得的改性丁基橡胶组合物来构成。或者，通过使丁基橡胶与在分子中具有即使有氧存在也能在常温稳定的氮氧化物自由基的化合物(a)、自由基引发剂(b)反应而得到改性的丁基橡胶组合物，向其中配合二官能性以上的自由基聚合性单体(c)，再以有机过氧化物使其交联而获得的改性丁基橡胶组合物来构成。
电解电容器封口以及使用

[发明专利]全息记录介质和用于该全息记录介质的记录设备和再现设备-CN200580000308.5无效
发明人：森一成;木村一彦 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-03-07 - 公布日： 2006-05-17 - 主分类号： G11B7/0065 文献下载
摘要：一种全息记录介质以及用于该全息记录介质的记录设备和再现设备，通过该介质，在物光束和参考光束沿着相同的光路传播的光学系统中，使用空间分离和偏振分离来使散射光束噪声最小化并增加记录容量。所提供的全息记录介质包括：记录层，物光束和参考光束辐射到该记录层上以将物光束的数据记录为干涉条纹；以及第一相位差层和第二相位差层，分别位于所述记录层的上方和下方，用于转换入射光束的偏振。
全息记录介质用于设备再现