“抛光处理”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果3945561个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]化学机械抛光方法和装置-CN202011042568.1有效
发明人：沙酉鹤;谢越 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置。所述方法包括提供待抛光的半导体晶圆；对所述半导体晶圆执行化学机械抛光工艺，其中，在所述化学机械抛光工艺中所述半导体晶圆位于第一平面；对所述半导体晶圆执行悬空处理步骤，其中，在所述悬空处理步骤中所述半导体晶圆位于高于所述第一平面的第二平面并且所述半导体晶圆表面下方悬空，以及其中，在所述悬空处理步骤中所述半导体晶圆旋转。根据本发明，将半导体晶圆上升到一定高度远离抛光垫进行悬空处理步骤，使半导体晶圆旋转，半导体晶圆表面的抛光液、抛光液中的抛光颗粒和抛光副产物，脱离半导体晶圆表面，从而避免了晶圆表面粘附的抛光液颗粒和抛光副产物影响后续处理步骤
化学机械抛光方法装置

[实用新型]硅片处理设备-CN202122868469.5有效
发明人：安军林;牟童;魏东亮;陈英;王海礼 -专利权人：亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了硅片处理设备，包括支架、硅片固定装置、打磨装置和抛光装置；所述支架的一侧为打磨底座，支架的另一侧为抛光底座，所述硅片固定装置可在打磨底座和抛光底座上移动；所述打磨装置位于所述打磨底座上方；所述抛光装置包括淋洗喷头、抛光总管、抛光液分管、超纯水分管、吹扫分管、回收总管、抛光液回收分管、超纯水回收分管，当硅片固定装置位于抛光底座上所述淋洗喷头和硅片固定装置形成密封结构。本实用新型将机械打磨、化学抛光处理、清洗和烘干集成于同一处理装置，效率高，可以满足大批量生产的需求；同事此装置整个处理过程密闭下完成，环境安全；并且，此装置还设有专用的抛光液处理系统，用于抛光液的循环利用
硅片处理设备

[发明专利]石墨模具的抛光方法及制造方法-CN201810701717.7在审
发明人：蔡荣清 -专利权人：三砥新材（深圳）有限公司
申请日： 2018-06-30 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： B24B19/20 文献下载
摘要：本发明适用于石墨模具的制造技术领域，公开了石墨模具的抛光方法及石墨模具的制造方法，其中，石墨模具的抛光方法包括如下步骤：人工抛光步骤，通过人工采用手持海绵件对石墨模具进行人工抛光处理；机抛光步骤，通过抛光机对完成人工抛光步骤后的石墨模具进行机抛光处理石墨模具的制造方法，包括如下步骤：机加工步骤，采用数控机床对石墨毛坯进行铣削加工，得到石墨模具；抛光步骤，采用上述的石墨模具的抛光方法对石墨模具进行抛光处理。本发明中石墨模具在抛光时，先通过人工采用手持海绵件对石墨模具进行人工抛光，在通过抛光机对石墨模具进行机抛光，从而有效提高了石墨模具的表面光洁度。
石墨模具抛光抛光步骤抛光处理抛光机制造海绵表面光洁度石墨毛坯铣削加工数控机床机加工

[发明专利]一种高效抛光装置及化学抛光方法-CN202210024036.8有效
发明人：刘宏;丛培新;付锡军;杨波;吴祖兴;雷朝应 -专利权人：贵阳博亚机械制造有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种高效抛光装置及化学抛光方法，包括基座、支撑架、导向机构、伸缩机构和电机，所述支撑架固定在基座的上方，为导向机构提供支撑，所述导向机构的下方设置有伸缩机构，通过导向机构可对伸缩机构的水平位置进行控制该高效抛光装置及化学抛光方法设置有第一抛光盘、第二抛光盘和吸附腔，通过吸附腔可将抛光件的一侧表面进行吸附固定，配合第一抛光盘或第二抛光盘的旋转即可实现对抛光件上下表面的抛光处理，方便对抛光件的上下表面进行快速的抛光处理，配合液体存放池内的抛光剂可更快的对抛光件表面进行处理。
一种高效抛光装置化学抛光方法

