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[发明专利]基于提高烘干均匀性的制鞋工艺-CN201610597105.9在审
发明人：赖金元 -专利权人：成都力鑫科技有限公司
申请日： 2016-07-27 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： A43D25/20 文献下载
摘要：本发明公开了基于提高烘干均匀性的制鞋工艺，包括以下步骤：1）、鞋底成型：在模具内制备鞋底；2）、鞋帮料的制备：将鞋面和衬里通过胶粘复合成型；3）、鞋帮料的裁剪：将步骤2）制备的鞋帮料裁剪成与鞋底匹配的鞋帮本发明所述制鞋工艺的烘干系统通过设置相互配合的第一倾斜板和第二倾斜板，使放置在第一倾斜板和第二倾斜板上的鞋体与鞋体放置板之间形成一定倾角，确保鞋体的鞋面的各个侧面就能受到热辐照，提高鞋体热辐照的均匀性。
基于提高烘干均匀制鞋工艺

[发明专利]增进工艺均匀性的方法及系统-CN202010862237.6在审
发明人： S·辛格;A·曹;张景春;李子汇;张汉申;D·卢博米尔斯基 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-09 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：增进工艺均匀性的方法及系统。半导体处理腔室可包含远程等离子体区域，及与远程等离子体区域流体耦接的处理区域。处理区域可被配置为在支撑基座上容纳基板。支撑基座可包含在基座的内侧区域处的第一材料。
增进工艺均匀方法系统

[发明专利]增进工艺均匀性的方法及系统-CN201580064178.5有效
发明人： S·辛格;A·曹;张景春;李子汇;张汉申;D·卢博米尔斯基 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-09 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：半导体处理腔室可包含远程等离子体区域，及与远程等离子体区域流体耦接的处理区域。处理区域可被配置为在支撑基座上容纳基板。支撑基座可包含在基座的内侧区域处的第一材料。支撑基座也可包含与基座的远程部分耦接的或在基座的外侧区域处的环形构件。环形构件可包含与第一材料不同的第二材料。
增进工艺均匀方法系统

[发明专利]改进工艺均匀性的衬底支撑件-CN201780082496.3在审
发明人：郝方力;付越虹;陈志刚 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种用于在衬底处理系统中支撑衬底的衬底支撑件包括基板和布置在所述基板上方的陶瓷层。所述陶瓷层的外周边被边缘环包围。所述陶瓷层的外半径大于所述边缘环的内半径，使得所述陶瓷层的外边缘在所述边缘环下方延伸。
陶瓷层边缘环衬底支撑件基板衬底处理系统工艺均匀性外边缘外周边中支撑衬底包围延伸改进

[发明专利]改良工艺均匀性的衬底晕圈配置-CN201980015219.X在审
发明人：杰伊·R·沃利斯;赛门·罗芙尔;凯文·安葛林;泰勒·洛克威尔;克里斯多夫·坎贝尔;凯文·M·丹尼尔斯;理查德·J·赫尔特 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种衬底总成可包括外部晕圈，所述外部晕圈包含第一材料并界定第一孔隙。所述衬底总成也可包括晕环，所述晕环包含第二材料且至少部分地设置在所述第一孔隙内。所述晕环可界定同心地定位在所述第一孔隙内的第二孔隙，其中所述晕环耦合以在其中容置衬底。
改良工艺均匀衬底配置

[发明专利]用以改进工艺均匀性的晶片电镀装置-CN200510136262.1无效
发明人：全昶宣 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-12-26 - 公布日： 2006-07-26 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：阴极与晶片的侧面和前边缘的直接接触确保电镀工艺期间晶片上的电场的均匀分布。从而，实现金属膜沉积的均匀厚度。
用以改进工艺均匀晶片电镀装置

[发明专利]一种纺织面料的均匀性染整工艺-CN201810750120.1在审
发明人：郭耀明 -专利权人：阿斯福特纺织（漳州）有限公司
申请日： 2018-07-04 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： D06P1/34 文献下载
摘要：本发明涉及纺织面料染整技术领域，具体涉及一种纺织面料的均匀性染整工艺，包括如下具体步骤：S1：洗涤；S2：织物精炼；S3：烧毛；S4：染色；S5：除甲醛；S6：印花；S7：整理；S8：烘干。本申请的技术方案，通过前期的洗涤工艺，一方面可以把纺织物内部本身夹杂的灰尘进行清理，并通过洗涤温度的变化，使纺织物通过升温的方式，使纺织物热膨胀，使纺织物之间的纺织间隙孔洞能够变得松弛，利于灰尘清理；通过碱性洗涤剂的使用
纺织物染整纺织面料洗涤均匀性热膨胀孔洞纺织物洗涤碱性洗涤剂防水效果固色性能灰尘清理褪色效果除甲醛染色防菌烘干夹杂烧毛疏水精炼松弛清水申请

[发明专利]一种提高食品烘烤均匀性的工艺-CN201710871381.4在审
发明人：王辉;郑富同 -专利权人：安徽玄同工业设计有限公司
申请日： 2017-09-25 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： A21B1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高食品烘烤均匀性的工艺，环形输送线包括上、下对应布置的主动轴、从动轴，主动轴和从动轴均转动安装在箱体上，主动轴和从动轴的轴长方向与方向D保持一致，主动轴和从动轴通过传动件相连接，传动件沿方向
主动轴从动轴传动件食品烘烤均匀性支撑件同步传动组件长条形板件环形输送线饼状食品驱动机构生产效率水平布置支撑单元轴长方向转动安装

