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[发明专利]积液处理装置、修整器设备、抛光设备和积液处理方法-CN202311005715.1在审
发明人：杨玉恒 -专利权人：吉姆西半导体科技（无锡）有限公司
申请日： 2023-08-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请公开了一种积液处理装置、修整器设备、抛光设备和积液处理方法，其中积液处理装置包括真空发生器、与真空发生器气路连通的中空管体和与真空发生器气路连通的排液结构；中空管体上开设有若干贯穿中空管体的管壁的吸液孔；中空管体安装于待处理设备的表面，具有导流的腔体；真空发生器被配置为使腔体内形成负压并吸取流经腔体的积液至排液结构；吸液孔被配置为在腔体内形成负压时，吸取待处理设备的表面的积液进入腔体；排液结构用于将流经自身的积液排出。本申请提供的积液处理装置，方便快捷地除去了盖板表面的积液，避免了积液对生产造成的不良影响。
积液处理装置修整设备抛光方法

[发明专利]能够修整桃心沟砂轮的摆转式数控自动砂轮修整器-CN201610699151.X有效
发明人：秦志洪;李文喜;康小英 -专利权人：襄阳博亚精工装备股份有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种能够修整桃心沟砂轮的摆转式数控自动砂轮修整器，用于数控磨床修整砂轮。摆动架组件与旋转轴组件连接为一体，旋转轴组件与快进导轨组件连接在一起，快进导轨组件的修整器底座通过螺钉与磨床固定。本发明砂轮修整器安装在砂轮轴的上方，需要修整砂轮时，利用摆动气缸把摆动架组件翻转下来，正确定位，摆动架组件上的伺服电机二带动金刚笔把砂轮修整为需要的R值，修整和进给速度及进给量通过控制伺服电机实现，修整补偿量可以反馈到磨床磨削进给系统，砂轮的修整可以修整R弧，还可以修整成桃心沟砂轮，修整砂轮的准备时间非常短，退出修整的时间也非常快，大大提高了磨床的磨削效率，可彻底消除液压修整和机械修整的震动和修整速度的不均匀。
能够修整桃心沟砂轮摆转式数控自动

[实用新型]多盘垫调节器-CN202320136891.8有效
发明人： J·古鲁萨米;S·M·苏尼加;藤川孝;吴政勋 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2023-01-16 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本公开内容的实施例提供了一种多盘垫调节器和在化学机械抛光(CMP)工艺期间使用多盘垫调节器的方法。多盘垫调节器具有多个调节头，所述多个调节头具有固定在其上的调节盘。多盘垫调节器可以包括调节臂和附接到调节臂的多个调节头。多个调节头中的每个调节头都具有固定在其上的调节盘。在一些实施例中，调节头中的每个调节头都包括旋转轴线，其中旋转轴线中的每一者在沿着调节臂的长度延伸的第一方向上相隔一定距离设置。
多盘垫调节器

[实用新型]一种应用于大圆机针筒加工工序中的磨砂轮自动打磨装置-CN202321019349.0有效
发明人：林良彬;张银辉 -专利权人：福建省锐力精密机械有限公司
申请日： 2023-05-02 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种应用于大圆机针筒加工工序中的磨砂轮自动打磨装置，主电机能驱动砂轮体旋转，处于旋转状态的砂轮体能与处于旋转状态的磨砂轮相碰触，砂轮体的旋转方向与磨砂轮的旋转方向相同，当位移电机驱动齿轮旋转并控制齿条带动横移机座板前进或者后退时，紧固于横移机座板顶面的主电机以及主电机轴端的砂轮体同时作前进或者后退动作，砂轮体的前进或者后退动作能对磨砂轮的工作面进行同一角度的打磨和修整，当需要通过另一角度对磨砂轮的工作面进行打磨和修整时，只需要控制支撑架体通过导向碾轮沿着弧形导向轨的弧形轨道作弧形轨迹移动即可。本实用新型在磨砂轮的重新打磨和修整作业中具有打磨效率高、打磨效果更理想、实用性强的特点。
一种应用于大圆针筒加工工序中的磨砂自动打磨装置

[实用新型]一种带有可调节支臂的修盘机-CN202320604621.5有效
发明人：潘照宇;郑勇;魏永利 -专利权人：名正(浙江)电子装备有限公司;安徽名正电子装备有限公司
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型涉及修盘机领域，涉及一种带有可调节支臂的修盘机，本实用新型包括：长支臂横梁、固定支臂、可调节支臂、调节座、中心固定座和工作单元，所述中心固定座固定于长支臂横梁中部，所述固定支臂固定于长支臂横梁左侧，所述调节座固定于可调节支臂中部，所述调节座上设有腰形孔，所述长支臂横梁上间隔设有螺丝孔，所述腰形孔内设有与螺丝孔固定的紧固螺丝，所述工作单元设置于固定支臂上，本装置便于修盘位置的调节，调节位置后可对应不同盘径或不同盘面表面要求的修盘，增加了修盘机的应用面和效率。
一种带有可调节支修盘机

