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[发明专利]带螺纹锁扣功能的手镯成型工艺-CN201711086928.6在审
发明人：陈金才;陈志伟 -专利权人：深圳市昌源达首饰发展有限公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： A44C27/00 文献下载
摘要：一种带螺纹锁扣功能的手镯成型工艺，包括以下步骤：(1)，模压成型；(2)、初级抛光，将本体部和锁扣部分别放入到两台震动式抛光机内，所述容器内填充有多种抛光珠和抛光液；(3)、次级抛光，将步骤(2)处理后的本体部、锁扣部分别放入到滚桶式抛光机，所述容器内填充有多种抛光珠和抛光液；(4)、攻牙处理，在本体部的两端分别钻第一穿孔、第二穿孔，并且在锁扣部的固定杆的外表面加工外螺纹；(5)、表面处理；(6)、安装固定。本发明在初级抛光、次级抛光时，由震动式抛光机、滚桶式抛光机对手镯进行加工处理，增加手镯的密度、硬度及抗外力的强度，进而使得主体部的内螺纹与锁扣部的外螺纹结构坚固，不易变形。
抛光抛光机锁扣部手镯成型工艺螺纹锁抛光液震动式穿孔放入滚桶填充外表面加工外螺纹结构安装固定不易变形模压成型固定杆抗外力内螺纹外螺纹主体部攻牙坚固

[发明专利]一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺-CN201110151813.7有效
发明人：赖延清;陈志伟;张坤;刘芳洋;赵联波;贾明;李劼;刘业翔 -专利权人：中南大学
申请日： 2011-06-08 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： C25F3/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种不锈钢无铬电解抛光液及其表面抛光处理工艺，抛光液以醇(甲醇、乙醇中的至少一种)和酸(硫酸、醋酸中的至少一种)作为其主体成分。本发明所提供的不锈钢表面抛光处理工艺包括以下步骤：除油污处理、超声振动水洗、超声振动酸洗、超声振动碱洗、电解抛光、超声振动水洗、钝化、清洗及烘干。与传统不锈钢电解抛光液相比，本抛光液既不含铬酸酐，减少了环境污染，废液易于处理，属于环保型抛光液；又不含价格昂贵的磷酸，降低了抛光成本，有利于不锈钢电解抛光工艺的推广。经试验证明，该抛光液及其工艺能有效除去不锈钢表面的氧化膜及划痕，并可使工件达到镜面光亮的效果，有效地提高抛光品质。
一种不锈钢电解抛光及其表面处理工艺

[实用新型]一种保健食品制造用高效胶囊抛光机-CN202222863984.9有效
发明人：王建辉;吴东颖;张艳;张晓娟;白玉杰 -专利权人：山东荆卫生物科技有限公司
申请日： 2022-10-29 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及保健品加工设备技术领域，公开了一种保健食品制造用高效胶囊抛光机，其包括基座，所述基座的下端安装有移动轮，且基座的上端连接有支撑架，所述支撑架上安装有抛光仓，且抛光仓的侧边安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端上安装有抛光轴，且抛光轴上附着有抛光刷毛，并且抛光轴远离驱动电机的一端安装有传动齿轮，所述抛光仓的上端连接有进料通道。本实用新型通过四根抛光轴上安装的传动齿轮，可以相互配合进行啮合实现传动齿轮的间接传动，进而能够配合抛光轴上的抛光刷毛对胶囊进行快速抛光处理，并通过进料筛分仓将处理的胶囊与打磨的粉尘一起传导至出料筛分仓内进行再次除尘处理，增加处理的整洁性。
一种保健食品制造高效胶囊抛光机

