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- [实用新型]对准标记-CN201420148077.9有效
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王娉婷;奚民伟
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中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
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2014-03-28
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2014-08-13
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H01L23/544
- 本实用新型揭示了一种对准标记，用于背照式影像传感器制作过程中的对准，所述对准标记设置于晶圆正面，包括一对第一标记，分别位于以晶圆缺口所在直径的两侧的一个区域中，所述区域中心连线经过晶圆中心，并与所述直径呈55°夹角，所述区域靠近晶圆边缘，为沿连线方向长度小于等于11mm，垂直连线方向长度小于等于8mm的矩形，位于所述直径左侧的区域到缺口的距离小于位于右侧的区域到缺口的距离；所述第一标记包括多个第二标记。本实用新型的对准标记能够避免占据额外的单元（shot），从而避免了对良率的影响，此外，由于不需要涉及特殊标记，简化了制作流程，提高了生产效率。
- 对准标记
- [发明专利]光刻标记、对准标记及对准方法-CN202010832174.X有效
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童立峰;李铭;陈继华
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上海华力微电子有限公司
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2020-08-18
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2022-11-04
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G03F9/00
- 本发明提供一种光刻标记、对准标记以及对准方法。所述光刻标记包括：遮光结构和感光结构。所述遮光结构上设有多个盲孔，所述感光结构填充于多个所述盲孔内并且能够在一定光照下消失。基于同一发明构思，本发明还提供一种对准标记，包括第一对准标记和第二对准标记，所述第二对准标记包括至少一个所述光刻标记。当机台提供的光束照射于所述第二对准标记上，所述感光结构消失，则所述盲孔暴露。因盲孔的底面低于所述遮光结构的表面以满足机台的测量范围，从而使得在保障所述光刻标记厚度的同时，能够通过所述盲孔精准测得所述第二对准标记相对于所述第一对准标记的偏移量，进而能够实现各衬底层之间的位置对准，
- 光刻标记对准方法
- [发明专利]一种晶圆键合动态标定方法及装置-CN202210055323.5在审
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赵雄峰;张豹
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北京华卓精科科技股份有限公司
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2022-01-18
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2022-06-03
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H01L21/68
- 本发明公开一种晶圆键合动态标定方法及装置，方法包括：传送晶圆至对应的晶圆载片装置上，获取晶圆信息，晶圆信息包括晶圆坐标系下的对准标记位置；判断对准标记识别装置、标定标记的位置是否都与对应晶圆的对准标记位置对齐，如果不对齐则分别控制对准标记识别装置和标定标记移动到都与对应晶圆的对准标记对齐，然后分别通过标定标记来标定对准标记识别装置的偏差量；对准标记识别装置分别识别晶圆的对准标记获得对准标记的偏差量，综合对准标记识别装置的偏差量，以及对准标记的偏差量来控制晶圆移动，使得一对晶圆的对准标记对准。本发明提前将标定标记和对准标记识别装置同步移动到对准标记相同的位置，可以大大降低对准误差，从而提高晶圆键合精度。
- 一种晶圆键合动态标定方法装置
- [发明专利]对准标记及掩膜版-CN201610012639.0在审
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李冲;丰亚洁;何艳;吕本顺;郭霞
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北京工业大学
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2016-01-09
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2016-04-06
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G03F1/42
- 本发明涉及一种对准标记和掩膜版，其中对准标记包括基准标记单元和对准标记单元，基准标记单元包括角度基准标记单元、纵向基准标记单元和横向基准标记单元，该对准标记单元包括角度对准标记单元、纵向对准标记单元和横向对准标记单元，其中，该角度基准标记单元为十字形状，该角度对准标记单元包括4个角度对准标记元素，该4个角度对准标记元素分别与角度基准标记的4个直角接近配合，用以在旋转角度参量上精确对准。本发明适用于微电子流程中任意图形的套刻工艺中，可以将套刻的掩膜版与待加工的样品精确对准，具有广泛的实用意义。
- 对准标记掩膜版
- [发明专利]对准衬底的方法-CN201010259592.0有效
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吴昇勋;卢成和;朴岘克;安致弘
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AP系统股份有限公司
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2010-08-19
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2011-03-30
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H01L21/68
- 提供一种衬底对准方法。所述方法包含将衬底安置在衬底对准设备上；确定是否识别出衬底的对准标记；以及在识别出所有对准标记的位置的条件下，基于识别出的对准来对准衬底，在未识别出一半以上的对准标记的位置的条件下，产生对准出错信号，或在识别出至少一半的对准标记的位置的条件下，基于识别出的对准标记的位置来确定未识别出的对准标记的位置，且使用未识别出的对准标记的经确定的位置和识别出的对准标记的位置来对准衬底。通过预测未识别出的对准标记的位置，即使未识别出对准标记中的一些，仍可迅速地确认对所述对准标记的识别，且可有效地对准衬底。
- 对准衬底方法
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