[实用新型]一种修整头摆动装置-CN202321186804.6有效
发明人：孙中臣 -专利权人：天津锦通昌科技有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开一种修整头摆动装置，涉及化学机械抛光技术领域，包括：第一驱动电机、第二驱动电机、中心轴、基座以及上盖，上盖、基座中部拼接形成传动腔体，上盖与基座均与中心轴转动连接，第一驱动电机与第二驱动电机均通过法兰连接在基座上，第一驱动电机的输出端伸入传动腔体内依次通过齿轮、减速器与上盖传动连接，第二驱动电机的输出端依次通过减速器、齿轮与中心轴的输入端传动连接，中心轴的输出端设置有同步带轮；将第一驱动电机与第二驱动电机设置在基座上，同时将相应的传动系统设置在传动腔体内，结构简单，同时可减少摆臂对应修整头端部重量，提高使用寿命及加工精度，结构的紧凑性高，空间占用率高。
一种修整摆动装置

[发明专利]调节装置及控制所述调节装置的方法-CN202310430784.0在审
发明人：尹锺旭;徐章源;文寿泳;金京焕;权泰庆 -专利权人：恩普士(上海)国际贸易有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本公开涉及一种调节装置，包括：喷射器，用于将蒸汽喷射到旋转的抛光垫上；以及喷射器支架，支撑所述喷射器。所述喷射器包括用于向所述抛光垫喷射所述蒸汽的多个喷嘴和用于加热多个所述喷嘴的喷嘴加热器。所述喷嘴加热器将多个所述喷嘴中对应于所述抛光垫的外围区域的喷嘴加热到比多个所述喷嘴中对应于所述抛光垫的中心区域的喷嘴更高的温度。
调节装置控制方法

[发明专利]修整盘及用于晶圆抛光的装置-CN202311149912.0在审
发明人：曾星明;陈晓丹;郝元龙;孙清浩;蒋继乐 -专利权人：北京特思迪半导体设备有限公司
申请日： 2023-09-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请公开了一种修整盘及用于晶圆抛光的装置，包括：盘体、磨片、毛刷、气囊和回拉机构；其中，磨片设于盘体下端的边缘，盘体的下端设置有凹槽，毛刷和气囊均设于凹槽内，且气囊设于盘体和毛刷之间，以使在气囊隆起时，气囊向凹槽外推动毛刷，使得毛刷的刷毛至少部分裸露在磨片的下方；回拉机构的第一端连接于盘体上，第二端连接于毛刷上，回拉机构的第二端用于向毛刷施加朝向气囊收缩方向运动的作用力。本申请解决了相关技术中修整盘的毛刷和磨片只能同时对抛光垫表面进行修整维护，导致修整维护效率较差，且作为耗材的毛刷消耗的会比较快的问题。
修整用于抛光装置

[实用新型]取料装置-CN202320135807.0有效
发明人：闫习习;葛彐梅 -专利权人：捷普电子（新加坡）公司
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请实施例提供的取料装置，包括：机架、驱动机构、联动机构和取料机构；机架具有沿第一方向相对设置的第一传动部和第二传动部，联动机构设置于第一传动部与第二传动部之间，并与驱动机构的驱动端可转动连接，联动机构具有相背设置的第三传动部和第四传动部；取料机构包括环绕设置于联动机构下方的多个取料组件；在联动机构沿第一方向移动的情况下，第二传动部与第四传动部配合，使联动机构围绕第一旋向旋转并挤压其中任一取料组件；在联动机构沿与第一方向相反的方向移动的情况下，第一传动部与第三传动部配合，使联动机构继续围绕所述第一旋向旋转并脱离取料组件。本申请能够减少驱动机构的数量，使结构更简洁，成本更低，体积更小。
装置

