“射频源”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果669448个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]离子源装置及可活动射频扫描离子设备-CN201911417964.5在审
发明人：刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;曾文华;刘运鸿;吴秋生;范奕生 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置和可活动射频扫描离子设备，该离子源装置包括：射频匹配网络、射频离子源；其中，射频匹配网络为Π型结构的匹配网络；射频匹配网络的输入端连接射频源，射频匹配网络的输出端连接至射频离子源的射频线圈一端；射频离子源的射频线圈另一端接地；射频匹配网络通过输入端接入射频源，射频源通过输出端传输至射频离子源的射频线圈，射频线圈对通过气体管道进入电离室的气体进行电离产生离子，并通过屏极栅网的驱动产生离子束。上述离子源装置，简化了射频匹配网络的结构，便于移动使用。上述可活动射频扫描离子设备，离子源可以方便移动来实现镜面的扫描处理，提升了射频扫描离子设备使用效果。
离子源装置活动射频扫描离子设备

[实用新型]离子源装置及可活动射频扫描离子设备-CN201922500049.4有效
发明人：刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波;曾文华;刘运鸿;吴秋生;范奕生 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子源装置和可活动射频扫描离子设备，该离子源装置包括：射频匹配网络、射频离子源；其中，射频匹配网络为Π型结构的匹配网络；射频匹配网络的输入端连接射频源，射频匹配网络的输出端连接至射频离子源的射频线圈一端；射频离子源的射频线圈另一端接地；射频匹配网络通过输入端接入射频源，射频源通过输出端传输至射频离子源的射频线圈，射频线圈对通过气体管道进入电离室的气体进行电离产生离子，并通过屏极栅网的驱动产生离子束。上述离子源装置，简化了射频匹配网络的结构，便于移动使用。上述可活动射频扫描离子设备，离子源可以方便移动来实现镜面的扫描处理，提升了射频扫描离子设备使用效果。
离子源装置活动射频扫描离子设备

[发明专利]射频离子源系统及射频离子源控制方法-CN202111670990.6在审
发明人：吴秋生;刘伟基;冀鸣;赵刚;易洪波 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本申请涉及一种射频离子源系统及射频离子源控制方法，所述射频离子源系统包括：射频离子源，至少一个与所述射频离子源匹配使用的射频中和器；其中，所述射频离子源的射频控制器与所述射频中和器的阴极控制器通过通信线连接；所述射频控制器用于控制所述射频离子源进行启动和维持运行，并向所述阴极控制器发送射频离子源的控制参数；所述阴极控制器用于根据所述控制参数控制所述射频中和器进行启动和维持运行；上述技术方案，通过射频控制器和阴极控制器即可实现射频中和器跟随射频离子源进行启动和跟着负载的变化而变化，不需要单独设置，全程自动启动和与射频离子源的联机控制，降低了启动和调节过程的操作复杂性，提升了射频中和器的控制效率。
射频离子源系统控制方法

[发明专利]自动频率调谐源和偏置射频电源的电感耦合等离子处理室-CN201210175897.2有效
发明人：罗伟义;许颂临;倪图强 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开一种自动频率调谐源和偏置射频电源的电感耦合等离子处理室，其包含：处理室，其内腔底部设有阴极，其顶部上设有若干源线圈；源射频电源，其电路连接源线圈；偏置射频电源，其电路连接阴极；源射频电源和偏置射频电源可自动频率调谐，响应并匹配负载阻抗的变化；源射频电源与源线圈之间电路连接有匹配电路；偏置射频电源与阴极之间电路连接有匹配电路；匹配电路固定；处理室包含：检测负载阻抗的检测电路和电路连接检测电路的控制电路；源射频电源和偏置射频电源分别对应电路连接有控制电路本发明中源射频电源和偏置射频电源具有自动频率调谐功能，通过扫频电调输入处理室的源射频电源和偏置射频电源，调谐速度快，调谐范围大。
自动频率调谐偏置射频电源电感耦合等离子处理

[实用新型]射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机-CN202221729136.2有效
发明人：刘伟基;吴秋生;冀鸣;易洪波;谢伟民;黄伟栋 -专利权人：中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请涉及一种射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机；其中射频真空馈入结构包括：连接在射频电源和射频离子源之间的射频电馈入管道，设于所述射频电馈入管道与真空腔体面板之间的绝缘件；所述射频电馈入管道通过所述绝缘件密封安装到真空腔体面板上，所述射频电馈入管道靠近射频离子源的一侧上设有软性射频馈入件；所述射频电馈入管道的一端连接所述射频离子源的射频线圈，另一端连接射频电源的射频匹配网络；所述射频离子源通过所述软性射频馈入件调整安装角度；该技术方案，可以调整射频离子源的安装角度，从而提高了射频离子源安装的兼容性。
射频真空结构离子源设备以及真空镀膜

