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本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]直接成像式曝光装置及直接成像式曝光装置的台清洁方法-CN202211114268.9在审
发明人：栢原慎太郎;柴田直弥;宫岛拓也;五十岚晃;山本健 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：目的是在直接成像式曝光装置中，对于基板及台在表面上有凹凸的情况下也能够充分地进行灰尘除去，能够使曝光品质改善。载置有基板(W)的台(6)通过台移动机构(61)而移动，在基板(W)穿过被具备空间光调制器(3)的各曝光头(1)照射曝光图案的光的照射区时进行曝光。在规定次数的曝光后，主序列程序(72)在不载置基板(W)的状态下使台(6)移动，对于由喷嘴位置调节机构(83)隔开规定距离(d)而保持的喷嘴(81)的狭缝(810)作用由抽吸源(82)带来的负压而进行抽吸，将附着在台(6)的槽(601)或孔(602)上的灰尘(P)抽吸而除去。
直接成像曝光装置清洁方法

[发明专利]曝光装置及曝光方法-CN201780008774.0有效
发明人： 五十岚晃 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2017-01-13 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种曝光技术，该曝光技术即使为了不同的品种而进行不同曝光图案的曝光的情况下，也不费功夫及成本，适合于多品种少量生产。工件(W)的各对位标记(AM)经透射型的数字光掩模(2)而被各相机(7)拍摄，基于各拍摄数据，控制器(4)上的修正程序修正原始的图案数据。修正中包含掩模图案的显示位置的修正、倍率的修正。来自光源(1)的包含紫外线的光通过所修正的掩模图案而向工件(W)照射，工件(W)被曝光。
曝光装置方法

[发明专利]曝光装置-CN200710154071.7无效
发明人： 五十岚晃;今井洋之;川俣晴男;杉田健一;江部克己;田口阳介 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2007-09-13 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光装置，该曝光装置精度高且曝光时间也能缩短。提升曝光台(1)，使胶片掩模(2)与基板(90)接触，形成密闭空间(40)，通过减压泵(60)来减压，对胶片掩模(2)与基板(90)进行1次密合。接着，从导入孔(52)导入1kPa以上20kPa以下的范围内的加压空气，在胶片掩模(2)与玻璃(30)之间形成加压空间(25)，进一步使胶片掩模(2)与基板(90)密合，进行2次密合。由于通过1次密合使胶片掩模(2)与基板(90)处于已密合的状态，所以来自导入孔(52)的空气导入量很少即可，加压下的膨胀鼓出量也很少，以短时间完成导入，不存在胶片掩模(2)的膨胀所致的变形等的弊端。
曝光装置

[发明专利]薄膜剥离装置-CN200710005549.X无效
发明人： 五十岚晃 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2007-02-12 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： B32B38/10 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜剥离装置，其在薄膜剥离过程中基板的端部不会发生弯曲。在通过辅助剥离装置(4)进行辅助剥离后，当露出部(91)到达夹紧部(10)的前端时，停止印刷布线基板(90)的输送，利用夹紧部(10)夹紧露出部(91)，使保持夹紧部(10)的滑动部(11)沿搬送方向滑动，并使粘附辊子(2)旋转从而贴附薄膜(93)，由此来剥离薄膜(93)的前端部分。然后释放对露出部(91)的把持，驱动搬送辊子(55)，并且还驱动粘附辊子(2)使其旋转，从而继续进行薄膜(93)的剥离。
薄膜剥离装置

[发明专利]紧密接触型曝光装置-CN200610110673.8无效
发明人： 五十岚晃;田口阳介 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2006-08-07 - 公布日： 2007-06-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模与基板的紧密接触性高的紧密接触型曝光装置。在基板(2)的外侧周围安装框体(3)并通过吸附口(56)吸附固定。通过框体(3)提高光掩模和基板的紧密接触性。此外由于框体(3)是一体的，所以通过吸附而能够可靠固定，并且装卸简单易行，也是为进一步自动化做的准备。在框体(3)的背面形成有流通槽(30)，以便对框体(3)和基板(2)之间形成的间隙(35)进行抽气，从而能够可靠地进行光掩模(1)和基板(2)的紧密接触。
紧密接触曝光装置

[发明专利]薄膜剥离装置-CN200610106320.0有效
发明人： 五十岚晃 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2006-07-19 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供的薄膜剥离装置，即使对象物存在高低差，也能可靠且迅速地进行薄膜剥离。滚子装置A具有四个滚花滚子(1)，一对滚花滚子(1)分别由摆动支承体(11)支承。另外，两个摆动支承体(11)由一个摆动基台(13)支承。摆动支承体(11)能够通过摆动中心(12)相对于摆动基台(13)转动、摆动，摆动基台(13)可绕摆动中心(14)转动地安装在支承台(3)上，并且能够摆动。从而，滚花滚子(1)能绕摆动中心(14)进行大幅度摆动，还能绕摆动中心(12)进行小幅度摆动，四个滚花滚子(1)能分别沿上下方向移动。各滚花滚子(1)配置成在基板(W)的长度方向上位置错开，能够对应基板W在长度方向上存在的高低差。
薄膜剥离装置

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