[实用新型]一种珐琅彩银器酸洗抛光装置-CN202122166716.7有效
发明人：岳钢;周龙 -专利权人：深圳市天一坊精品制造有限公司
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： B24B41/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种珐琅彩银器酸洗抛光装置，涉及彩银器技术领域，解决了目前珐琅彩银器在进行生产时，需要对其进行酸洗抛光处理，由于现有的夹接装置不便于对不同尺寸的珐琅彩银器进行夹紧，进而影响其酸洗抛光处理，且由于夹紧装置不便于进行移动，导致无法对不同珐琅彩银器进行全面抛光处理的技术问题；包括抛光调节箱，抛光调节箱的内部固定安装有支撑侧板，两个支撑侧板之间转动套接有调节螺杆；本实用新型具有带动两个夹合支板相向移动，进而快速便捷的对不同尺寸的珐琅彩银器进行酸洗抛光处理，以及得以对抛光支板顶部的珐琅彩银器进行旋转以及移动，进而得以对其进行全方面酸洗抛光处理。
一种珐琅银器酸洗抛光装置

[发明专利]在化学机械抛光期间检测不合格衬底处理事件的方法-CN202180047838.4在审
发明人：吴正勋;布尚·阿施施;杰米·斯图尔特·莱顿;约翰·安东尼·加西亚;史蒂芬·托马斯·科米耶;尼克·约瑟夫·杰克逊;马诺伊·巴拉库马尔;南德基绍尔·帕特达尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及在电子装置的制造中使用的化学机械抛光系统(CMP)系统和处理。尤其是，本文的实施方式涉及在抛光处理期间检测不合格衬底处理事件的方法。在一个实施方式中，一种处理抛光系统上的衬底的方法包括以下步骤：在存在抛光流体的情况下促使碳化硅衬底的表面抵靠抛光垫，使用位于工作台上方的温度传感器来确定抛光垫的温度，监测抛光垫的温度，并且如果抛光垫温度的改变达到阈值，则使用抛光系统的控制器来启动响应。
化学机械抛光期间检测不合格衬底处理事件方法

[发明专利]一种石墨模具的抛光方法-CN201911400643.4在审
发明人：邵长涛 -专利权人：青岛金时特碳素有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了石墨模具的抛光方法，石墨模具的抛光方法包括如下步骤：人工抛光步骤，通过人工采用手持海绵件对石墨模具进行人工抛光处理；机抛光步骤，通过抛光机对完成人工抛光步骤后的石墨模具进行机抛光处理。本发明中石墨模具在抛光时，先通过人工采用手持海绵件对石墨模具进行人工抛光，在通过抛光机对石墨模具进行机抛光，从而有效提高了石墨模具的表面光洁度。
一种石墨模具抛光方法

[发明专利]一种LCD靶材侧边的抛光处理方法-CN202210398682.0在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;赵丽;张晓驰;范文新;周伟君 -专利权人：广东江丰电子材料有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种LCD靶材侧边的抛光处理方法，所述LCD靶材侧边的抛光处理方法包括以下步骤：采用植绒砂纸片对LCD靶材的侧边进行抛光处理，以形成抛光面；所述植绒砂纸片的工作面上涂有IPA液。本发明提供的LCD靶材侧边的抛光处理方法通过将IPA液涂在植绒砂纸片上，对LCD靶材的周边进行抛光处理，可以将LCD靶材侧边的异物与非靶材一体物质去除，抛光后的粗糙度为0.01‑0.6μm，10‑100min即可完成对所述LCD靶材侧边的抛光处理，提高了靶材的周转率，降低了人工作业时间，减少了不良产品，抛光后粗糙度稳定，使得一次性通过率提高至96％。
一种 lcd 侧边抛光处理方法