[实用新型]一种射频解冻装置-CN201621124309.2有效
发明人：李俊宏;杨华;王彦斌 -专利权人：成都沃特塞恩电子技术有限公司
申请日： 2016-10-14 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： A23B4/07 文献下载
摘要：本实用新型涉及射频技术领域，具体涉及一种射频解冻装置，其包括射频源、射频匹配器、解冻器件和控制装置。射频匹配器连接于射频源和解冻器件之间，射频源和射频匹配器分别与控制装置连接。射频源用于产生射频信号并通过射频匹配器将射频信号发送至解冻器件，控制装置用于接收射频源产生的射频信号的功率信息和解冻器件中的反射信号的功率信息，并根据射频信号的功率信息和反射信号的功率信息向射频匹配器发送控制信号，射频匹配器用于根据控制信号进行阻抗匹配。如此设置使解冻器件的反射信号功率达到最小，起到保护射频源的作用。
一种射频解冻装置

[发明专利]一种一体化多体制射频源-CN202211598972.6在审
发明人：马婷婷;周焯;朱剑;徐启威;汤飞;胡贤洪;姚瑶 -专利权人：上海无线电设备研究所
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G01S7/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种一体化多体制射频源，该射频源主要包含：X波段半主动射频源、Ka波段主动射频源和嵌入式数字控制单元。其中，所述X波段半主动射频源包含：X波段半主动直波接收通道单元模块、半主动导频单元模块、半主动本振单元模块；所述Ka波段主动射频源包含Ka波段主动本振源模块和Ka波段主动主振源模块；所述嵌入式数字控制单元为控制模块同时，该一体化多体制射频源还包含参考时钟源模块和电源模块。其优点是：该一体化多体制射频源借助多个模块应答X波段半主动雷达、Ka波段主动雷达两种体制射频源需求，可满足实际应用中的多体制复合雷达射频源的收发需求。
一种一体化体制射频

[发明专利]电感耦合等离子体处理系统及处理方法-CN201510253305.8有效
发明人：罗伟义;刘骁兵;倪图强 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2015-05-18 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种电感耦合等离子体的处理系统，其包括射频电源系统，所述射频电源系统包括源射频电源系统和偏置射频电源系统，所述源射频电源系统包括源射频电源和源匹配网络，所述偏置射频电源系统包括偏置射频电源和偏置匹配网络，其中，所述源匹配网络为具有宽频带工作的固定匹配网络，所述偏置匹配网络为自动匹配网络。源匹配网络能够使得源射频功率源的阻抗与等离子体阻抗的快速匹配，偏置匹配网络使得在低偏置射频功率下能够始终得到非常低的反射功率。因此，该处理系统能够实现射频电源和等离子体之间的阻抗快速准确地调整。
电感耦合等离子体处理系统方法

[发明专利]射频解冻装置-CN201811536114.2有效
发明人：张力潇;俞国新;叶世超;潘自杰;陶瑞涛;臧艺强 -专利权人：青岛海尔智能技术研发有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： A23B4/07 文献下载
摘要：本发明属于射频解冻技术领域，公开了一种射频解冻装置，包括：解冻腔、外壳、射频源、射频功率放大器和射频天线；所述射频源与所述射频功率放大器设置于所述解冻腔与所述外壳之间；所述射频源与所述射频功率放大器连接，用于将所述射频源产生的射频功率放大至设定功率；所述射频天线设置于所述解冻腔内壁；所述射频天线与所述射频功率放大器连接，用于将所述射频源产生的射频辐射到解冻腔内。本发明实施例提供的射频解冻装置使得被解冻食物内外平稳升温，保证被解冻食物受热均匀，改善解冻效果。
射频解冻装置

[发明专利]半导体晶圆的加工方法-CN201911032952.0有效
发明人：杨京;卫晶;韦刚;陈国动;李娟娟;魏晓;黄亚辉 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-10-28 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种半导体晶圆的加工方法，包括：开启射频源，使射频源输出第一射频功率，并将工艺腔室的腔室压力设为第一腔室压力；维持所述射频源开启，将所述射频源的输出功率调节至过渡射频功率；同时，将所述腔室压力调节至第一过渡腔室压力；在预定时间段内，使所述射频源持续输出所述过渡射频功率；同时，将所述腔室压力调节至第二过渡腔室压力；将所述射频源的输出功率调节至第二射频功率；同时，将所述腔室压力调节至所述第二腔室压力；以及，使所述射频源输出所述第二射频功率，并使所述腔室压力保持在所述第二腔室压力本发明在调节工艺条件期间，射频源维持输出射频功率，使得鞘层可维持在工作件(如晶圆)的上方，并借此改善工艺结果及提升良率。
半导体加工方法

