“抛光均匀性”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果8233099个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种抛光垫及抛光装置-CN202123059218.9有效
发明人：张迅;易伟华;孙骏超 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： B24B37/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抛光垫及抛光装置，用于对超薄柔性玻璃的弯折位置处的凹槽线条进行抛光处理，包括抛光垫本体，抛光垫本体包括硬质抛光盘和柔性抛光层，柔性抛光层形成于硬质抛光盘的底面。该抛光垫在对超薄柔性玻璃的弯折位置处的凹槽线条进行抛光处理时，由于硬质抛光盘的底面形成有柔性抛光层，柔性抛光层受压形变能够改善抛光垫局部平整度不均衡的缺陷，提升抛光垫与产品面接触均匀性，改善抛光均匀性及降低超薄柔性玻璃压破的风险
一种抛光装置

[发明专利]抛光垫及抛光装置-CN99814332.4有效
发明人：城邦恭;南口尚士;冈哲雄 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 1999-11-05 - 公布日： 2003-01-29 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明涉及抛光装置，其特征在于，微橡胶A硬度为80度以上的抛光层和体积弹性模量为40MPa以上而且拉伸弹性模量为0.1MPa以上20MPa以下的缓冲层的抛光垫、以及将半导体基板固定于抛光头，在抛光平台上固定该抛光垫，使抛光层与半导体基板相对，使所述抛光头或抛光平台或其双方旋转，抛光所述半导体基板。根据本发明，在通过抛光使形成于半导体基板上的绝缘层或金属布线的表面平滑的机械性的平坦化工序中使用的抛光装置或抛光垫中，可以实现使半导体基板整面均匀平坦化甚至在接近晶片边缘处均匀地抛光，而且可以提供在压磨板高旋转速度的条件下、同时实现均匀性和平坦性的技术。
抛光装置

[发明专利]提高晶片抛光厚度均匀性的方法-CN202110406099.5有效
发明人：徐良;曹力力;占俊杰;邢晓鹏;蓝文安;刘建哲;余雅俊;夏建白;李京波;黄仕华;孟秀清;刘圣龙 -专利权人：金华博蓝特新材料有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及半导体生产加工领域，具体公开了一种提高晶片抛光厚度均匀性的方法，包括以下步骤：使用抛光头对多个呈环形排布的测试晶片进行抛光处理，得到抛光后的测试晶片；获取抛光后每个测试晶片不同位置的厚度数据；根据所述厚度数据确定所述抛光头不同位置的压力值；根据所述抛光头不同位置的压力值确定校正垫板的形状；将确定的校正垫板放置在所述抛光头与抛光盘之间；对抛光盘上的待处理晶片进行抛光处理。根据测试晶片不同位置的厚度数据确定抛光头不同位置的压力分布，进而确定校正垫板的形状，通过校正垫板的加入来调节抛光头的压力均匀性。
提高晶片抛光厚度均匀方法

[发明专利]用于边缘抛光均匀性控制的设备-CN02807536.6无效
发明人：许苍山;杰夫·加斯帕雷奇;罗伯特·塔夫;肯尼思·J·巴勒;保罗·斯塔谢夫兹;埃瑞克·H·恩达尔;特拉维斯·罗伯特·泰勒 -专利权人：拉姆研究公司
申请日： 2002-03-29 - 公布日： 2004-05-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：该压盘布置在线性抛光垫的下方，并且被设计得向线性抛光垫的下侧施加受控的流体流。压盘包括包含第一多个输出孔的前导区，其中，前导区更接近线性抛光垫的上游区域。压盘还包括包含第二多个输出孔的尾延区，其中，尾延区更接近线性抛光垫的下游区域。前导区和尾延区被独立控制，并且被设计得独立地从第一多个输出孔和第二多个输出孔输出受控的流体流。
用于边缘抛光均匀控制设备

[发明专利]用于适应性抛光的方法和设备-CN201080054039.1无效
发明人： G·艾森斯托克;A·贾殷 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2010-11-22 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： B24B37/07 文献下载
摘要：提供用于对工件进行均匀地抛光的适应性抛光头部的方法和设备。抛光头部包括弹性抛光垫，该弹性抛光垫安装在弹性隔膜上，该弹性隔膜对抛光垫中的空腔进行密封。对空腔进行加压，以使隔膜膨胀并将抛光垫下压在工件的顶面上，使得抛光垫适应于该表面并且横贯工件施加基本上均匀的压力分布，由此横贯工件上的高低点均匀地移除材料。
用于适应性抛光方法设备