[实用新型]一种纤维素酶生物抛光处理装置-CN202123325058.8有效
发明人：沈涛 -专利权人：宁夏夏盛实业集团有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： D06B3/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了涉及生物抛光技术领域的一种纤维素酶生物抛光处理装置，包括抛光处理槽、固定框和定位板，抛光处理槽的一端焊接有固定框，固定框内顶部通过挤压弹簧连接有U形板且U形板内通过轴承安装有移动滚筒，抛光处理槽的顶端一侧焊接有定位板，定位板的一侧通过固定座安装有伺服电机，伺服电机的输出轴贯穿定位板连接有收卷筒，抛光处理槽内通过轴承安装有限位辊轴；该新型纤维素酶生物抛光处理装置便于将面料拉紧，具有烘干的效果，酶的作用是弱化微纤基端，但没有把它们和纱分离开，要靠机械作用力完成这一步，生物抛光是给予织物持久性的整理效果，实现生物抛光的作用，适合广泛推广使用。
一种纤维素酶生物抛光处理装置

[发明专利]复合型化学机械抛光和抛光液循环处理一体化的设备及处理方法-CN202211229311.6在审
发明人：张振宇;石春景;刘振颂;崔祥祥;孟凡宁 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2022-10-09 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种复合型化学机械抛光和抛光液循环处理一体化的设备及处理方法，设备包括：复合型化学机械抛光装置，包括抛光盘、抛光垫、载物台、施压器、抛光液滴加器、液体存放盘、光源、直流电源、红外测温仪和废液出水管；废液循环处理系统，包括沉淀室、化合室、生曝室、光化室、固废室及磨粒回收机构。在复合型化学机械抛光装置上连接抛光废液及清洗液的循环处理系统，实现磨粒的循环使用及零排放的目标。绿色抛光废液的处理循环系统，由沉淀装置、磨粒收集、生化装置及光化学催化装置等连接组成，采用物理沉降法、化学絮凝法、生物分解法及光能转化法对抛光废液进行循环收集处理。
复合型化学机械抛光抛光循环处理一体化设备方法

[发明专利]一种不锈钢管的耐腐蚀抛光处理工艺-CN201911201119.4有效
发明人：李祥周;张雪凌;黄忠恒 -专利权人：苏州帝航防护设施有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种不锈钢管的耐腐蚀抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步、冷轧处理；第二步、将冷轧处理后的管材在1060℃固溶退火15min；第三步、冷拔机加工；第四步、将上一步得到的钢管置于钢管抛光设备上，进行抛光处理。本发明通过在抛光处理前进行冷拔机加工过程，能够使钢管发生再结晶，提高钢管材料的晶界比例；通过采用钢管抛光设备进行抛光处理，不仅能够实现对钢管的固定，而且钢管在自转的同时做轴向移动，且抛光轮在不停旋转，整个过程不仅自动化，而且相对运动较多，能够使得抛光力度均匀，提高钢管的抛光质量，抛光质量的提升能够导致耐腐蚀性能的增强，使适用于各种环境，并能提高使用寿命，满足长期使用要求。
一种不锈钢管腐蚀抛光处理工艺

[发明专利]多元流叶片型面的抛光方法-CN202011145124.0在审
发明人：李淑芳;李志周;琚明 -专利权人：西安远航真空钎焊技术有限公司
申请日： 2020-10-23 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明属于精密加工技术领域，公开了多元流叶片型面的抛光方法，包括以下步骤：1)采用木轮对叶片的转接R以及前缘、后缘的多余量进行打磨处理并磨掉，采用带柄百叶轮打磨头对所述叶片的叶盆、叶背上的铣加工残留纹路进行抛光处理；2)采用纤维轮对所述叶片的转接R、前缘、后缘以及叶背进行抛光处理；然后采用中硬型尼龙纤维轮对所述叶片的叶盆进行抛光处理后，采用软型尼龙纤维轮对所述叶片的叶盆进行抛光处理；3)精抛完成之后再线切割掉工艺凸台通过使用不同的抛光工具在叶片抛光的不同需求阶段进行专项处理，能够保证在达到抛光需求的同时降低对叶片表面及进、排气边的损伤。
多元叶片抛光方法