[实用新型]一种抛光垫修整装置-CN202321197999.4有效
发明人：孙中臣 -专利权人：天津锦通昌科技有限公司
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开一种抛光垫修整装置，涉及化学机械抛光设备技术领域，包括伸缩部，伸缩部包括设置有法兰盘的中心轴，中心轴外周面竖直设置有限位凸棱，中心轴外周套设有套轴，套轴的上端面与法兰盘的下端面固定连接，中心轴与套轴之间包围形成伸缩腔，伸缩腔内设置有滑动套，滑动套的上端开设有盲孔，中心轴的下部滑动设置于盲孔中，盲孔内部设置有始终与限位凸棱配合的限位凹槽。本实用新型通过在中心轴上设置法兰盘，使套轴与法兰盘固定连接，保证了中心轴和套轴这一整体的牢固性和稳定性。通过在中心轴和盲孔中设置互相配合的限位凸棱和限位凹槽，使中心轴可将扭矩有效传递给滑动套，实现了滑动套可在中心轴上轴向滑动的同时可随中心轴转动。
一种抛光修整装置

[实用新型]砂纸砂砾层去除设备-CN202320116360.2有效
发明人：孙学明 -专利权人：捷普电子（新加坡）公司
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请提供了砂纸砂砾层去除设备，包括：承载装置、驱动装置和磨除装置；所述承载装置设置有多个承载区，所述承载区用于承载砂纸，其中，承载于所述承载区的所述砂纸的砂砾层背向所述承载区；所述驱动装置与所述磨除装置驱动连接，所述驱动装置用于驱使所述磨除装置分别移动至与各所述砂纸相对的位置；所述磨除装置用于在其自身与所述砂纸相对的情况下，磨除所述砂砾层的部分区域。
砂纸砂砾去除设备

[实用新型]CMP修整装置-CN202320696642.4有效
发明人：山下哲二;足立卓也;小林一雄;胡小辉;陆文卿 -专利权人：江苏卓进半导体科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种CMP修整装置，包括：本体；多个固定片，多个所述固定片排列于所述本体上，沿所述固定片的延伸方向间隔设有多个通孔，所述通孔与所述本体相对的一端形成第一开口，所述通孔与所述本体相背的一端形成第二开口，所述第一开口的直径大于所述第二开口的直径；多个研磨颗粒，每一所述研磨颗粒位于一所述通孔内，且所述研磨颗粒的研磨部经所述第二开口延伸至所述通孔外；固定层，所述固定层至少包括位于所述通孔内的第一层，用于连接所述固定片和所述研磨颗粒。该CMP修整装置结构简单，能有效固定研磨颗粒，对研磨垫进行高质量修整，防止CMP抛光过程中对半导体晶圆的损伤。
cmp 修整装置

[实用新型]CMP修整器-CN202320696647.7有效
发明人：山下哲二;足立卓也;小林一雄;胡小辉;陆文卿 -专利权人：江苏卓进半导体科技有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种CMP修整器，包括：圆盘，沿所述圆盘的径向方向划分形成至少两个研磨区，相邻的所述研磨区之间设有至少一凹槽；每一所述研磨区内设有相同粒径的研磨颗粒；位于不同的所述研磨区内的所述研磨颗粒的粒径，由所述圆盘的边缘至中心逐渐增大；且靠近所述圆盘的中心的所述研磨区内的所述研磨颗粒数量小于远离所述圆盘的中心的所述研磨区内的所述研磨颗粒的数量。该CMP修整器便于控制切削效果，能够延长CMP修整器的使用寿命，降低使用成本。
cmp 修整

[实用新型]一种砂轮修整装置-CN202320810662.X有效
发明人：高道军 -专利权人：安徽一本精工科技有限公司
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种砂轮修整装置，包括支撑杆，所述支撑杆一端滑动连接有横移滑块，横移滑块一端固定连接有滑轨组件，所述滑轨组件包括打磨滑轨和滑轨替换件，打磨滑轨和砂轮机一端滑动连接有滑台，滑台一端固定连接有修整组件，所述修整组件包括滑台、电机和传动部件，传动部件一端固定连接于滑台，传动部件的动力输出和输出端分别固定连接于金刚石圈和电机的动力输出端，支撑杆一端固定连接有电动伸缩杆，电动伸缩杆活动端滑动连接有滑杆；具有打磨滑轨和滑轨替换件可以为倾斜滑轨、直滑轨或者带有弧度的曲线滑轨，可根据需要打磨的砂轮形状进行更换，打磨滑轨和滑轨替换件重量较轻，方便大量携带，可快速更换的优点。
一种砂轮修整装置

[实用新型]一种研磨调整器及研磨修正轮-CN202222818846.9有效
发明人：周晨;汪良;苏双图;张洁 -专利权人：湖南三安半导体有限责任公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本申请公开了一种研磨调整器及研磨修正轮。该研磨修正轮包括若干毛刷区和若干丸片区，毛刷区和丸片区沿研磨修正轮表面周向间隔设置。通过上述方式，本申请提供的研磨修正轮能同时对研磨垫进行刷洗和修正，提高了对研磨垫的调整效率。
一种研磨调整器修正

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