专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果654562个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种的硅陶瓷前驱体聚合物、制备方法及其应用-CN201810384994.X有效
  • 齐会民;王帆;朱亚平;郭康康;彭翔 - 华东理工大学
  • 2018-04-26 - 2021-06-25 - C08G79/08
  • 本发明公开了一种的硅陶瓷前驱体聚合物、制备方法及其应用。本发明所述的的硅陶瓷前驱体聚合物的结构特征是在聚合物分子链中含有环和硅结构。该陶瓷前驱体聚合物的制备方法是以氯化铵、有机伯胺、三卤化、二氯硅烷和氨气为主要原料,在隋性气体保护下分三步反应合成硅陶瓷前驱体聚合物。首先氯化铵或有机伯胺与三卤化反应合成三氯环,然后将三氯环与烃基溴化镁格氏试剂反应得到烃基取代的氯代环,再与二氯硅烷共氨解合成硅陶瓷前驱体聚合物。本发明的的硅陶瓷前驱体聚合物为无色或浅黄色粘稠状液体,可溶于常用溶剂,工艺性能优良。前驱体聚合物固化物可热解转化陶瓷,陶瓷产率高,可用于制备硅陶瓷基复合材料。
  • 一种含环硼氮烷硅硼氮烷陶瓷前驱聚合物制备方法及其应用
  • [发明专利]一种薄膜的制备方法-CN202110276691.8在审
  • 吕燕飞;蔡庆锋;彭雪;赵士超 - 杭州电子科技大学
  • 2021-03-15 - 2021-07-23 - C23C16/36
  • 本发明公开了一种薄膜的制备方法,本发明采用氨作为源,甲烷作为碳源,氢气和氩气混合气体为载气,铜或镍金属薄膜作为生长基底,通过CVD法在基底表面生长单分子层厚BCN薄膜,甲烷与氨蒸气的流量比调控膜中碳含量本发明使用的源,碳源甲烷相对于其他类气体,碳量低,是制备石墨烯的首选碳起源,源氨常用于制备h‑BN单分子层的源。生长基底铜、镍是生长石墨烯、h‑BN单分子层常用基底。
  • 一种硼碳氮薄膜制备方法
  • [发明专利]基复合材料及其制备方法-CN201110417954.9无效
  • 李亚利;孟凡星 - 天津大学
  • 2011-12-14 - 2012-07-11 - C04B35/515
  • 本发明涉及一种硅基复合材料及制备方法。本发明是以聚和钨、钛、、氮化钛等单质或化合物粉为原料,混合后加热,形成硅基复合材料。典型制备步骤为:将单质或化合物粉加入聚液,50~500℃下加热得聚与单质或化合物粉的混合物;或将聚与单质或化合物粉混合,600~2000℃惰性或活性气氛下加热该混合物制备。本发明技术可将各种单质或化合物与硅复合,大范围调控引入单质或化合物的含量,制备多种组分的硅基复合材料。本发明技术制备的硅基复合材料具有耐高温、抗氧化、抗高温蠕变等优异性能,可应用于航空航天和高温系统等领域。
  • 硅硼碳氮基复合材料及其制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top