[发明专利]一种射频输出装置-CN201410793852.0有效
发明人：雷晓兵 -专利权人：深圳半岛医疗有限公司
申请日： 2014-12-19 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： A61B18/12 文献下载
摘要：本发明提供一种射频输出装置，包括射频电极模块，具有多组射频电极；射频发生装置，用于输出与所述多组射频电极数量相对应的多个射频源，且所述多个射频源通过多个射频电极驱动电路依次对应连接所述多组射频电极；控制器，连接所述射频电极驱动电路，用于按预设频率输出激励源来触发所述射频电极驱动电路导通，以驱动所述多组射频电极与所述多个射频源依次循环导通工作。通过射频电极驱动电路来单独驱动射频电极和射频源的导通，并采用多组射频电极循环导通的方式来进行射频电极的排布治疗，从而保证了每组射频电极之间电流的均匀分布，很好地解决了现有射频电极治疗中电流分布不均的问题
一种射频输出装置

[发明专利]无线电台检测模块-CN201110112439.X无效
发明人：牛刚;陈国顺;王格芳;冯锡智 -专利权人：牛刚
申请日： 2011-05-03 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： H04B17/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种无线电台检测模块，包括电源模块、音频源模块、射频源模块、分析模块、射频通道模块以及核心MCU模块，其中电源模块提供电源，送至音频源模块、射频源模块以及分析模块，音频源模块提供音频信号输出至被检设备，射频源模块提供射频信号输出至射频通道模块，分析模块分析由被检设备传送来的音频信号以及通过射频通道模块传送来的射频信号，核心MCU模块控制音频源模块产生音频信号，控制射频源模块产生射频信号，控制分析模块分析计算接收到的音频、射频信号。本发明采用DSP数字处理电路以及FPGA电路实现射频信号和音频信号的分析，能够快速检测无线电台的故障，有利于现场检测和抢修，采用大规模集成电路，使其体积小巧，便于携带。
无线电台检测模块

[实用新型]一种设有匹配器的射频功率源装置-CN201921568241.0有效
发明人：王彦斌;李俊宏;王超 -专利权人：成都沃特塞恩电子技术有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-05-29 - 主分类号： H02M1/32 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种设有匹配器的射频功率源装置，涉及射频技术领域。该设有匹配器的射频功率源装置包括射频源和匹配器，所述匹配器用于将所述射频源发送的射频信号加载至负载终端；所述匹配器包括输入端、输出端、第一可变电容、电感、第一步进电机、第二可变电容和第二步进电机。该设有匹配器的射频功率源装置通过将负载阻抗匹配至设有匹配器的射频功率源装置的标准阻抗，从而实现提高射频信号的能量传输效率，降低射频功率源被烧毁的可能性。
一种设有配器射频功率装置

[发明专利]用于等离子体处理设备的射频功率源装置和射频功率分配方法-CN201911302112.1有效
发明人：赵军;涂乐义;王兆祥 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于等离子体处理设备的射频功率源装置和射频功率分配方法，射频功率源装置包含射频源发生器，射频匹配盒，以及连接射频匹配盒和等离子体处理设备中射频导体部件的功率分配器。如果等离子体处理设备所需的射频功率小于射频源发生器的最小有效输出功率，则射频源发生器输出大于最小有效输出功率的任意射频功率值给功率分配器，功率分配器将射频源发生器提供的射频功率值分割为等离子体处理设备所需的一个或两个以上的射频功率并输出给等离子体处理设备中的射频导体部件本发明极大地拓宽了射频源发生器的有效功率区间，提高了等离子体处理设备的工艺复杂化程度，减少了设备成本。
用于等离子体处理设备射频功率装置分配方法

[发明专利]在衬底沉积装置中使用高频扼流器的装置和方法-CN200610126935.X无效
发明人：卡尔·A·索伦森 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2006-09-06 - 公布日： 2007-03-21 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：按照某些方面，该装置包括连接到气体源的气体管、射频功率源和衬底处理室。气体管适于将工艺气体和清洗等离子体从气体源/远程等离子体气体源运送到衬底处理室并且射频功率源适于将射频功率耦合施加到衬底处理室。而且，射频扼流器连接到射频功率源和气体源，其中射频扼流器适于衰减射频功率源和气体源之间的电压差以防止在衬底处理期间在气体管中形成等离子体。本发明还提供了许多其它方面。
衬底沉积装置使用高频扼流器方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条