[实用新型]一种焊丝拉丝抛光一体机-CN202123320424.0有效
发明人：代昌丽;王晶晶;王德明;王仁香;王长鹏;赵立霞;王万梁;李方亮 -专利权人：山东鑫都焊材有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： B24B29/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及焊丝加工领域，具体公开了一种焊丝拉丝抛光一体机，包括：底座；至少两组导送组件，所述导送组件与底座固定连接；抛光装置，所述抛光装置与导送组件相连；集尘仓，所述集尘仓与底座固定连接，用于抛光杂质的定向收集；其中，所述抛光装置包括：驱动装置，所述驱动装置与导送组件相连；第一抛光组件，所述第一抛光组件与导送组件相连，且与驱动装置啮合连接，用于焊丝的初步抛光处理；第二抛光组件，所述第二抛光组件与底座固定连接，用于焊丝的二次抛光处理，本装置设计合理，通过导送组件与第二抛光组件配合，实现焊丝的导送张紧，同时，第一抛光组件与第二抛光组件配合，实现焊丝的多次焊丝的多次抛光处理。
一种焊丝拉丝抛光一体机

[实用新型]一种谐波减速器材料处理用抛光组件-CN202221670637.8有效
发明人：谭旭 -专利权人：长沙航华电子科技有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种谐波减速器材料处理用抛光组件，涉及谐波减速器领域。该一种谐波减速器材料处理用抛光组件，所述底座的外表面转动连接有限位钩，所述底座的内部设置有电机，所述电机的输出端设置有转动块，所述套接杆的外表面套接有材料主体，所述抛光机构包括下抛光块和侧抛光块，所述下抛光块设置在转动槽的内底壁上，且下抛光块的内壁与转动块的外表面不接触，所述抛光块设置在转动槽的内壁上，且侧抛光块与下抛光块分别与材料主体的外表面和下表面相贴合，侧抛光块和下抛光块起到抛光的作用。该一种谐波减速器材料处理用抛光组件，可以同时抛光多个面，增加工作效率。
一种谐波减速器材料处理抛光组件

[发明专利]漆面抛光装置-CN201710428909.0在审
发明人：张明来 -专利权人：张明来
申请日： 2017-06-08 - 公布日： 2017-08-18 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种漆面抛光装置，包括抛光棉，所述抛光棉包括圆柱状基体，还包括球形凸部，所述球形凸部设置在圆柱状基体的一端部。本发明提供的一种漆面抛光装置，其抛光处理速度快，风险极低，极大的缩短了交车时间；无需砂纸打磨可直接进行抛光处理，光亮度高且表面平整，对抛光车辆无损伤；喷漆在半干状态即可进行抛光处理，无需等待喷漆全干再抛光，进一步缩短了交车时间；增大了抛光轮的切削力，而且散热效果佳。
抛光装置

[实用新型]漆面抛光装置-CN201720662360.7有效
发明人：张明来 -专利权人：张明来
申请日： 2017-06-08 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： B24D13/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种漆面抛光装置，包括抛光棉，所述抛光棉包括圆柱状基体，还包括球形凸部，所述球形凸部设置在圆柱状基体的一端部。本实用新型提供的一种漆面抛光装置，其抛光处理速度快，风险极低，极大的缩短了交车时间；无需砂纸打磨可直接进行抛光处理，光亮度高且表面平整，对抛光车辆无损伤；喷漆在半干状态即可进行抛光处理，无需等待喷漆全干再抛光，进一步缩短了交车时间；增大了抛光轮的切削力，而且散热效果佳。
抛光装置

[实用新型]一种铝合金表面处理自动化装置-CN201921754601.6有效
发明人：莫小雨 -专利权人：十堰市博茂工贸有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种铝合金表面处理自动化装置，主体包括表面处理装置本体、处理抛光磨片、抛光磨片安全护罩、处理装置动力电机、备用手动操作手柄、合金表面感应模块，表面处理装置本体顶部设置有备用手动操作手柄，备用手动操作手柄底部设置有处理装置动力电机，处理装置动力电机底部设置有抛光磨片安全护罩，抛光磨片安全护罩内部设置有处理抛光磨片，抛光磨片安全护罩侧面设置有合金表面感应模块，本装置工作面积大时能够实现自动化金属表面处理
一种铝合金表面处理自动化装置

[发明专利]镁合金电化学抛光液及其对镁合金处理的方法-CN201310023958.8无效
发明人：杨升攀 -专利权人：汉达精密电子（昆山）有限公司
申请日： 2013-01-23 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C25F3/18 文献下载
摘要：一种镁合金电化学抛光液，按重量百分比计算，其包括多元醇55～80%；有机酸1～10%；磷酸1～5%；纯水15～35%。另外，还提供一种镁合金电化学抛光液对镁合金处理的方法，其包括如下步骤：对镁合金进行脱脂处理；在20～25℃，电压6～20V的条件下，将上述镁合金放入所述镁合金电化学抛光液中进行电化学抛光处理2～30min；将电化学抛光处理后的镁合金进行烘烤。本发明具有以下优点：镁合金进行电化学抛光之前无需预处理；经电化学抛光后的镁合金具有较高的光泽度；且可以控制抛光时间的长短来获得不同光泽度的镁合金产品；该电化学抛光液的废水处理简单，且经过过滤处理后可以重复使用
镁合金电化学抛光及其处理方法