[发明专利]基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置及方法-CN201910658501.1在审
发明人：张云飞;黄文;李凯隆;陈立;郑永成;张建飞;周涛;田东;樊炜;刘军 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：本发明公开了基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置及方法，包括用于喷出抛光液的喷嘴，还包括流体缸，所述流体缸上连接若干活塞，所述活塞的输出方向朝向被抛光曲面，活塞的输出端设置抛光磨具，所述抛光磨具与被抛光曲面相匹配本发明的目的在于提供基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置及方法，以解决现有技术中针对薄壁异形曲面的抛光方式存在加工效率低、均匀性差、容易破坏初始面形、难以获得高精度表面的问题，实现对薄壁异形曲面载荷的均匀施加，保证去除的均匀性，同时大大减少边缘效应的目的。
薄壁异形活塞静压原理抛光工具曲面抛光抛光磨具流体缸抛光高精度表面边缘效应加工效率均匀施加均匀性差抛光方式输出方向喷嘴均匀性抛光液输出端面形喷出去除匹配保证

[实用新型]基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置-CN201921140608.9有效
发明人：张云飞;黄文;李凯隆;陈立;郑永成;张建飞;周涛;田东;樊炜;刘军 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： B24B13/005 文献下载
摘要：本实用新型公开了基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置，包括用于喷出抛光液的喷嘴，还包括流体缸，所述流体缸上连接若干活塞，所述活塞的输出方向朝向被抛光曲面，活塞的输出端设置抛光磨具，所述抛光磨具与被抛光曲面相匹配本实用新型的目的在于提供基于静压原理抛光工具的薄壁异形曲面抛光装置，以解决现有技术中针对薄壁异形曲面的抛光方式存在加工效率低、均匀性差、容易破坏初始面形、难以获得高精度表面的问题，实现对薄壁异形曲面载荷的均匀施加，保证去除的均匀性，同时大大减少边缘效应的目的。
基于静压原理抛光工具薄壁异形曲面装置

[实用新型]一种离子束抛光设备-CN201920998634.9有效
发明人：常洪兴;徐胜 -专利权人：杰莱特（苏州）精密仪器有限公司
申请日： 2019-06-29 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及到电镀技术领域，尤其涉及一种离子束抛光设备。该离子束抛光设备使用真空泵将真空室获得一定真空度。打开离子源将冲入真空室内的惰性气体氩气电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，对基板进行抛光。电机带动基板旋转，提高抛光的均匀性。使用离子束抛光设备可用得到超光滑表面。不仅可用提高抛光质量，而且大大提高了抛光效率，提高了抛光的均匀性和稳定性。此外，该离子束抛光设备结构简单，不仅可用提高抛光质量，而且大大提高了抛光效率，提高了抛光的均匀性和稳定性，适合推广使用。
一种离子束抛光设备

[实用新型]摩托车轴承用磁力抛光装置-CN202021381213.0有效
发明人：曾毅;刘洪林 -专利权人：重庆曾赢机电制造有限责任公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： B24B31/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种摩托车轴承用磁力抛光装置，包括底座，设置在底座上的抛光支撑板，在抛光支撑板的顶面设置有抛光桶，在底座上固定有旋转电机，在抛光支撑板内均匀固定有电磁铁，在抛光桶内固定有与旋转电机相连接的搅动板，在搅动板的侧边上均匀固定有搅动筋条，在抛光支撑板的顶面边沿开设有环形卡槽，在抛光桶的内壁上均匀设置有导风板，在导风板内开设有导风孔，在抛光桶的外壁上固定有鼓风机，在抛光桶的顶部设置有盖板，在盖板上开设有出风槽本实用新型的结构设置合理，有利于使抛光材料进与工件的各个表面相接触，有利地提高抛光的全面性和抛光的质量，一定程度上提高了抛光的效率，适用性强且实用性好。
摩托车轴承磁力抛光装置

[发明专利]提高GLSI硅通孔碱性CMP中铜膜厚度一致性的方法-CN201510987683.9在审
发明人：刘玉岭;刘俊杰;檀柏梅 -专利权人：天津晶岭微电子材料有限公司
申请日： 2015-12-24 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高GLSI硅通孔碱性CMP中铜膜厚度一致性的方法，具体步骤如下：测量抛光片的初始铜膜厚度，选择抛光垫；调整FA/O抛光液的流速150—300mL/min、抛光机的工作压力12kPa-40kPa、抛光头的转速30rpm—120rpm和抛光盘的转速30pm-120rpm，抛光时间60s-300s，开始抛光；在抛光结束后将抛光片取出，清洗干净，选取多个测试点测量抛光后的剩余铜膜厚度，用抛光前后的铜膜厚度差换算出抛光速率，有益效果：在FA/O表面活性剂与抛光头/抛光盘转速的协同作用下提高了抛光片表面质量传递与温度均匀性，从而控制铜膜的一致性，可以使片内非均匀性降至3％以下。
提高 glsi 硅通孔碱性 cmp 中铜膜厚度一致性方法