[发明专利]一种耐磨钢球加工用对称抛光机-CN202110538281.6有效
发明人：高绍松 -专利权人：山东金池新材料科技有限公司
申请日： 2021-05-18 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： B24B29/04 文献下载
摘要：本发明涉及耐磨钢球加工领域，具体是一种耐磨钢球加工用对称抛光机，包括箱体，所述箱体内部两端对称安装有连接件，连接件的两端设置有同步驱动机构；还包括：被动抛光机构，设置于一端的连接件上，所述被动抛光机构包括用于耐磨钢球放置的被动抛光槽；主动抛光机构，对应设置于另一端的连接件上，所述主动抛光机构包括转动组件、移动组件和抛光组件，所述转动组件驱动移动组件和抛光组件对耐磨钢球进行转动抛光处理，并通过移动组件驱动抛光组件进行移动，实现对设备上放置的耐磨钢球依次进行抛光处理，且抛光组件带动耐磨钢球转动时，被动抛光槽内壁的半球形摩擦面实现对转动的耐磨钢球进行转动抛光处理，本发明可以有效地方便对耐磨钢球进行全面抛光处理，这样提高设备的工作效率，方便了设备的使用。
一种耐磨钢球加工用对称抛光机

[实用新型]一种用于凹面处理的抛光皮-CN202220884114.7有效
发明人：张亚飞;赵浩;贾小斌;刘振 -专利权人：深圳市永霖科技有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B24D15/04 文献下载
摘要：本申请涉及抛光处理技术领域，公开一种用于凹面处理的抛光皮，为圆盘状并具有弹性，所述抛光皮的直径大于待加工曲面玻璃的U型槽宽4~8mm。由于抛光皮的直径大于带曲面玻璃的U型槽宽4~8mm，且具有弹性，当抛光皮被施加一定的压力，向带曲面玻璃挤压伸入时，抛光皮的侧面自然弯曲与带曲面玻璃的侧壁凹面充分接触，当抛光皮被抛光机头带着旋转时，即可以对凹面进行抛光；因此本申请的用于凹面处理的抛光皮具有可以减少设备的对曲面玻璃的固定设计，提升了抛光效率和抛光的质量一致性的效果。
一种用于凹面处理抛光

[发明专利]抛光组件及基板处理装置-CN201510532602.6有效
发明人：山口都章;水野稔夫;小畠严贵 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光组件及基板处理装置，用于对基板进行抛光处理，该抛光组件具有：抛光台，该抛光台用于支承所述基板且该抛光台能够旋转；以及安装有抛光垫的一个抛光头，该抛光头构成为能够旋转，且构成为能够向靠近所述抛光台的方向及从该抛光台远离的方向移动，所述抛光垫具备第1部位与第2部位，所述第2部位在所述第1部位的外侧以包围所述第1部位的方式配置，所述第1部位与所述第2部位的特性相互不同。通过该抛光组件及基板处理装置能够抑制基板的损伤地进行研磨，或者，能够高效率地清洗去除粘性较大的异物等。
抛光组件处理装置

[发明专利]提高晶片抛光厚度均匀性的方法-CN202110406099.5有效
发明人：徐良;曹力力;占俊杰;邢晓鹏;蓝文安;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波;黄仕华;孟秀清;刘圣龙 -专利权人：金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产加工领域，具体公开了一种提高晶片抛光厚度均匀性的方法，包括以下步骤：使用抛光头对多个呈环形排布的测试晶片进行抛光处理，得到抛光后的测试晶片；获取抛光后每个测试晶片不同位置的厚度数据；根据所述厚度数据确定所述抛光头不同位置的压力值；根据所述抛光头不同位置的压力值确定校正垫板的形状；将确定的校正垫板放置在所述抛光头与抛光盘之间；对抛光盘上的待处理晶片进行抛光处理。根据测试晶片不同位置的厚度数据确定抛光头不同位置的压力分布，进而确定校正垫板的形状，通过校正垫板的加入来调节抛光头的压力均匀性。
提高晶片抛光厚度均匀方法