[发明专利]提高抛光液循环利用率的方法及硅片抛光方法-CN202110910821.9有效
发明人：王庆伟;卞鹏程;崔晓坤;卫旻嵩;李国庆;徐贺;王瑞芹 -专利权人：万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司
申请日： 2021-08-10 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高抛光液循环利用率的方法及硅片抛光方法，通过对待处理的抛光液中添加络合助剂、渗透剂、分散剂、pH值调节剂进行处理，实现抛光液多次循环利用的抛光效果。本发明可延长抛光液循环使用时间，总循环使用次数在30‑40次，且循环过程中硅片表面不易产生划伤，与抛光液未经处理直接循环使用相比，具有显著优势。
提高抛光循环利用率方法硅片

[发明专利]一种金属件及其表面处理方法-CN200810067618.4有效
发明人：张戈;陈延伟 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2008-06-01 - 公布日： 2009-12-02 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：该金属件的表面处理方法，对金属基件进行抛光处理得到金属件，该抛光步骤包括：对金属基件进行抛光前处理；经抛光前处理后的金属基件浸于含铵盐和添加剂的抛光液中，金属基件置于阳极，施加高频高压脉冲电场进行等离子体抛光；抛光后的金属基件水洗、烘干得到金属件。相比传统的抛光方法，可大幅度提高金属基件表面的电化学均匀性，降低粗糙度。
一种金属件及其表面处理方法

[实用新型]一种指节表面抛光处理设备-CN202123289987.8有效
发明人：董群英;楼丽芳;邹金;蒋永清;郭晓云 -专利权人：磐安县新悦模特制品有限公司
申请日： 2021-12-25 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种指节表面抛光处理设备，包括气缸、用于放置指节的放置座以及抛光机，所述的抛光机和气缸均固定安装在工作台上，抛光机端部设有用于抛光的抛光盘，气缸上的放置座上的插片插接有需要抛光的指节，气缸将指节推近抛光盘进行抛光处理，可将指节弯折处抛光，有利于指节的摆动，这样可以展示多种姿态，更加美观。
一种指节表面抛光处理设备

[发明专利]一种用于镍基合金的电解抛光液添加剂、抛光液及抛光方法-CN202210946393.X有效
发明人：安茂忠;任淼玉;李亚强;董毅超;江杰;张远航;杨培霞;张锦秋 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C25F3/22 文献下载
摘要：一种用于镍基合金的电化学抛光液添加剂、抛光液及抛光方法，属于电化学抛光领域，具体方案如下：一种用于镍基合金的电解抛光液添加剂，包括碱性红12、碱性红2或碱性红5。一种用于镍基合金的电解抛光液，包括所述的电解抛光液添加剂。一种镍基合金的表面抛光方法，包括以下步骤：对镍基合金工件表面的进行预处理；将预处理后的镍基合金工件放入电解抛光液中，镍基合金工件作为阳极连接电源的正极，钛网作为阴极连接电源的负极，对镍基合金工件的表面进行电化学抛光处理；清洗抛光后的工件，然后对其冷风干燥处理。本发明所述的抛光液具有效率高、成本低的优点，处理后的工件不仅可以达到镜面的效果，还提高了合金的耐蚀性。
一种用于合金电解抛光添加剂方法

[实用新型]一种抛光生产线-CN201820333135.3有效
发明人：曾桓明 -专利权人：广东高微晶科技有限公司
申请日： 2018-03-12 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光生产线技术领域，且公开了一种抛光生产线，包括抛光机构、传送机构、精处理机构和磨边机构，所述抛光机构的一侧固定连接有传送机构，所述传送机构的一侧固定连接有精处理机构。本实用新型解决了现有技术中的抛光生产线的抛光效果差和抛光后的板砖版面空隙较大的问题，通过抛光机构、精处理机构和磨边机构的相互配合，经过在第一抛光机、第二抛光机和第三抛光机的三次抛光下，能够使板砖更加光滑，在经过三个台超洁亮机的进一步处理下，版面效果得到更加有效的改善，此时砖面的间隙变小，避免大的灰尘进入间隙内，从而能够增加砖面的美观，在使用时，板砖能够更加有效的进行防污处理，磨边机构能够对板砖进行打磨
抛光生产线传送机构磨边机构抛光机构精处理抛光机板砖本实用新型版面效果防污处理抛光效果次抛光抛光变小对板光滑打磨版面美观配合