[发明专利]用于抛光垫的衬垫和使用该衬垫的抛光垫-CN200880016877.2有效
发明人：加藤充;菊池博文;加藤晋哉 -专利权人：可乐丽股份有限公司
申请日： 2008-03-19 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明提供可实现抛光的抛光垫和用于该抛光垫的衬垫，该抛光可实现抛光表面的优异平坦性和在抛光后的膜厚度的均匀性，和同时实现高抛光速率，且还具有抛光物体如绝缘膜或金属膜的优异抛光均匀性。所述抛光垫包括用于抛光垫的衬垫层和抛光层。
用于抛光衬垫使用

[实用新型]一种用于化学机械抛光的抛光头-CN201621459237.7有效
发明人：黄仁东 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的抛光头，通过对位于抛光头最外围第五腔室的气路设计进行改进，将其气路一分为四进行腔室供气，并通过设置缓冲腔室对进入第五腔室之前的气体进行均匀化处理，因此可提供更稳定和均匀的供气压力，从而可以获得更为均匀和稳定的抛光压力和抛光速率，实现对抛光速率非均匀性(NU)的进一步降低。
一种用于化学机械抛光抛光

[发明专利]用于控制抛光均匀性的化学机械抛光装置-CN201910948775.4在审
发明人：金仁权;朴承浩;裵相元;李愚仁;李晓山;张善载 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-09-30 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种化学机械抛光(CMP)装置包括：抛光台板上的抛光垫；抛光垫上的抛光头，该抛光头具有用于将晶片保持在抛光垫上的隔膜、以及用于馈送抛光浆料的抛光浆料馈送线；以及保持环，围绕隔膜并与抛光垫接触以防止晶片脱离，该保持环包括连接到抛光浆料馈送线的抛光浆料馈送入口，以将抛光浆料馈送到抛光垫上。
用于控制抛光均匀化学机械抛光装置

[发明专利]冰粒型固结磨料抛光垫及快速制备方法和装置-CN201019026124.6有效
发明人：孙玉利;左敦稳;于守鑫;祝晓亮;朱永伟;卢文壮;李军 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2010-03-01 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明针对已有冰冻固结磨料抛光垫在制备过程中效率低、均匀性和可靠性差等缺点，提出了一种冰粒型固结磨料抛光垫及其快速制备方法和装置，以适应目前既要保证工件抛光质量又能提高经济效益的要求。本发明首先将磨料均匀分散于去离子水中，制成抛光液，然后利用雾化器将抛光液雾化成均匀微小的液滴，之后快速低温冷却成含有磨料的细小冰粒，再将雾化后的常温去离子水喷洒于冰粒表面，置于模具中，经振动平台震实即可制成冰粒型固结磨料抛光垫该抛光垫可用于抛光加工各种薄形工件，尤其适于加工热敏性材料、软材料、晶体材料等。具有制造简单、加工成本低、加工效率高、工艺控制能力强、绿色环保等优点。
冰粒型固结磨料抛光快速制备方法装置

[发明专利]一种自由曲面的抛光方法及装置-CN202010492415.0有效
发明人：金洙吉;赵勇;郭江 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-06-03 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： B24B1/04 文献下载
摘要：一种自由曲面的抛光方法及装置，尤其涉及一种基于剪切增稠的角度可调整的振动抛光工件自由曲面的方法及装置。装置包括抛光系统、抛光液循环系统、振动装置、角度调节装置，抛光系统与抛光液循环系统连接，抛光液从抛光池底部侧面流出通过管路进入抛光液循环系统，角度调节装置与抛光系统相连。该方法是通过工件在具有剪切增稠效应的非牛顿流体里振动，保证抛光液发生剪切增稠现象。同时，度调节装置可以使工件在抛光液中的抛光角度变化，保证抛光的均匀性。工件表面在抛光液中振动冲刷以实现对内表面材料的高效、均匀去除。本发明可用于实现常规抛光工具难以加工的自由曲面面的抛光，且抛光效率高、可实现自由曲面的均匀抛光、装置简单。
一种自由曲面抛光方法装置

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条