[发明专利]改善坭兴陶干粉坯料均匀性的工艺-CN201711390505.3在审
发明人：黄海武;黄启发 -专利权人：钦州市华夏太极泉坭兴陶艺有限责任公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： C04B33/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种改善坭兴陶干粉坯料均匀性的工艺，包括以下步骤：1)取坭兴陶泥料，加入其重量0.1‑0.5％的SiC颗粒，混合粉碎，先置于500‑1000MHz下处理20‑25min,然后置于100‑200GHz本发明在传统坭兴陶泥料中加入SiC颗粒并结合微波处理，可得到表面光滑，形状规则，流动性良好的球状颗粒，适合后续干压成型。
改善坭兴陶干粉坯料均匀工艺

[发明专利]一种高均匀性丝网印刷工艺-CN202211121574.5在审
发明人：陈健英 -专利权人：陈健英
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B41M1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种高均匀性丝网印刷工艺，属于丝网印刷领域，在通入油墨后，在刮刀刮涂之前，油墨先聚集在匀墨槽内，同时配合外加磁场以及导墨球，使油墨在刮刀刮涂之前就顺着刮刀边缘走向均匀分散，之后通过充气操作，促使使溢墨槽内油墨沿着刮刀走向的分散轨迹继续分散，最后再进行刮刀刮涂，相较于现有技术中依靠刮刀对油墨分散，本方案中先将油墨聚集并均匀分散，最后再用刮刀刮涂，刮刀仅仅起到推动油墨的作用，进而有效避免一次刮涂后部分丝网空隙内未渗入油墨的情况发生
一种均匀丝网印刷工艺

[发明专利]监控topcon电池背面poly工艺均匀性的方法-CN202310585151.7在审
发明人：张双玉;李蕊怡;安萍;张楠楠 -专利权人：江苏润阳悦达光伏科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种监控topcon电池背面poly工艺均匀性的方法；包括：S1、提供测试装置；测试装置包括暗箱、高清相机、光源以及载物台；高清相机设置于暗箱顶部；光源和载物台活动设置于暗箱中；S2、将topcon电池样品置于载物台上并送入暗箱中，使topcon电池样品背面完全暴露于高清相机的拍摄范围内；S3、利用高清相机拍摄topcon电池样品背面经poly工艺后的图像；S4、通过获取图像的颜色均匀性判定topcon电池背面poly均匀性。本发明的方法简单、易于操作且使用设备易得、成本低；本发明方法在获取到样品背面poly层图像后，可以直接通过图像的颜色均匀性来判定样品背面poly的均匀性。
监控 topcon 电池背面 poly 工艺均匀方法

[发明专利]改善取向硅钢板组织均匀性的热轧工艺-CN200910248759.0有效
发明人：蒋奇武;金文旭;游清雷;谷春阳;李向科;赵宇 -专利权人：鞍钢股份有限公司
申请日： 2009-12-22 - 公布日： 2011-06-22 - 主分类号： C21D8/02 文献下载
摘要：本发明提供一种改善取向硅钢板组织均匀性的热轧工艺，包括铸坯加热、粗轧、精轧和卷取，其特点是所述的铸坯厚度为180～250mm，铸坯装炉温度在300℃以上，均热段温度为1200～1350℃，出炉温度大于1200
改善取向硅钢组织均匀热轧工艺

[发明专利]提高工艺片成膜均匀性的方法-CN201410174514.9有效
发明人：黄自强 -专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高工艺片成膜均匀性的方法，其包括向热的氧化炉炉管内通入氮气；旋转工艺片承载舟，并从原始位置升舟至第一位置；保持旋转工艺片承载舟，对工艺片进行主氧化工艺；主氧化工艺完成后，保持旋转工艺片承载舟，从工艺行程位置降舟至原始位置。本发明通过升舟、降舟和主氧化工艺的过程中保持低速旋转工艺片承载舟，来减小温度场、气流场分布不均匀对工艺片成膜均匀性的影响，从而优化半导体立式炉设备中工艺片的成膜均匀性，同时降低了生产成本。
提高工艺片成膜均匀方法

[发明专利]提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法-CN201210112494.3有效
发明人：杨涛;赵超;李俊峰;侯瑞兵;卢一泓;崔虎山 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：本发明提供了一种提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法，包括以下步骤：在衬底上形成特征；在特征之间形成第一介质隔离层；平坦化第一介质隔离层，直至暴露特征，使得特征之间的第一介质隔离层具有凹陷深度；在特征以及介质隔离层上形成第二介质隔离层依照本发明的提高化学机械平坦化工艺均匀性的方法，在研磨特征顶部的介质隔离层之后再次形成介质隔离层，使得特征之间与特征顶部介质层高度差有效降低，并补偿了特征的凹陷，有效提高了晶圆芯片内部的均匀性。
提高化学机械平坦化工均匀方法

[发明专利]大尺寸镁合金型材组织均匀性控制工艺-CN201911281379.7有效
发明人：夏祥生;胡传凯;黄少东;黄树海;林军;康凤;李辉;赵祖德 -专利权人：中国兵器工业第五九研究所
申请日： 2019-12-13 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： C22C23/06 文献下载
摘要：本发明提供了大尺寸镁合金型材组织均匀性控制工艺，步骤依序包括：将镁合金锭坯进行均匀化热处理，将镁合金锭坯镦粗，将镦粗件进行两次45°对压，将坯料按照“X向—Y向—Z向”压缩1次，将坯料进行3次拔长，将坯料翻转采用本发明方法制得的镁合金型材晶粒尺寸不大于8μm，不同部位晶粒尺寸差异≤20%，解决了传统制造工艺制造大尺寸镁合金型材组织不均匀的难题。
尺寸镁合金组织均匀控制工艺

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