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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]利用真空层压的粘结系统-CN202010058649.4有效
发明人：李锡政;徐城泽;韩宰贤 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2016-10-10 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种利用真空层压的粘结系统，其为硅贯通电极工艺用粘结系统其特征在于，包括：传送模块，其内部设有第一机械臂；设备前端模块，其设置在所述传送模块一侧，通过设备前端模块机械臂对载体晶片及器件晶片进行移送；真空层压模块，其设置在所述传送模块的另一侧，载体晶片通过所述第一机械臂被移送后，在真空状态下对粘合膜和载体晶片进行层压；以及粘结模块，其设置在所述传送模块的又一侧，器件晶片及与粘合膜层压的载体晶片通过所述第一机械臂被移送后，对所述器件晶片和载体晶片进行粘结。
利用真空层压粘结系统

[发明专利]热处理设备和热处理方法-CN201710615057.6有效
发明人：沈亨基;金泰俊;崔东奎;张民奎 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本发明提供一种热处理设备以及热处理方法，热处理设备用于通过用光照射衬底来热处理衬底。热处理设备包含：台，衬底安放于台上；以及气体喷射模块，其被安置为面对台，且具备经配置以在台安置的方向上导引光的气室以及安置于气室的一个侧面中以将气体供应到气室的第一气体供应源。第一气体供应源包含通路部件，通路部件安装于气体移动到气室所沿着的路径上且经配置以过滤和扩散气体以将气体供应到气室。制程期间由于惰性气体在通过通路部件的同时被过滤，因此朝向衬底喷射不具有不纯粒子的惰性气体，且因此可以防止衬底或薄膜由于惰性气体而带来的污染。
热处理设备方法

[发明专利]紧急停止装置及方法-CN201810151199.6有效
发明人：金光寿;崔钟权;尹贤植;白珠赫 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G05B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种紧急停止装置及一种以拉动或推按金属丝的方式使设备在工作空间内的期望位置处快速停止的紧急停止方法，所述紧急停止装置包括：开关单元，装设在工作空间中，电连接到设备，且能够通过拉动进行操作；以及所述金属丝，设置在所述工作空间中以施加拉力，且所述金属丝的至少一个侧以能够拆卸方式安装在所述开关单元上。
紧急停止装置方法

[发明专利]线性运动设备和其清洁方法-CN202211724626.8在审
发明人：高康国;刘正必;安成洙 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： F16C29/04 文献下载
摘要：本公开涉及能够收集由线性轨和可移动块之间的摩擦产生的微粒的线性运动设备以及清洁所述线性运动设备的方法。所述线性运动设备包含：线性轨，其沿第一方向延伸；可移动块，其至少一部分与所述线性轨接触以沿着所述线性轨移动；以及集尘单元，其连接到所述可移动块以与所述可移动块一起移动并且围绕所述线性轨安置以收集由所述线性轨和所述可移动块之间的摩擦产生的微粒。
线性运动设备清洁方法

[发明专利]用于形成薄膜的设备和方法-CN202180069915.6在审
发明人：郑弼盛;池尙炫;金昌敎;金东植 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于形成薄膜的设备和方法，设备包括：腔室，被配置成在其中界定衬底处理空间；衬底支撑部件，连接到腔室以便支撑腔室内部的衬底；热源部件，连接到腔室以面向衬底支撑部件；以及等离子体产生部件，在至少两个点处连接到腔室以便在衬底支撑部件与热源部件之间供应自由基。本发明可改进形成于衬底上的薄膜的均匀性。
用于形成薄膜设备方法

[发明专利]衬底处理设备及衬底处理方法-CN201710614990.1有效
发明人：沈亨基;金镐岩;白种化;金戊一 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：根据示范性实施例的一种衬底处理设备包含：底座，衬底坐落于其上；载台，其被配置以支撑底座；处理腔室，其设置于载台上以在其中容纳底座；以及衬底移动单元，其设置于处理腔室外侧以支撑载台的下部部分且水平移动载台。因此，根据示范性实施例，在衬底热处理工艺期间，由于操作用于移动衬底的单元所产生的杂质粒子可不被引入到处理腔室内，因此可防止衬底被杂质粒子污染。
衬底处理设备方法

[发明专利]激光剥离工序间对象物反转检测方法-CN201710081073.1有效
发明人：沈亨基;金钟明;崔东奎;高珍衡 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-02-15 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及激光剥离工序间对象物反转检测方法，本发明提供激光剥离工序间对象物反转检测方法，用于检测由基板和形成于基板上侧的材料层构成的激光剥离对象物的反转，其特征在于，包括：在工作台上装载激光剥离对象物的步骤；使位移传感器位于上述激光剥离对象物的非活性区域的步骤；通过上述位移传感器测定上述基板与材料层之间的高度差的步骤；以及根据所测定的上述高度差，检测上述激光剥离对象物是否发生反转的步骤。
激光剥离工序对象反转检测方法

[发明专利]喷墨头清洁装置-CN202211418155.8在审
发明人：金镐岩;金正勋;沈俊烨;金订镐 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-11-14 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B41J2/165 文献下载
摘要：提供一种用于对附着到喷墨头的喷射表面的污染物进行清洁的喷墨头清洁装置。所述喷墨头清洁装置包括：气体喷涂单元，包括具有用于喷涂气体的喷涂孔洞的喷嘴部分且朝向喷墨头的喷射表面喷涂所述气体；以及污染物抽吸单元，包括具有抽吸孔洞的抽吸流动路径，所述抽吸孔洞用于对通过所述气体从喷墨头的喷射表面分离的污染物进行抽吸，且所述污染物抽吸单元抽吸并移除分离的污染物。喷嘴部分相对于喷墨头的喷射表面倾斜，且喷嘴部分的流入孔洞与喷涂孔洞具有彼此不同的大小。
喷墨清洁装置

