“西健尔”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]曝光装置-CN200610004900.9无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN200610005101.3无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2006-07-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置以及方法

[发明专利]图像显示装置和投影光学系统-CN03822697.9无效
发明人： 西健尔 -专利权人： 西健尔
申请日： 2003-09-18 - 公布日： 2005-10-19 - 主分类号： G02B27/02 文献下载
摘要：LCD模组(142)的图像的中间像，通过变焦及自动对焦控制系统(g)由反射镜(M1、M2)偏转，并通过中继透镜(b)、反射镜(M3、M4)在扩散玻璃(131)上成像。由扩散玻璃(131)按±20°大小扩散的光束通过目镜(132)在眼球视网膜上投影LCD像。目镜(132)中最为接近晶状体(2)的透镜其中一面具有圆锥面所形成的非眼球形状，该圆锥面的圆锥系数小于－1。由此可获得视野角度为60°以上、像差小的光学系统。
图像显示装置投影光学系统

[发明专利]曝光装置、基片处理系统和器件制造方法-CN02801062.0无效
发明人： 西健尔 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2002-04-03 - 公布日： 2005-07-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：用于支撑基片台(WST1)的第一主体单元(ST1)由震动隔离器(如16A和16B)在四个点处支撑，并且第二主体单元(ST2)由第二震动隔离器(如24A和24B)在三个点处支撑在第一主体单元上。这使得第一主体单元和基片台可以以稳定的方式被高刚性地支撑，并且例如允许从装置的背面(－X侧)对台面部分进行维护操作，这在第一主体单元被支撑在三点时是不可能的。另外，因为装置包括串连连接到两个平台的震动隔离单元，所以此布局对抑制来自地面的背景震动非常有效。因此，可以进行高精度的曝光，提高器件的产量，并且可以减少维护操作所需的时间从而提高装置的工作率，由此带来作为最终产品的器件的生产率提高。
曝光装置处理系统器件制造方法

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN97181117.2有效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2004-03-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置以及方法

[发明专利]载台系统及曝光装置,以及元件制造方法-CN02802576.8无效
发明人： 西健尔 -专利权人：尼康株式会社
申请日： 2002-07-29 - 公布日： 2004-03-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：以相对平台(30)振动上独立设置的固定件(74)，与连接于载台RST的可动件(72)，来沿平台上的导引面(92c、92d)驱动载台。又，平台的例如上下方向的驱动量超过既定值时，即通过连接装置(33)解除载台与可动件的连接。亦即，由于连接于平台上的载台的可动件与固定件接触而在两者间产生大的负载前，解除载台与可动件的连接，故能避免因可动件与固定件的接触所造成的损伤。此外，由于固定件是以振动上独立的方式设置于平台，因此能高精度的进行载台的位置控制。因此，能长期、安定的驱动载台。
系统曝光装置以及元件制造方法

[发明专利]防振装置、平台装置及曝光装置-CN03146582.X无效
发明人： 西健尔 -专利权人：尼康株式会社
申请日： 2003-07-08 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种防振装置，具备有借由第一气体室(69)的内部气体的压力而使支持对象物(OB)的自重通过保持构件(62)被支持，基于第一气体室和第二气体室(79)的至少一方的状态变化，驱动使第二气体室的内容积变化并使第一气体室的内容积变化的可动装置(149)，调整保持构件的重力方向的位置的调整装置(74)，所以，当由于振动等而使保持构件在重力方向位移时，借由利用调整装置使可动装置被驱动，可使保持构件被维持于原来的位置，而且，借由使可动装置和支持对象物非接触，这就不会直接使支持对象物变形，只是由两气体室的内容积的变化而驱动支持对象物，所以即使第一气体室内的气体的刚性高也没有问题，使除振或制振效果提高，且谋求装置的小型化。
装置平台曝光

[发明专利]曝光装置及载物台装置、以及器件制造方法-CN03141315.3无效
发明人： 西健尔;奥村正彦;奥野浩生 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2003-06-10 - 公布日： 2004-01-28 - 主分类号： G03F7/22 文献下载
摘要：通过控制装置，在相对晶片上的一个划分区域的曝光结束后，到为了进行下一划分区域的曝光，通过载物台控制系统使初缩掩模板载物台和晶片载物台在扫描方向上开始减速之前的期间，把下一划分区域的曝光用控制参数的设定信息传送给载物台控制系统。因此，载物台控制系统为了从上位装置获卸载一划分区域的曝光用控制参数的设定信息，不需要使两载物台在加速前暂且停止，所以不存在停止时间，相应地可以提高生产能力。该场合时，不会产生什么妨碍，所以不会损坏其他的装置性能。
曝光装置载物台以及器件制造方法

[发明专利]曝光方法和装置-CN99813401.5无效
发明人： 西健尔 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1999-11-12 - 公布日： 2002-05-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种曝光方法,不用太多地降低效率即可在曝光过程中高精度地检测作为曝光对象的基板表面相对投影光学系像面的散焦量,以自动聚焦方式对焦。使用包含照明狭缝部(54a)－光学构件(63a)的第1斜入射方式的AF传感器和包含照明狭缝部(54b)－光学构件(63b)的第2斜入射方式的AF传感器,由这些AF传感器将狭缝像(F1f、F2f)照射到相同的检测点,分别进行聚焦位置的测量。将2个测量值的差分的1/2作为测量值的漂移,对这些AF传感器的测量值修正该漂移。之后,利用该第1或第2AF传感器按自动聚焦方式对焦。
曝光方法装置

[发明专利]曝光装置-CN01121642.5无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2002-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置

[发明专利]光刻装置和曝光方法-CN01121643.3无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2002-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
光刻装置曝光方法

[发明专利]曝光方法和设备制造方法-CN01117665.2无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2001-11-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光方法设备制造

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN01117666.0无效
发明人： 西健尔;太田和哉 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 1997-11-28 - 公布日： 2001-11-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间,可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时,用于相对曝光图形的对位,所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。
曝光装置以及方法

[发明专利]曝光方法及装置、曝光装置的制造方法以及器件制造方法-CN01101754.6无效
发明人： 西健尔 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2001-01-31 - 公布日： 2001-10-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：为了制造曝光装置,在由平台、立柱、支撑板装配成框架机构后,设置具有照明系统的子室,在支撑板上搭载投影光学系统PL。与该作业并行,进行线网室及线网载置台系统的安装调整,以及晶片室及晶片载置台系统的安装调整。在搭载了投影光学系统的框架机构上以组件方式组入线网室及晶片室,在线网室、晶片室的内部配置供给透过曝光光的净化气体的配管等,用具有可挠性的膜状软性遮蔽部件密闭投影光学系统和晶片室之间的空间。
曝光方法装置制造以及器件

[发明专利]曝光方法及其曝光装置、以及器件制造方法-CN01104530.2无效
发明人： 西健尔 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2001-02-15 - 公布日： 2001-08-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：利用曝光光束经由掩模来曝光基板的曝光装置具有移动基板的可动载置台;收纳可动载台的载置台室;在载置台室内搬运基板的搬运系统;在载置台室内相对于可动载置台对准基板位置的第1对准系统。用第1对准系统可以对准由搬运系统交接到载置台室内的被曝光体的位置。可以以组件方式将载置台室及可动载置台装配到曝光装置的框架上。曝光装置具有将设置在可动载置台上的基板对准到曝光位置上的第2对准系统。
曝光方法及其装置以及器件制造

1
共 15 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top