专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种粗精抛一体化的自清洁磨料流加工机床-CN202310649228.2在审
  • 孙玉利;刘彦磊;杨范轩;范武林;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2023-06-02 - 2023-09-22 - B24B31/116
  • 一种粗精抛一体化的自清洁磨料流机床,其特征是它包括双磨料缸、单液压系统、自动清洁系统和切换装置;在不同磨料缸内加入不同粒径的磨料并设置不同加工参数可以实现粗精抛一体加工;通过控制电磁换向阀实现双磨料缸共用一套液压系统,当左磨料缸加工时,可将右侧电磁换向阀调至两路闭合状态,使得油液只进入左液压缸内;当加工完毕后,将气泵产生的高压气体引入上磨料缸底部,可以将残余在工装内部的磨料挤入下磨料缸以实现自动清洁;清洁完成后,置于滑台上的工装可通过滑台与底座的配合切换至另一磨料缸口,以达到切换料缸的目的;本发明实现了磨料流粗精抛一体加工,在保证加工质量的前提下能够提高加工效率,节省人力降低辅助工时。
  • 一种粗精抛一体化清洁磨料加工机床
  • [发明专利]一种磨粒流加工机床磨料缸体冷却装置-CN202310750135.9在审
  • 孙玉利;刘彦磊;杨范轩;范武林;孙超越;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2023-06-25 - 2023-08-29 - B24B31/00
  • 一种磨粒流加工机床磨料缸体冷却装置,其特征是它包括散热水箱、温控装置。散热水箱结构类似于中空套筒,其与下磨料缸外壁紧贴,流道内通有冷却液,在磨料缸工作时冷却液持续流动,当温度过高时冷却系统开始工作,通过冷却液循环流动将热量带走,从而起到对料缸内磨料的温度控制,以期完善传统磨粒流机床加工时无法有效降低磨料温度的问题。此外,在下磨料缸的上方加装有冷却管道,其与冷却水箱为一体结构,该冷却管道形状为十字型、Y型或一字型,管路内开槽并通有冷却液,当机床工作时,磨料与冷却管道直接接触,进一步增强了热量交换达到控制磨料温度的目的。本发明可以有效降低料缸内温度,保证磨料的加工性能,对机床的加工效果影响显著。
  • 一种磨粒流加工机床磨料缸体冷却装置
  • [发明专利]一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置-CN202310398569.7在审
  • 周潜;娄陈旭坤;施仙庆;马震宇;赵文轩;徐锋;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2023-04-14 - 2023-07-28 - C23C14/35
  • 一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置,包括:第一阴极电弧源和第二阴极电弧源,所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源分别包含第一靶材和第二靶材,所述第一靶材和第二靶材外围均设有绝缘材料,所述绝缘材料用于防止次放电现;T型磁过滤弯管,所述T型磁过滤弯管入口两端分别与所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源的前端相连接,出口端与真空镀膜腔室的内腔体相连接;真空镀膜腔室室内为真空状态,且包含待镀膜的衬底,所述衬底与阳极源相连接,所述阳极源与负脉冲偏压相连接。本发明通过控制线圈模组中的电流,能够实现单靶材高效沉积以及多靶材共同沉积,结构简单、控制灵活、镀膜效率高、满足多元多层复合涂层制备需求。
  • 一种多靶共沉积过滤镀膜装置
  • [发明专利]激光系统以及用于加工陶瓷材料的装置和方法-CN202210727153.0有效
  • 李志鹏;刘海旭;靳萌萌;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2022-06-24 - 2023-07-25 - B24B19/00
  • 本发明公开了一种激光系统以及用于加工陶瓷材料的装置和方法,其中激光系统包括激光器、分束器、聚焦镜组件、第一光束变向组件、第二光束变向组件和控制系统。分束器用于将激光器射出的激光分为第一光束和第二光束。聚焦镜组件包括第一聚焦镜和第二聚焦镜,第一聚焦镜用于将入射光线聚焦在砂轮上,第二聚焦镜用于将入射光线聚焦在工件上。第一光束变向组件用于调整第一光束的方向,第二光束变向组件用于调整第二光束的方向。控制系统同时与第一光束变向组件、第二光束变向组件电连接,以控制第一光束和第二光束的方向。相比于现有技术,本发明能够同时进行陶瓷材料的激光预辐照和砂轮的修整,以实现陶瓷材料的高效低损伤加工。
  • 激光系统以及用于加工陶瓷材料装置方法
  • [发明专利]一种碳化硅晶圆基片研抛加工的上料组批优化方法-CN202310241390.0在审
  • 张丹;朱锡生;符伟东;徐海涛;左敦稳 - 南京航空航天大学
  • 2023-03-14 - 2023-05-05 - B24B1/00
  • 一种碳化硅晶圆基片研抛加工的上料组批优化方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:通过灰色关联分析法对碳化硅晶片研抛加工工序历史加工数据进行分析,获取与该工序成品率具有强关联的晶片组表面质量参数的一致性作为加工质量预测模型的输入参数,输出参数为对该工序成品率的预测值;步骤2:基于碳化硅晶片生产线采集所得研抛工序历史加工数据建立碳化硅晶片加工质量预测模型;步骤3:通过表面质量检测获得缓冲区所有待加工晶片的表面质量参数,建立该批加工工序缓冲区晶片上料组批优化问题模型;步骤4:采用优化算法对缓冲区碳化硅晶片上料组批优化问题进行求解,获得优化后的晶片组批生产方案。本发明能有效地提高具有单品种、大批量特点的碳化硅生产线多片加工工序的成品率,降低产出损失。
  • 一种碳化硅晶圆基片研抛加工上料组批优化方法

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