[发明专利]准分子激光退火工序用脱氧装置-CN201710080416.2有效
发明人：沈亨基;李基雄;严泰骏;林基锡 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-02-15 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明为准分子激光退火工序用脱氧装置，上述准分子激光退火工序用脱氧装置包括；壳体；脱氧模块，与上述壳体的一侧相结合，用于向基板上部侧供给非活性气体，恒定地维持上述基板上部侧的氧浓度，上述脱氧模块包括：盖板，形成有非活性气体注入口；第一板，以面接触的方式与上述盖板相结合；第二板，形成有非活性气体的扩散路径；多个螺杆，在上述螺杆的外周面设有螺杆管道；第一空间部，用于混合上述非活性气体；以及第三板，用于向上述基板上部侧供给上述非活性气体。
准分子激光退火工序脱氧装置

[发明专利]沉积设备和用于清洗沉积设备的方法-CN202210932235.9在审
发明人：李宰承;郑泰薰 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积设备和一种用于清洗沉积设备的方法，沉积设备能够清洗沉积在线性沉积源上的沉积副产物。沉积设备包含：衬底支撑件，衬底支撑于其上；线性沉积源，分别将源气体和反应气体喷射到衬底上；源气体供应单元，配置成将源气体供应到线性源气体喷嘴单元；反应气体供应单元，配置成将反应气体供应到线性反应气体喷嘴单元；清洗气体供应单元，配置成供应清洗气体以对至少一个喷嘴单元执行原位清洗；以及驱动单元，配置成移动衬底支撑件或线性沉积源。
沉积设备用于清洗方法

[发明专利]分配头单元、分配器以及用于分配的方法-CN202210911923.7在审
发明人：崔昇宰;金正斗;刘正必;安成洙 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B05B3/18 文献下载
摘要：本发明提供一种通过包含线性地移动的可移动喷嘴的多个喷嘴来减少轻触时间且校正施加位置的分配头单元、分配器以及用于分配的方法。分配头单元包含：头部主体；头部移动部分，配置成移动头部主体；多个喷嘴，设置成与头部主体的一个侧表面间隔开且配置成将分配液排出到衬底；以及喷嘴连接部分，配置成将头部主体的一个侧表面连接到多个喷嘴。多个喷嘴包含在第一方向上线性地移动的可移动喷嘴。
分配单元分配器以及用于方法

[发明专利]激光处理装置-CN201710614819.0有效
发明人：沈亨基;金锺明;严泰骏;朴宰显 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/268 文献下载
摘要：本发明提供一种激光处理装置，其包含：腔室，在腔室中形成用于实现衬底处理的空间；窗口模块，其安装在腔室的一侧上以便将多个窗口选择性地定位在激光束辐照路径上；台模块，其安装在腔室内部以便将多个台选择性地定位在激光束辐照路径上；激光模块，其定位在腔室外部；以及光学件模块，其连接到激光模块且朝向腔室中的所述一侧延伸，其中可在一个腔室内部使用同一激光模块及光学件模块而稳定地执行用于处理衬底的彼此不同的工艺。
激光处理装置

[发明专利]分配方法及分配器-CN202210519803.2在审
发明人：崔汀亨;金性秀;朴俊星;黄仁九;李世熙;咸泳德;朴基建 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-05-13 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B05B13/04 文献下载
摘要：提供一种分配方法及一种分配器，所述分配方法及分配器能够通过以下工艺以均匀的厚度及宽度进行施加：在所述工艺中，喷嘴在沿着其中已使用由间隙传感器获取的衬底的平整度信息来对每一位置的高度进行校正的喷嘴行进路径移动的同时喷射分配器液体。所述分配方法可包括：在间隙传感器沿着预设的喷嘴行进路径移动的同时获取衬底的平整度信息；使用衬底的平整度信息来对喷嘴行进路径上的每一位置的高度进行校正；以及在喷嘴沿着其中每一位置的高度已被校正的喷嘴行进路径移动的同时喷射分配器液体。
分配方法分配器

[发明专利]衬底处理设备-CN202210363678.0在审
发明人：崔东奎;金大裕;林旻俊;李贤珍;严泰骏 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-04-08 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理设备，所述衬底处理设备包括：腔室，被配置成在所述腔室中容置衬底；光源，被配置成向衬底照射光；截止器，设置在所照射的光的路径中，以阻挡所照射的光的至少一部分；捕集器，被配置成使从衬底反射的光或从截止器反射的光进入捕集器中且消除所反射的光；以及镜阻挡件，设置在所照射的光的路径与捕集器之间，以使从衬底及截止器中的至少一者反射的光进入捕集器中。
衬底处理设备

[发明专利]用于处理衬底的设备和方法-CN202210371402.7在审
发明人：刘正必;安成洙;崔锺权;白种化 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备包含：腔室；装载平台，安置在腔室内部以在所述装载平台上侧处限定装载和卸载衬底的装载空间；处理平台，安置在腔室内部以限定处理所述处理平台上的衬底的处理空间；传送部分，安装成将衬底从装载空间传送到处理空间；以及光照射部分，安置在处理空间中以将光照射到衬底上，从而抑制或防止在固化衬底上的附接材料时出现衬底缺陷。
用于处理衬底设备方法

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